光學行業(yè)光學鏡頭鍍膜工程師崗位招聘考試試卷及答案考試時間：90分鐘總分：100分一、填空題（共10題，每題1分，共10分）1.光學薄膜的主要功能包括增透、______、分光和濾光。2.常用的高折射率鍍膜材料有______（舉一種）。3.真空鍍膜中，常用的真空度單位是______。4.增透膜的作用是減少光的______，提高透光率。5.膜層厚度監(jiān)控方法中，______法基于光的干涉原理。6.光學薄膜的附著力測試常用______法。7.當薄膜的光學厚度為______波長的1/4時，可實現(xiàn)特定的干涉效果。8.真空蒸發(fā)鍍膜中，常用的蒸發(fā)源類型有電阻加熱和______。9.薄膜的______是指膜層對基底材料的結(jié)合強度。10.常用的低折射率鍍膜材料是______。二、單項選擇題（共10題，每題2分，共20分）1.下列哪種現(xiàn)象是光學薄膜實現(xiàn)功能的核心原理？（）A.光的衍射B.光的干涉C.光的散射D.光的吸收2.真空鍍膜前，基底需要進行預處理，其主要目的是（）A.提高基底溫度B.去除表面污染物C.增加基底硬度D.改變基底折射率3.下列哪種材料通常用于制備紅外增透膜？（）A.MgF?B.SiO?C.TiO?D.Al?O?4.膜層出現(xiàn)“針孔”缺陷的主要原因可能是（）A.真空度過高B.蒸發(fā)速率過快C.基底表面不潔凈D.膜層厚度過薄5.分光膜的主要作用是（）A.將光分解為不同波長B.增強特定波長的反射C.減少光的反射D.過濾雜散光6.下列哪種鍍膜方法屬于物理氣相沉積（PVD）？（）A.化學氣相沉積B.溶膠-凝膠法C.磁控濺射D.電鍍7.增透膜的理想效果是使反射率趨近于（）A.0%B.50%C.100%D.不確定8.影響薄膜均勻性的關(guān)鍵因素是（）A.基底材料B.蒸發(fā)源與基底的距離C.膜層材料D.環(huán)境濕度9.光學薄膜的“應力”過大會導致（）A.膜層脫落B.透光率下降C.折射率變化D.顏色偏移10.監(jiān)控薄膜厚度時，石英晶體振蕩法的原理是基于（）A.頻率變化B.電阻變化C.溫度變化D.光強變化三、多項選擇題（共10題，每題2分，共20分）1.光學薄膜的主要光學特性參數(shù)包括（）A.折射率B.厚度C.硬度D.反射率2.影響膜層附著力的因素有（）A.基底表面粗糙度B.鍍膜溫度C.真空度D.材料匹配性3.常用的光學薄膜制備技術(shù)包括（）A.真空蒸發(fā)B.磁控濺射C.離子鍍D.噴涂法4.薄膜的常見缺陷包括（）A.針孔B.劃傷C.色差D.開裂5.膜系設(shè)計需考慮的因素有（）A.目標波長范圍B.基底折射率C.環(huán)境穩(wěn)定性D.生產(chǎn)成本6.真空系統(tǒng)中，維持高真空的主要部件有（）A.機械泵B.擴散泵C.羅茨泵D.離子泵7.光學薄膜的環(huán)境穩(wěn)定性測試包括（）A.高低溫循環(huán)測試B.鹽霧測試C.摩擦測試D.透光率測試8.增透膜的膜系結(jié)構(gòu)可能為（）A.單層膜B.多層膜C.梯度折射率膜D.金屬膜9.濺射鍍膜與蒸發(fā)鍍膜相比，優(yōu)勢在于（）A.膜層附著力更強B.沉積速率更快C.適用于高熔點材料D.設(shè)備成本更低10.薄膜光學性能測試的常用儀器有（）A.分光光度計B.干涉儀C.原子力顯微鏡D.橢偏儀四、判斷題（共10題，每題2分，共20分）1.光學薄膜的厚度越大，增透效果越好。（）2.磁控濺射鍍膜中，離子轟擊可以提高膜層密度。（）3.所有光學鏡頭都需要鍍增透膜。（）4.真空度越高，鍍膜過程中膜層污染風險越低。（）5.金屬薄膜通常用于制備高反膜。（）6.膜層的光學厚度等于物理厚度與折射率的乘積。（）7.溶膠-凝膠法屬于物理鍍膜方法。（）8.針孔缺陷會導致薄膜透光率下降。（）9.多層膜的膜系層數(shù)越多，光學性能越優(yōu)異。（）10.鍍膜過程中，基底溫度過高可能導致膜層開裂。（）五、簡答題（共4題，每題5分，共20分）1.簡述光學薄膜中“增透膜”的工作原理。2.列出真空蒸發(fā)鍍膜的三個關(guān)鍵工藝參數(shù)。3.說明影響薄膜厚度均勻性的兩個主要因素。4.簡述鍍膜后膜層“附著力差”的可能原因。六、討論題（共2題，每題5分，共10分）1.結(jié)合工藝實際，分析如何減少光學薄膜的“針孔”缺陷。2.討論光學薄膜在高溫高濕環(huán)境下性能退化的可能原因及改善措施。答案及解析一、填空題1.高反2.TiO?（或ZrO?、Ta?O?等）3.Pa（帕斯卡）4.反射5.光學監(jiān)控（或干涉監(jiān)控）6.劃格（或膠帶）7.目標光8.電子束加熱9.附著力10.SiO?（或MgF?）二、單項選擇題1.B2.B3.A4.C5.A6.C7.A8.B9.A10.A三、多項選擇題1.ABD2.ABD3.ABC4.ABD5.ABCD6.BD7.ABC8.ABC9.AC10.ABD四、判斷題1.×2.√3.×4.√5.√6.√7.×8.√9.×10.√五、簡答題1.增透膜原理：利用光的薄膜干涉，當膜層光學厚度為目標光波長的1/4時，膜上表面和下表面反射的光發(fā)生相消干涉，從而減少反射，提高透光率。2.真空蒸發(fā)關(guān)鍵參數(shù)：真空度、蒸發(fā)速率、基底溫度。3.厚度均勻性影響因素：蒸發(fā)源與基底的相對位置、基底的旋轉(zhuǎn)速度。4.附著力差原因：基底表面未清潔干凈、鍍膜溫度過低、材料間熱膨脹系數(shù)不匹配。六、討論題1.減少針孔缺陷措施：-預處理：嚴格清潔基底（如超聲清洗、等離子清洗），去除油污和雜質(zhì)；-工藝控制：優(yōu)化蒸發(fā)速率（避免過快導致液滴飛濺），提高真空度（減少殘留氣體雜質(zhì)）；-設(shè)備維護：定期清理蒸發(fā)源和真空室，避免污染物掉落。2.高溫高濕環(huán)境性能退化原因及改善：-原