ICS29045

H80.

中華人民共和國有色金屬行業(yè)標準

YS/T986—2014

晶片正面系列字母數(shù)字標志規(guī)范

Specificationforserialalphanumericmarkingofthefrontsurfaceofwafers

2014-10-14發(fā)布2015-04-01實施

中華人民共和國工業(yè)和信息化部發(fā)布

YS/T986—2014

前言

本標準按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標準使用翻譯法等同采用晶片正面系列字母數(shù)字標志規(guī)范

SEMIM12-0706《》。

本標準由全國有色金屬標準化技術(shù)委員會歸口

(SAC/TC243)。

本標準起草單位有研半導體材料股份有限公司杭州海納半導體有限公司萬向硅峰電子股份有

:、、

限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司

、。

本標準主要起草人張靜邊永智孫燕魯進軍樓春蘭王飛堯何良恩張海英

:、、、、、、、。

Ⅰ

YS/T986—2014

晶片正面系列字母數(shù)字標志規(guī)范

1目的

11本標準規(guī)定了硅片或其他半導體晶片上一串連續(xù)的包括字母和數(shù)字的標記該編號標記及關(guān)聯(lián)

.。

信息被儲存入數(shù)據(jù)庫對每個硅片起到了在硅片和器件制造期間追溯和控制的目的

,。

12本標準定義了晶片標記的基本編碼規(guī)定無需處理晶片利用簡單的自動光學字符識別設(shè)備就可

.。,

以對該標記進行獨立和快速人工識別確保了硅片制造商對晶片標記的一致性有利于監(jiān)控晶片工藝的

,,

變化

。

13本標準適用于廣泛的晶片產(chǎn)品如外延片片拋光片等

.,、SOI、。

2范圍

本標準定義了標記包括字母數(shù)字的幾何尺寸和空間位置尤其適用于帶參考面和帶缺口的硅拋

,

光片

。

本標準不涉及制作標記的技術(shù)

。

3規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

硅片字母數(shù)字標志規(guī)范

SEMIM13(Specificationforalphanumericmarkingofsiliconwafers)

供方標志代碼表

SEMIAUX001(Listofwaferssupplieridentificationcodes)

光學字符識別字符集概要

SEMIAUX015(OCR)(SEMIOCRcharacteroutlines)

4術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本文件

。

41

.

相鄰字符未對準度adjacentcharactermisalignment

R

adj

同一行兩個相鄰字符的字符基線之間的垂直距離

。

42

.

字符間隔characterseparation

任意兩個字符的相鄰邊界之間的水平距離

。

43

.

字符間距characterspacing

任意兩個相鄰字符的字符中心線之間的水平距離

。

44

.

字符窗口