JIS C 2550-5-2020 電工鋼片試驗方法 第5部分:電工鋼片電阻率、密度和堆積系數(shù)的測量方法_第1頁
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電磁鋼帶試験方法一第5部:(JEMA/JSA)日本産業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會審議(日本規(guī)格協(xié)會発行)著作権法によ)無斷での技型,転戒等は禁止されて書力ま丈。C2550-5:2020日本産業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)査會標(biāo)準(zhǔn)第二部會構(gòu)成表所屬大崎大博之東京大學(xué)青柳青恵美子伊藤伊智一般社団法人情報処理學(xué)會情報規(guī)格調(diào)査會(國立研究開発法人新工ネルギ一·産業(yè)技術(shù)総合開発機(jī)構(gòu))巖測巖幸吾一般社団法人電子情報技術(shù)産業(yè)協(xié)會內(nèi)田內(nèi)一般財団法人日本規(guī)格協(xié)會江崎江正IEC/SMB日本代表委員(ソ二ー株式會社)住谷住淳吉一般財団法人電気安全環(huán)境研究所高村高里子全國地域婦人団體連絡(luò)協(xié)議會田中田一彥一般社団法人日本電機(jī)工業(yè)會橋爪橋弘一般社団法人ビジネス機(jī)械·情報システム産業(yè)協(xié)會田田平真幸IEC/CAB日本代表委員(富士ゼロックス株式會社)藤原藤昇一般社団法人電気學(xué)會水本水東京工業(yè)大學(xué)山根山香織主婦連合會主務(wù)大臣:経濟(jì)産業(yè)大臣制定:平成23.9.20改正:合和2.3.23官報揭截日:令和2.3.23原案作成者:一般社団法人日本電機(jī)工業(yè)會(子102-0082東京都千代田區(qū)一番町17-4電機(jī)工業(yè)會館TEL03-3556-5881)一般財団法人日本規(guī)格協(xié)會(于108-0073東京都港區(qū)三田3-13-12三田MTビ兒TEL03-4231-8530)審議部會:日本産業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)査會標(biāo)準(zhǔn)第二部會(部會長大騎博之)この規(guī)格についての意見又は質(zhì)問は,上記原案作成者又は経済産業(yè)省産業(yè)技備環(huán)境局國際電気標(biāo)準(zhǔn)課(テ100-8901なお,日本産業(yè)規(guī)格は,産業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化法の規(guī)定によって,少なくとも5年を経過する日までに日本産業(yè)標(biāo)準(zhǔn)議に付され,速やかに,確認(rèn),改正又は廃止されます。C2550-5:2020序文 11適用範(fàn)囲 12引用規(guī)格 13用語及び定義 24抵抗率の測定 24.1一般事項 24.2測定原理 24.3試験片 s4.4測定裝置 s4.5測定手順 64.6再現(xiàn)性 64.7試臉報告書 65密度の測定 ?5.1一般事項 ?5.2抵抗率測定に基つく方法(D1法) ?5.3ガスビクノメー夕法(D2法) 5.4試臉報告書 6占積率の測定 6.1一般事項 6.2試験片 6.3測定手順 6.4再現(xiàn)性 6.5試験報告書 1附屬書A(參考)長方形単板試験片を使用する抵抗率測定裝置の例(R2法) 附屬書B(參考)ガスピクノメー夕法による密度測定の例(D2法) 附屬書C(參考)けい素及びアルミニウム成分による密度計算式(D4法) 16附屬書JA(參考)JISと対 解説 ●(1)著作権法により無斷での後製,転裁等は禁止されております。C2550-5:2020ま元がきこの規(guī)格は,産業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化法第16條において準(zhǔn)用する同法第12條第1項の規(guī)定に基づき,一般社団法人日本電機(jī)工業(yè)會(JEMA)及び一般財団法人日本規(guī)格協(xié)會(JSA)から,産業(yè)標(biāo)準(zhǔn)原案を添えて日本産業(yè)規(guī)格を改正すべきとの申出があり,日本産業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)査會の審議を経て,経済産業(yè)大臣が改正した日本産業(yè)規(guī)格である。