鍍膜員工考試題及答案

一、單項選擇題（每題2分，共20分）1.鍍膜過程中，基片表面清潔度對鍍膜質(zhì)量（）A.有輕微影響B(tài).有重要影響C.無影響答案：B2.常用的物理氣相沉積鍍膜方法不包括（）A.蒸發(fā)鍍膜B.化學(xué)鍍膜C.濺射鍍膜答案：B3.鍍膜室內(nèi)的真空度一般要求（）A.越高越好B.越低越好C.無所謂答案：A4.鍍膜設(shè)備中，用來控制膜厚的儀器是（）A.流量計B.膜厚儀C.溫度計答案：B5.以下哪種氣體常作為濺射鍍膜的工作氣體（）A.氧氣B.氮氣C.氬氣答案：C6.鍍膜前基片通常要進行預(yù)處理，目的是（）A.增加表面粗糙度B.去除雜質(zhì)和油污C.改變基片顏色答案：B7.蒸發(fā)鍍膜時，加熱源溫度升高，膜料蒸發(fā)速率（）A.降低B.不變C.升高答案：C8.濺射鍍膜的優(yōu)點不包括（）A.膜層附著力強B.可鍍材料范圍廣C.設(shè)備簡單答案：C9.鍍膜過程中，膜層出現(xiàn)針孔缺陷的可能原因是（）A.基片溫度過高B.真空度不夠C.鍍膜時間過長答案：B10.對于光學(xué)鍍膜，主要關(guān)注的膜層性能是（）A.硬度B.光學(xué)性能C.耐腐蝕性答案：B二、多項選擇題（每題2分，共20分）1.鍍膜的主要目的包括（）A.提高耐磨性B.改善光學(xué)性能C.增強耐腐蝕性答案：ABC2.物理氣相沉積鍍膜的特點有（）A.鍍膜層純度高B.膜層與基體結(jié)合力好C.對環(huán)境無污染答案：AB3.鍍膜過程中影響膜層質(zhì)量的因素有（）A.基片材料B.鍍膜工藝參數(shù)C.鍍膜設(shè)備狀態(tài)答案：ABC4.常用的鍍膜設(shè)備包括（）A.真空鍍膜機B.清洗設(shè)備C.檢測儀器答案：ABC5.濺射鍍膜按濺射方式可分為（）A.直流濺射B.射頻濺射C.磁控濺射答案：ABC6.鍍膜過程中，可能出現(xiàn)的膜層缺陷有（）A.膜厚不均勻B.膜層脫落C.膜層有雜質(zhì)答案：ABC7.蒸發(fā)鍍膜中常用的加熱方式有（）A.電阻加熱B.電子束加熱C.激光加熱答案：ABC8.鍍膜前基片預(yù)處理的方法有（）A.機械拋光B.化學(xué)清洗C.等離子體清洗答案：ABC9.光學(xué)鍍膜的種類包括（）A.增透膜B.反射膜C.濾光膜答案：ABC10.鍍膜車間的安全注意事項包括（）A.防止真空系統(tǒng)故障B.注意高溫加熱源C.正確使用氣體鋼瓶答案：ABC三、判斷題（每題2分，共20分）1.鍍膜過程中，真空度越高，膜層質(zhì)量一定越好。（）答案：×2.化學(xué)鍍膜和物理氣相沉積鍍膜原理相同。（）答案：×3.基片表面有少量油污對鍍膜質(zhì)量影響不大。（）答案：×4.蒸發(fā)鍍膜只能鍍金屬膜。（）答案：×5.濺射鍍膜的沉積速率比蒸發(fā)鍍膜快。（）答案：×6.膜厚儀可以實時精確測量鍍膜厚度。（）答案：√7.鍍膜設(shè)備長時間使用不需要維護。（）答案：×8.光學(xué)鍍膜主要是為了改變基片的顏色。（）答案：×9.鍍膜過程中，氣體流量對膜層質(zhì)量沒有影響。（）答案：×10.不同的鍍膜工藝對環(huán)境溫度和濕度要求不同。（）答案：√四、簡答題（每題5分，共20分）1.簡述鍍膜前基片預(yù)處理的重要性。答案：可去除基片表面雜質(zhì)、油污等污染物，改善表面狀態(tài)，提高表面活性，增強膜層與基片的附著力，保證鍍膜質(zhì)量，減少膜層缺陷。2.列舉兩種提高鍍膜層附著力的方法。答案：一是對基片進行預(yù)處理，如打磨、清洗、活化等；二是優(yōu)化鍍膜工藝參數(shù)，如調(diào)整基片溫度、鍍膜速率、氣體氛圍等。3.簡述蒸發(fā)鍍膜的基本原理。答案：通過加熱使膜料蒸發(fā)，膜料原子或分子從固態(tài)變?yōu)闅鈶B(tài)，在真空中飛向基片表面，并在基片上沉積、凝聚形成薄膜。4.說明鍍膜過程中控制膜厚的意義。答案：不同應(yīng)用對膜厚有嚴(yán)格要求。準(zhǔn)確控制膜厚可保證膜層性能穩(wěn)定，如光學(xué)鍍膜需精確膜厚實現(xiàn)特定光學(xué)功能，保證產(chǎn)品質(zhì)量和一致性。五、討論題（每題5分，共20分）1.討論在鍍膜生產(chǎn)中，如何提高生產(chǎn)效率同時保證膜層質(zhì)量。答案：優(yōu)化鍍膜工藝參數(shù)，減少調(diào)試時間；合理安排設(shè)備運行，提高設(shè)備利用率；加強員工培訓(xùn)，規(guī)范操作流程；做好設(shè)備維護，保證設(shè)備穩(wěn)定運行，從而兼顧效率與質(zhì)量。2.談?wù)勫兡ぜ夹g(shù)未來可能的發(fā)展方向。答案：朝著更精確的膜厚控制、更復(fù)雜膜系設(shè)計發(fā)展；開發(fā)新型鍍膜材料和工藝，提高膜層綜合性能；與其他技術(shù)融合，如納米技術(shù)，拓展應(yīng)用領(lǐng)域。3.當(dāng)鍍膜過程中出現(xiàn)膜層不均勻問題，應(yīng)該從哪些方面查找原因并解決？答案：從設(shè)備方面，檢查蒸發(fā)源或濺射源的均勻性；工藝參數(shù)上，查看鍍膜速率、氣體分布等是否合理；基片因素，檢查表面平整度、預(yù)處理情況等，針對問題調(diào)