阻抗設(shè)計(jì)

如果我們制作的資料有阻抗的話，我們要新建阻抗條的STEP單元,

如有多個(gè)阻抗條，我們

依次命名為,ic、icl、ic2…等等,如下圖所示:

<M1>toselectelements;<F2>tounselectelements

close

然后我們一個(gè)個(gè)阻抗條的去編輯，打開(kāi)一個(gè)阻抗編輯窗口,先建一個(gè)

阻抗條大小的PROFILE

1學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

線，一樣情形下阻抗條的尺寸為*8〃，具體見(jiàn)資料夾中

IMPEDANCECOUPONDESIGNINSTRUCTION

一頁(yè)的Planner的指示。如下圖所示：如排在折斷邊的阻抗條大小要

根據(jù)折斷邊的大小去設(shè)

定。

HFPPE-210

IMPEDANCECOUPONDESIGNINSTRUCTIONREV00

在確定阻抗條大小后,執(zhí)行菜單命令StepPanelization

Panelsize...,

2學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

執(zhí)行上圖命令打開(kāi)如下圖所示對(duì)話框窗口：

UnionsAnalysisDFMStepRoutWindows

:鼐這里輸入阻抗條的寬度，在

辰川趾：鵬"這里輸入阻抗條的高度，直接點(diǎn)擊

I按鈕即可,如下圖所示：

3學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

在上圖的回P上:;out15二這里點(diǎn)擊挑選OUTLINE

層，在1小。疝.小上畫(huà)二這里輸入建OUTLINE的寬度,

直接點(diǎn)擊1_山按鈕即可。如下圖所示：

□J^dravwglS

□]Mdravang27

□■plugdr；1127

outline

□■15.821

U^Mentek-top

□JJentekbottoi

□BMgtT

然后打開(kāi)鉆孔層，根據(jù)Planner的指示，根據(jù)阻抗示意圖在鉆孔層添

加阻抗孔和定位孔，如

下圖所示：

(20.1267.98.0

?0.0433

0.4

u陽(yáng)

------0.45

-??-S?-

0.35o

0.1

5學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

43.3mil的孔為阻抗孔，126mil的孔為阻抗條成型定位孔，添加阻

抗孔和定位孔可以通過(guò)增加物件命令去實(shí)現(xiàn)，點(diǎn)擊增加物件按鈕

圜，再挑選增加PAD按鈕卜?回，然后在

|因|swb?！乖谑?3輸入阻抗孔的大小,如43.3mil,在添加

鉆孔的時(shí)候盡量先把孔的屬性加上去，阻抗孔肯定是PTH孔，而定

位孔肯定是NPTH孔，點(diǎn)擊回="這里，然后再點(diǎn)擊

因理工二J后面的〃V3S二處，彈出如下圖所示的

對(duì)話框:

然后在上圖座三口輸入"drill"并回車(chē)，如

然后用鼠標(biāo)點(diǎn)擊上圖的即才處，顯示如下圖所示:

6學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

然后再用鼠標(biāo)雙擊底訶處，在上圖的右邊窗口會(huì)有如下圖所示顯

ZF:

然后關(guān)閉上圖的對(duì)話框，如下圖所示：現(xiàn)在加上去的鉆孔就有孔屬性

了。

7學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

AddFeaturePopup

L

?2|J叵I「畫(huà)I-巨口回I

S8Attritmtes

Positive-

N|Symbol~~11^43.3

SinqleLine

?[Z]|[11|'一；臼|EE]|匡|

Close

然后點(diǎn)擊如下圖所示位置，挑選Profile的左下角，將阻抗孔先加于

Profile線的左下角，如下圖所示:

cmask

comp

ca?p-12

13____

14

15-

16-

sold-11

sold

smask

ssilk-

drawinglS

：tpadlocation

8,#l,Pad,X=0,Y=0,r43.3,P0S

再挑選卜Pr運(yùn)of壺ileloverleft這里并雙擊后，然后點(diǎn)擊窗口下方的執(zhí)行按

鈕回,將阻抗孔加于Profile線的左下角,如下圖所示:

8學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

然后根據(jù)示意圖上的坐標(biāo)我們將上圖加的阻抗孑屏多到相應(yīng)的位置，如

坐標(biāo)為（0.25、0.25），然后挑選并移動(dòng)，在窗口左下角處挑選相對(duì)