これによって,JISC2550-5:2011は改正され,この規(guī)格に置き換えられた。この規(guī)格は,著作権法で保護(hù)対象となっている著作物である。この規(guī)格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵觸する可能性があることに注意を喚起する。経済産業(yè)大臣及び日本産業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)査會は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実用新案権に関わる確認(rèn)について,責(zé)任はもたない。JISC2550の規(guī)格群には,次に示す部編成がある。JISC2550-1第1部:工プスタイン試験器による電磁鋼帯の磁気特性の測定方法JISC2550-2第2部:寸法·形狀の測定方法JISC2550-3第3部:中間周波磁気特性の測定方法JISC2550-4第4部:表面絶緑抵抗の測定方法JISC2550-5第5部:電磁鋼帯の抵抗率,密度及び占積率の測定方法●JIS電磁鋼帯試験方法一第5部:電磁鋼帯の抵抗率,Part5:Methodsofmeasurementofresistivity,densityand序文この規(guī)格は,2018年に第2版として発行されたIEC60404-13を基とし,我が國で一般的となっている技術(shù)と整合させるため,技術(shù)的內(nèi)容を変更して作成した日本産業(yè)規(guī)格である。なお,この規(guī)格で側(cè)線又は點(diǎn)線の下線を施してある簡所は,対応國際規(guī)格を変更している事項である。変更の一覧表にその説明を付けて,附屬書JAに示す。この規(guī)格は,電磁鋼帯の抵抗率,密度及び占積率の測定方法について規(guī)定する。これらの測定量は,材料の特性を証明するために必要である。また,密度は磁気分極の規(guī)定値,抵抗率及び占積率を求めるために必要である。測定は,(23±5)℃の周囲溫度において行う。注記この規(guī)格の対応國際規(guī)格及びその対応の程度を表す記號を,次に示す。IEC60404-13:2018,Magneticmaterials—Part13:Methodsofmeasurementofresistivity,densityandstackingfactorofelectricalsteelstripandsheet(MOD)なお,対応の程度を表す記號“MOD”は,ISO/IECGuide21-1に基づき,“修正している”の引用規(guī)格は,その最新版(追補(bǔ)を含む。)を適用する。JISC2550-1電磁鋼帯試験方法一第1部:エプスタイン試験器による電磁鋼帯の磁気特性の測定方法注記対応國際規(guī)格:IEC60404-2,Magneticmaterials-Part2:MethodsofmeasurementofthemagneticpropertiesofelectricalsteelstripandsheetbymeansofanEpsteinframeJISC2556単板試験器による電磁鋼帯の磁気特性の測定方法注記対応國際規(guī)格:IEC60404-3,Magneticmaterials-Part3:MethodsofmeasurementofthemagneticpropertiesofelectricalsteelstripandsheetbymeansofasinglesheettesterISo1183-3,Plastics-Methodsfordeterminingthedensityofnon-cellularplastics-Part3:Gaspyknometer2C2550-5:2020methodIEC60050-121,InternationalElectrotechnicalVocabulary—Part121:ElectromagnetismIEC60050-221,InternationalElectrotechnicalVocabulary—Part221:Magneticmaterialsandcomponents3.1抵抗率(resistivity)3.23.3占積率(stackingfactor)4抵抗率の測定4.1一般事項法)の二つの抵抗率決定方法を規(guī)定する。注記R2法は,二次元等角寫像理論に基づくvan-der-Pauw(VDP)法に基づいている。均一な厚さの任意形狀の物體に対し,四つの電極間の電圧と電流との比から抵抗率を得る公式が成立する。