感光鼓的結(jié)構(gòu)原理感光鼓的結(jié)構(gòu)分成涂布與基材,基材是由金屬構(gòu)成的,現(xiàn)在都是用鋁來當(dāng)基材基材部分接地以引導(dǎo)電子能迅速消散掉,涂布層則可概略分成。保護(hù)層電性層防反射層靜電荷防反射層保護(hù)層?保護(hù)層電性層防反射層靜電荷防反射層保護(hù)層?雹性曆基材侈呂)保護(hù)層感光鼓的表面必須與碳粉，布電滾輪(PCR),顯像滾輪(Developroller),刮刀作直接接觸,尤其一支感光鼓壽命要求至少都在列印一萬(wàn)兩千張的5%覆蓋率稿件,因此耐磨耗必須是保護(hù)層的第一項(xiàng)特性。而感光鼓在經(jīng)過布電後又必須將電荷保持到能夠列印,雖然在未曝光時(shí)元件是絕緣的,但是實(shí)際上表面的電荷還是會(huì)流失的,這是因?yàn)樵诒砻嫔系臒釙?huì)使的電荷的動(dòng)能增加讓移動(dòng)變的容易,增加了電子逸散的機(jī)率如果這種電荷的衰減過大的話,會(huì)使的曝光影像與未曝光區(qū)的對(duì)比變的模糊壓降差不明顯而產(chǎn)生列印背景也會(huì)影響到解析度與成像的保留,所以設(shè)計(jì)時(shí)需要考慮到這層關(guān)系。在制程上與其他涂布層相同,不可以有雜質(zhì),及膜厚不均的現(xiàn)象,目前國(guó)內(nèi)制程上是以浸泡(dipping)的方式涂布,膜厚控制在數(shù)“m間。電性層電性層是整個(gè)感光鼓的心臟,它在平常必須是絕緣體而在曝光時(shí)又必須是導(dǎo)體,并且在曝光時(shí)能夠產(chǎn)生光電效應(yīng),導(dǎo)電性必須夠好,能讓電子即時(shí)傳導(dǎo),在設(shè)計(jì)上電性層可初步分成：電子傳導(dǎo)層(chargetranferlayerCTL)參見:感光鼓-電子傳導(dǎo)層(CTL)電子傳導(dǎo)層負(fù)責(zé)電荷的傳遞,材料對(duì)電性傳導(dǎo)的特性必須控制在一定的范圍內(nèi),導(dǎo)通性不良的結(jié)果是電子無法在一定的時(shí)間傳遞到所需要的區(qū)域會(huì)造成列印不良,另一方面也因此增加電容,讓成像不容易消除,這也就是曝光衰減過長(zhǎng)。同樣的電子如果傳導(dǎo)過快,也容易造成影像無法保持到列印所需,對(duì)列印同樣不良,這也會(huì)造成曝光衰減過快。當(dāng)然,除了材料外涂布層厚度的設(shè)計(jì)值也很重要,所以CTL的設(shè)計(jì)必須將材料的導(dǎo)電性與所需的涂布厚度一并權(quán)衡考慮。

時(shí)間電子產(chǎn)生層(chargegeneratelayerCGL)參見:感光鼓-電子產(chǎn)生層(CGL)電子產(chǎn)生層的主要功能就是將光能轉(zhuǎn)換成電能,利用光電效應(yīng)產(chǎn)生電子,設(shè)計(jì)上需考慮到曝光所用到的雷射光波長(zhǎng),因?yàn)椴ㄩL(zhǎng)對(duì)所產(chǎn)生的電子能量有關(guān)(這點(diǎn)我們會(huì)在光電效應(yīng)中談到),因此為了產(chǎn)生正確的能量我們?cè)诹杏≈兴褂玫睦咨涔獠ㄩL(zhǎng)是固定的,每一種不同機(jī)型的雷射光波長(zhǎng)不一定一樣但是相同機(jī)型的雷射光波長(zhǎng)是相同固定的.電子一但產(chǎn)生後,必須與CTL及底下的基材有所反應(yīng),其步驟如下:雷射光照射,CGL產(chǎn)生負(fù)電子與正電離子0負(fù)電子?正電離子0負(fù)電子?正電離子波長(zhǎng)約雷射光基材?負(fù)電子?正電離子CGL電子迅速由基材接地導(dǎo)通CGL的正電離子，與保護(hù)層(PL)上方的負(fù)電荷產(chǎn)生電場(chǎng)，此電場(chǎng)與最接近的電荷產(chǎn)生最大的電動(dòng)勢(shì)，於是便將此電子透過CTL的傳導(dǎo)，電子進(jìn)入涂布層與CGL正電離子中和.

基材?負(fù)電子?正電離子電動(dòng)勢(shì)CTL-^k基材?負(fù)電子?正電離子電動(dòng)勢(shì)CTL-^kCGL^^影像區(qū)形成低電壓帶基材CGL^^0負(fù)電子600V100V基材CGL^^0負(fù)電子600V100V

防反射層防反射層顧名思義就是防止雷射光反射,因?yàn)榉瓷鋾?huì)造成解析度的破壞,如下圖所示：如何達(dá)到雷射光的不再反射?在目前國(guó)內(nèi)有兩種做法,第一個(gè)就是直接在感光滾筒基材上作陽(yáng)極處理,讓陽(yáng)極處理後的基材表層粗造度Ra值等於雷射光的波長(zhǎng),藉由光學(xué)干涉的原理將反射光消除.第二個(gè)做法是在電性層與基材間涂布上一層可以吸收雷射光的物質(zhì),不管這些做法如何唯一的目的就是不讓雷射光再反射。另外一個(gè)特性是必須有足夠的電阻不讓電子輕易的流失掉,因?yàn)榛氖墙拥氐?如果沒有適當(dāng)?shù)碾娮?感光鼓的靜電荷,很快就會(huì)消失,如此一來就無法顯像,但是CGL的電子又必須能適當(dāng)?shù)谋粚?dǎo)通,因此這一層再設(shè)計(jì)上必須注意這一點(diǎn)光電效應(yīng)電子在金屬內(nèi)部可以很自由的游動(dòng)，但是卻無法自由的跑出金屬外部，猶如被限制在圍墻內(nèi)的自由彈跳的球，由於能量不夠大跳不過高高的圍墻。但是若拿個(gè)物品狠狠『K』它一下，便有機(jī)會(huì)讓電子（球）跳出金屬（圍墻）夕卜。

軸鼾儁鮒軸鼾儁鮒於是有人想用光去照射金屬表面，觀看金屬內(nèi)電子被照射後的行為。但是發(fā)現(xiàn)在高頻的光線照射下電子比較容易被擊出金屬表面,可是當(dāng)光的頻率低於某特定值時(shí)，卻是怎麼照照多久電子卻都是跑不出來，可是只要是頻率夠高即使很微弱的光照射也會(huì)有電子跑出來。（不同金屬有不同的臨界頻率，對(duì)應(yīng)於使電子逃脫金屬表面的最低能量）而且當(dāng)光照射到金屬表面時(shí)，便有電子馬上跳出來，不需時(shí)間的延遲。而且以頻率越高的光照射，跳出來電子的動(dòng)能也越大，且動(dòng)能和頻率