坐標(biāo)按鈕，然后輸入我們的坐標(biāo)值并回車(chē)即可，如下圖所示：

移動(dòng)后的鉆孔如下圖所示:

然后根據(jù)示意圖上所示阻抗孔的個(gè)數(shù)，將上圖所加的孔在X方向和Y

方向上復(fù)制幾個(gè)，注意我們阻施I的測(cè)1試孔和參考孔的中心間距一定

9學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

是lOOmilz特別情形依Planner的指示，然后我們執(zhí)行陣列COPY

的菜單命令EditCopyStep&Repeat…，如下圖所示:

ActionsOptionsAnalysisDFMStepRoutWindows

<Ctrl>z

Delete<Ctrl>b

Samelayer

Res瞥OUierlayer...

Ti'ansform...<Alt>tStep&Repeat...

Connections...

Resliape

Create

Change

打開(kāi)上圖陣列復(fù)制對(duì)話窗口，如下圖所示:在即：醫(yī)輸入X

方向的阻抗孔個(gè)數(shù)，在面：笆:輸入Y方向阻抗孔的個(gè)數(shù)，在

底：即工■二同：業(yè)工二輸入x、Y方向阻抗孔的中心

距，數(shù)據(jù)填好后，直接點(diǎn)匚可按鈕即可將原先選中的一個(gè)阻抗孔

在X和Y方向按要求復(fù)制出來(lái)。

10學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

有時(shí)阻抗條兩端都有阻抗孔，按同樣方法添加，阻抗孔添加好后，用

同樣的方法添加阻抗定位孔，注意阻抗定位孔是NPTH孔。加好后,

如下圖所示：

阻抗孔加好后，我們先把外層和防焊的PAD做出來(lái)，阻抗測(cè)試孔是

PTH孑1,外層肯定要有PAD,防焊肯定要開(kāi)窗，將阻抗測(cè)試孔選中，

然后單邊加大lOmilCOPY到C面外層去，如下圖所示：

II學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

為了現(xiàn)場(chǎng)方便作業(yè)，我們將阻抗參考孔的外層PAD做成方形的，由

阻抗示意圖可以看出哪幾個(gè)孔室阻抗縫孔，先點(diǎn)選看一下這個(gè)參考

孔的外層PAD是多大的，然后再選中所有阻抗參考孔的外層PAD,

執(zhí)行菜單命令EditReshapeChangeSymbol...,打開(kāi)如下圖

所示：

在但I(xiàn)w1口鵬口"輸入S多少，然后直接點(diǎn)擊〃0K〃

按扭即可將圓形的PAD改成方形的PAD。如下圖所示：

12學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

外層PAD加好后將外層PAD選出來(lái)直接加大單邊3milC0PY到C

面防焊層去,如下圖所示：

13學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

阻抗測(cè)試孔上的外層PAD加了防焊開(kāi)窗后，阻抗定位孔也要加防焊

開(kāi)窗，因?yàn)樽杩苟ㄎ豢资?/p>

NPTH孔，我們NPTH孔的防焊開(kāi)窗廠內(nèi)規(guī)范是比鉆孔單邊大5mil,

所有我們將阻抗定位孔雙

擊選中直接加大單邊5milC0PY到防焊層去，如下圖所示：

14學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

至此，我們阻抗孔C面的外層PAD、防焊開(kāi)窗和定位孔的防焊開(kāi)窗

添加完成，因?yàn)镾面和C

面是一樣的，所有我們直接將C面的防焊和外層的內(nèi)容分層拖到S

面即可。C面和S面的PAD

都加好后，然后我們將作為參考層的所有負(fù)性的內(nèi)層作內(nèi)刮和把鉆孔

加隔離PAD,內(nèi)層的阻

抗測(cè)試層先不加，將OUTLINE層的40mil的OUTLINE直接COPY

15學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

到作為參考層的負(fù)性內(nèi)層去,

如下圖所示:

COJVt)

仁owp-12

13

15

16

sold-17

sold

ssilk

npt

|drawingI5

|drawing^

?ec

3ds

L5層為阻抗plug27

Iplug-c

測(cè)試層，2、7

3inks—

層為次外層，20.923.9

為正片形式。20,823.8

dcode

____________7Ioutline

arm

□

O

然后再加鉆孔的隔離PAD,將鉆孔層所有鉆孔以單邊加大lOmil以

正片的形式COPY到作為參考層的負(fù)性內(nèi)層去,如下圖所示:

16學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

Step:ic

JobMatrix...

csilk

onask

cowp

|co)np-12

\13

14

16

16

sold-17

sold

swask

回

回

|drawing]

回。

|drawing27

回

3ec

回

3es

L5層為阻抗回

回plug27

Iplugc

測(cè)試層，2、7回

^ixJcc

層為次外層，3inks

為正片形式。20.923.9

待負(fù)片內(nèi)層初步處理完成后，我們開(kāi)始阻抗線的制作，根據(jù)資料夾中

的阻抗設(shè)計(jì)那一頁(yè)

IMPEDANCECOUPONDESIGNINSTRUCTION

一組一組的去制作，如下圖所示：

般阻抗

原始阻抗線寬儂后阻抗線寬阻抗線補(bǔ)償值阻抗線的控制

s/?阻抗控制層陰抗參考層阻抗值(0HI)用抗值控籟圍

(■ils)(ails)(ails)范圍

1L1L35045—5515.70912.52210.5—14.5

2L5L4,65045—553.93，3.412.5—4.0

3

4

k

[6

5f

8

17學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

如上面兩幅圖紅圈內(nèi)所示：可以看出第一組阻抗用到的阻抗孔是左邊

的兩個(gè)，第二組用到的是右邊的兩個(gè)，第一組阻抗阻抗控制層是L1

層，阻抗參考層是層，原始阻抗線寬是調(diào)整后阻抗

L315.709milz

線寬是12.52mil,阻抗線補(bǔ)償值是2mil,由此我們可以看出我們阻抗

條里的阻抗線的寬度等于調(diào)整后阻抗線寬加上阻抗線補(bǔ)償值,即

12.52+2=14.52mil,用物件增加命令挑選增加線按鈕,在

回I即1嗎上心￡?騾I輸入阻抗的線寬,如下圖所示：

18學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

AddFeaturePopup

然后點(diǎn)擊阻抗測(cè)試孔抓外層PAD的中心加一條不長(zhǎng)不小于6英寸的

阻抗線即可，如下圖所示：

dl8

112

d27

178

；cmask

cmnp

更|co>ip-12

山sol嗎d-17

braving18

lravwg27

■ec

然后將阻抗線的兩邊各加一條寬20mil的護(hù)衛(wèi)線護(hù)衛(wèi)線邊到阻抗線

邊間距為20mile如下圖所示：

19學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

cojnp

cowp-12

自

|drawing京

|dravTing27

3ec

sold-17

sold

srask

吧ilk

I憎七.■

現(xiàn)在外層的這一組阻抗線就加好了，然后加另一組內(nèi)層的，方法基本

一樣，只是在做阻抗線的時(shí)候，在內(nèi)層阻抗測(cè)試孔的孔上加一個(gè)比鉆

孔單邊大lOmil的PAD,如下圖所示:

然后根據(jù)阻抗線的大小要求去加阻抗線，如下圖所示：

20學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

由上圖可以看出L5層現(xiàn)在是以正片形式存在的，因?yàn)槲覀兊膬?nèi)層最

終是要以負(fù)片形式存在

的，所有我們?cè)谧杩咕€制作好后將其轉(zhuǎn)換成負(fù)片的形式，方法如下：

新建一層空層，隨便命

名即可。如〃000〃層,打開(kāi)這一層，將整面填充成一塊Surface,

方法如下，將鼠標(biāo)移到

這一層上,單擊右鍵，挑選右鍵菜單里的Fillprofile命令，如下圖

所示：

21學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

打開(kāi)此菜單命令，彈出如下圖所示的填充對(duì)話框:

22學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

這里是向t

Profile內(nèi)或

外填充多少，

這里是向外

填充5mil0

-J

然后將需要轉(zhuǎn)成負(fù)片的內(nèi)層以負(fù)片的形式COPY到〃000〃層，如下

圖所示：

23學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

回14

15H

回16

回sold-17

回sold

wnask

回ssilk

呼t

drawinglS

draviny27

3ec

3es

□Iplug27

plug-c

3ix)kc

3ix)ks

20.923.9

20.823.8

(code

outlixie

□Iarraydrawin

paste-c

paste-s

回1rout

回rouSl_____

B1EP

回000

最后將〃000〃層里的內(nèi)容直接拖到正式的內(nèi)層層去。如下圖所示最

終以負(fù)片形式存在的內(nèi)層L5層阻抗。

JobMatrix

□

14

□

16

□

16

□

□sold-17

□sold_

□srask

ssilk

npt

這樣我們這個(gè)阻抗條的兩組阻抗線就加好了，下面我們要做參考層,

即阻抗參考孔對(duì)應(yīng)的層

24學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

要做成導(dǎo)通，第一組參考層為L(zhǎng)3層，第一組的阻抗孔為左邊兩個(gè)，

而下面一個(gè)是測(cè)試孔，

所有第一組的阻抗參考孔就是左邊兩個(gè)孑伯勺上面一個(gè)，所有它和L3

層的銅皮要是導(dǎo)通的，

因?yàn)橐婚_(kāi)始我們就將參考層的所有阻抗孔都做了一個(gè)單邊大lOmil

的隔離PAD,現(xiàn)在我們要

刪除一個(gè)，如下圖所示：

Ids78

d18

112

d27

178

csilk

：rarask

cump

comp-12

13

14

16

sold-17

sold

srrask

ssilk

npt

,draving18

.draving27

因?yàn)閮?nèi)層最終是以負(fù)片的形式存在，所有上圖中紅色為鉆孔，綠色為

內(nèi)層基材，黑色為內(nèi)層

銅皮，由此可以看出白色圈內(nèi)的孔在黑色的銅皮上，所有這個(gè)孔和這

一層的銅皮是導(dǎo)通的。

25學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

口■lds78

□■die

□■I12

□■d27

□■178

□'：M1k

□

ccrrp

corrpT2

13

14B

sold-”

oold

wnask

ssilk

npt

dravinglO

drav^ng27

3ec

第二組的阻抗孔為右邊兩個(gè)，那么右邊上面那個(gè)孔為這一組的參考

孔，參考層為L(zhǎng)4和L6兩層，那么右邊上面那個(gè)參考孔要和L4和L6

層的銅皮導(dǎo)通，如下圖所示

□Ik

□cowp

□■c1o3wp-12

□14

口■sold17

npt

drawingI8

drdiwing27

3cc

■□■DIS7

26學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

現(xiàn)在我們這個(gè)阻抗條基本制作完成，值得注意的是，當(dāng)隔層測(cè)試時(shí),

如L1層為阻抗控制層，L3層為參考層，控制層和參考層中間夾了一

個(gè)L2層，甚至中間隔了好幾層，這種情形叫做隔層測(cè)阻抗，那么控

制層和參考層中間的層在控制層阻抗線的位置一定要是基材,如果條

件答應(yīng)，整層制作成基材最好，如上面這個(gè)阻抗條的第一組阻抗，隔

層L2層如下圖所示：

Step:ic

JobMatrix

178

□

□csilk

□cmask

□camp

comp-12

旦

13

旦

14

旦

15

旦

16

旦

sold-17

旦

sold

旦

Csmask

因?yàn)長(zhǎng)2層為次外層，所有是正片，紅色的為鉆孔，內(nèi)層黑色的全部

27學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

為基材。到現(xiàn)在為止這

個(gè)阻抗條全部制作完成。

上面介紹的只是一個(gè)簡(jiǎn)單的特性阻抗，對(duì)于我司來(lái)說(shuō)，我們?cè)O(shè)計(jì)的阻

抗只有特性阻抗和差動(dòng)

阻抗兩種，如果有差動(dòng)阻抗，制作方法和特性阻抗大同小異，只是特

性阻抗兩個(gè)孔為一組，

而差動(dòng)阻抗一定是四個(gè)孔為一組，控制層用兩個(gè)孔，參考層也用到兩

個(gè)孔，同時(shí)控制阻抗的

線寬和線距，如下圖所示這個(gè)差動(dòng)阻抗條。

28學(xué)習(xí)使人進(jìn)步！態(tài)度決定學(xué)習(xí)成效!

差動(dòng)阻抗

阻械而卜償(3)

原始的線的跡后阻抗線寬阻抗締勝制

明抗控制層醐俸考層阻抗值《。國(guó)的值融的圍

間距Sils)/間距(ails)幽條碘

轉(zhuǎn)礴

aLlL275V-10%9/8