この公式は,試験片形狀と電極の位置とが対稱な場合,単純化できる。R2法は,長方形の単板厚さを含めた試験片の形狀寸法測定に基づく抵抗率pの決定方法は,全ての種類の試験片に適用することが可能である。しかし,5.2で規(guī)定する密度pmの決定に使用する場合は,5.1で規(guī)定する電磁鋼帯に限定エプスタイン試験片の抵抗率を測定する回路は,図1に示すように接続する。二つの電流接點(diǎn)A及びBは,電流が試験片の長辺方向に均一に流れるよう,試験片の両端に配置する。電位接點(diǎn)C及びDは,電流的に接觸するため,酸化物,その他の絶緣皮膜などを除去する必要はない。C2550-5:2020A試験片AV?V?UcosUco'DABA,B:電流接點(diǎn)C,D:電位接點(diǎn)A:直流電流計W:直流電壓計le:CD間長さIAB:AB間電流図1ーエプスタイン試験片の抵抗率測定回路(R1法)電流が試験片の中を均一に流れる場合,エプスタイン試験片の二つの接觸點(diǎn)間の抵抗値Rは,式(1)か……………………(1)Uco:電位接點(diǎn)CD間の電圧(V)IAB:電流接點(diǎn)AB間の電流(A)抵抗率pは,式(2)から算出する。R:電位接點(diǎn)CD間の抵抗値(2)d:絶緑被膜を除いた試験片の厚さ(m)le:電位接點(diǎn)CD間の長さ(m)4.2.2長方形単板試験片を使用する測定方法(R2法)長方形の単板試験片の抵抗率を測定する回路は,図2に示すように接続する。四つの電気接點(diǎn)A,B,C及びDは,試験片のそれぞれの辺の中心に配置する。接點(diǎn)A,B,C及びDと試験片との接觸部は,できる限り小さくする。接點(diǎn)AB間の電流を測定し,接點(diǎn)CD間の電圧を測定する。試験片の切斷エッジで電気的に接觸するため,酸化物,その他の絶緑皮膜などを除去する必要はない。4ssAVDA.B,C,D:電気接點(diǎn)Uco:電位接點(diǎn)CD間の電圧図2一長方形単板試験片の抵抗率測定回路(R2法).............................................二つの対向接點(diǎn)A及びCの接続を入れ替えた後,接點(diǎn)DとAとの間の電圧,及び接點(diǎn)BとCとの間の電流を測定し,同様に抵抗値Rgc.paを算出する。二次元場の等角寫像法に基づき,均一厚さ及び任意の形狀の物體について,式(4)の関係が成立する。d:絶緑被膜を除いた試験片の厚さ(m)RABcp:電位接點(diǎn)CD間の抵抗値(2)Fp:だけの関數(shù)示すように,接點(diǎn)A,B,C及びDは,長方形試験片のそれぞれの辺の中心に対稱に配置する。果を平均する必要がある。一般事項式(2)及び式(4)に使用する試験片の厚さdは,に規(guī)定する方法で算出する。密度pmに基づく方法厚さdは,5.3の方法で測定した密度pmの値,又は製造業(yè)者から提供された密度の値を使用して,式(5)4.3試験片R1法(4.2.1參照)に使用するJISC2550-1に合致したエプスタイン試験片は,次の寸法とする。一長さ280mm~320mm4.3.2長方形単板試験片R2法(4.2.2參照)に使用する正方形又は長方形のJISC2556に合致した単板試験片は,次の寸法とす一一長さ500mm~610mm試験片の幅及び長さは土0.5mmの許容差に入るよう切斷する。4.4測定裝置4.4.1R1法及びR2法に共通の必要次の裝置が必要である。-1A~10Aの電流を供給できる低電圧直流安定化電源で構(gòu)成する電源裝置(4端子抵抗計を使用する場一試験片の抵抗Rを±1%の精度で測定できる抵抗測定裝置(例えば,土0.1%の精度の電流計及び電圧一接點(diǎn)を備えた基板及び接點(diǎn)間の試験片よりも小さな(接點(diǎn)が配置された側(cè)各々の側(cè)面上で5mm以下(長方形単板試験片については10mm以下)。支持平板の厚さは,接點(diǎn)が支持平板の上に置かれた試験片に觸れる程度にする。4.4.2R1法の必要條件6C2550-5:2020C及びDが電流接點(diǎn)AとBとの間にあり,かつ,試験片長軸上にあるように配置する(図1參照)。電流4.4.3R2法の必要條件R2法については,比較的鋭利な角部(例えば,1mmの曲率半徑)を備えた各々の接點(diǎn)を,基板に固定特性に応じて,1A~5Aの電流を試験片に流す。同じ測定精度の4端子抵抗計を使用する場合には,よりC2550-5:2020一他の合金成分の合計:0.4%以下●8C2550-5:2020PmP,10?Q-kg/m2OR1法による測定値,口:R2法による測定値図3一無方向性電磁鋼帯における積pm·pの関數(shù)としての密度pm5.1で規(guī)定する電磁鋼帯の場合には,経験によると密度pmと積pm°pとの間の関係は,図3に示すように注記1密度pm及び抵抗率pのいずれも,けい素及びアルミニウム成分の関數(shù)である。ここに,pm:絶緣被膜を除いた試験片の密度(kg·m-3)Pm?p:密度と抵抗率との積(Ω·kg·m-2)注記2この関係式は,一般的な不純物成分範(fàn)囲の無方向性電磁鋼帯に浸せき法を適用した測定値を統(tǒng)計的に処理した結(jié)果から確立されている。エプスタイン試験片(R1法)及び長方形単板試験片·(R2法)による積pm°pは,簡條4に基づいて決定される。5.2.2試験片エプスタイン試験片4.2.1に規(guī)定するエプスタイン試験片を使用する場合,式(2)及び式(5)から,積pm?pと抵抗値Rとの…………………(7)ここに,pm:絶緣皮膜を除いた試験片の密度(kg·m-3)p:抵抗率(Q·m)R:抵抗値(Q)m:試験片の質(zhì)量(kg)C2550-5:2020lε:電位接點(diǎn)間の長さ(m)Pmの値は,式(6)及び式(7)から得られる式(8)によって算出する。ここに,pm:絶緑皮膜を除いた試験片の密度(kg·m~3)m:試験片の質(zhì)量(kg)l:電位接點(diǎn)間の長さ(m)長方形単板試験片4.2.2に規(guī)定する正方形又は長方形単板試験片を使用する場合,式(4),式(5)及びFρ=1から,積pa2ρと抵抗値Rとの関係である式(9)が得られる?!长长?pm:絶緣皮膜を除いた試験片の密度(kg·m-3)p:抵抗率(Q·m)m:試験片の質(zhì)量(kg)RAn.co:電位接點(diǎn)CD間の抵抗値(Q)Rgc.pa:電位接點(diǎn)DA間の抵抗値(Q)!:試験片の長さ(m)b:試験片の幅(m)Pmの値は,式(6)及び式(9)から得られる式(10)によって算出する。……………ここに,Pm:絶緑皮膜を除いた試験片の密度(kg·m-3)m:試験片の質(zhì)量(kg)RAacp:電位接點(diǎn)CD間の抵抗値(Q)Rgcpa:電位接點(diǎn)DA間の抵抗値(2)l:試験片の長さ(m)5.2.3測定手順エプスタイン獣験片を使用する抵抗値Rの測定は,4.5.2による。Pmの値は,式(8)で算出する。Pn。長方形単板試験片(又はエプスタイン試験片)を使用する抵抗値Rxnco及びRucDAの測定は,4.53による。Dnの值は,式(10)で算出する。Pmの値は,式(9)から算出した積Dm2pの値に対応する値を,図3から5.2.4再現(xiàn)性5.2.1に規(guī)定する積ρa(bǔ)1pとに基づく測定法の再現(xiàn)性は,密度の相対標(biāo)準(zhǔn)偏差で1.0%とみなされる。5.3.1測定原理ガスビクノメータ法は,固體の體積,すなわち,密度の測定方法であり,ISO1183-3に基づいている。注記ガスビクノメー夕法は,磁性材料だけではなく,定形,不定形の多孔質(zhì)材料,粉體,粒狀固形物などの體積測定に工業(yè)的に広く使用されている。C2550-5:2020試験片の酸化物又は絶緑皮膜は,研削,又は代替の物理的手段若しくは化學(xué)的手段によって除去する。測定前の試験片は,グリースの付著及びさび(鋪)のないものでなければならない。前処理を施す場合は,室溫まで冷卻して測定する。5.3に規(guī)定するガスピクノメー夕法の再現(xiàn)性は,ISO1183-3に規(guī)定する,密度の相対標(biāo)準(zhǔn)偏差で約0.2%試験は,6mm以上の高さの積層を得るのに十分な數(shù)の同一寸法の試験片で行う。係爭が生じた場合には,100枚とする。試験片は,著しいかえりが発生しない方法によって切斷する。著しいかえりが生じた場合は,適切な手段で除去する。試験片は,幅20mm以上で,面積5000mm2以上とする。寸法公差は,幅±0.2mm,長さ試験片を,±0.1%の精度でひょう(秤)量し,平均長さ及び幅を,それぞれ土0.2%及び±0.7%の精試験片を積層し,圧縮機(jī)のラムの間に置く。ラムの表面積は,圧力を加える試験片の積層體を完全に覆著作権法により無斷での複製,転載等は禁止されております。武験片武験片a)側(cè)面……………………(11)b:試験片の平均幅(m)l:試験片の平均長さ(m)6.5試験報告書●C2550-5:2020附屬書A(參考)●的鋭利な角部(例えば,1mmの曲率半徑)をもつ4個の接點(diǎn)を備える。各々の接點(diǎn)を,基板に固定されスタイン試験片の場合,試験片の短辺中心からは,±0.5mmの対稱な位置に接點(diǎn)を配置する。接點(diǎn)間には,の差異は,各々の側(cè)面上で10mm以下(エプスタイン試験片については5mm以下)とする。支持平板の多様な長さの試験片に対応するため,対向して配置されたこれらの接點(diǎn)の位置を,変更できるようにする。接點(diǎn)間の距離が変わっても他の二つの接點(diǎn)を結(jié)ぶ軸に対する対稱性は,±1mm(エプスタイン試験片必要がある。種々の異なる位置にタップ孔又は調(diào)整スロットがある場合,接點(diǎn)ホルダーを異なった位置に配置できる。接點(diǎn)は,ばねによって試験片に弾性的に押し付けられる。接點(diǎn)のエッジは試験片のエッジに片のエッジに垂直にすることができる。この可動接點(diǎn)は接點(diǎn)及びホルダーの両方に溶接された柔軟な導(dǎo)線接點(diǎn)基板図A.1一接點(diǎn)ホルダー配置の概略斷面図C2550-5:2020附屬書Bガスピクノメー夕法による密度測定の例(D2B.1概要磁鋼帯の密度測定例について記載する。電磁鋼帯の物理的構(gòu)造は溫度によって変化するため,試験片の體B.2試験片試験片は,使用するピクノメータの槽に合わせた寸法,及び枚數(shù)の円板試料に加工する。直徑50mm,長さ75mmの槽を使用し,直徑36mm円板試料を総質(zhì)量200g以上として測定する場合,試験片の各厚さ含有量が50%を超える沸騰溶液に約10分間浸した後,直接,常溫の高純度塩酸(HCl)に約30秒間一試験片を水道水,蒸留水又は純水及びアセトンで順次洗浄する。代替として,し,乾いた清潔な布又は吸水紙で拭いて乾かし,更に室溫の乾燥空気を吹き付けて表面の水分を除去一試験片に指で觸れると測定結(jié)果に影響を及ぼす可能性があるため,かん(鉗)子又は適切な寸法の磁石で試験片を扱う。注記上記の手順には,危険性のある物質(zhì),操作及び裝置が含まれている場合があるが,その使用にを確立した上で,手順の実施可否を判斷する責(zé)務(wù)がある。●C2550-5:2020B.3測定裝置測定裝置は,接続弁で接続された測定槽(體積Vme)及び膨張槽(體積Vap),並びにガスを注入·排出するための弁で構(gòu)成する(図B.1參照)。測定槽は,気密性に優(yōu)れた取外し可能な蓋を備えており,膨張る。351ガス注入口2ガス注入弁4試験片5測定槽6接続弁7膨張槽8ガス排出弁9ガス排出口B.4校正の指示に従って校正する。密度を決定する場合は,ひょう(秤)量器も校正する。槽の容量は,ISO1183-3に従って校正することが可能である。B.5測定手順試験片の質(zhì)量を不確かさ0.1mgのひょう(秤)量器で測定する。でガスを流入する。弁2を閉めた後,弁6を開け,平衡溫度Tにおける試験片の體積rは,式(B.1)によって算出する。ここに,Vr:試験片體積(m2)Vmens:測定槽の容量(m3)Vap:膨張槽の容量(m3)P:弁を開放する前の測定槽の圧力(kPa)P?:弁を開放した後の平衡圧力(kPa)試験片の密度pmは,試験片の質(zhì)量を式(B.I)で得られた體積を使用して(B.2)で算出する。●m:試験片の質(zhì)量(kg)ヘリウム又は窒素を使用した場合,測定結(jié)果は,ほぼ同一の結(jié)果を示す。理想的な狀態(tài)では,測定再現(xiàn)性は約0.2%以內(nèi)とみなされる?!馩●C2550-5:2020けい素及びアルミニウム成分による密度計算式(D4法)電磁鋼帯の密度は,ASTMA34/A34M-06に記載にする式(C.1)によって算出することができる。Csi:けい素の質(zhì)量割合(%)注記1電磁鋼帯の化學(xué)組成は,製造業(yè)者の裁量に委ねる。注記2実際の製品は,けい素及びアルミニウム以外の成分を含むことがある常に適用できる訳ではない。參考文獻(xiàn)ISO1183-1,Plastics—Methodsfordeterminingthedensityofnon-cellularplastics—Part1:Immersionmethod,liquidpycnometermethodandtitrationmethodISO2738,Sinteredmetalmaterials,excludinghardmetals—Permeablesinteredmetalmaterials—Determinationofdensity,oilcontentandopenporosityASTMA34/A34M-06StandardPracticeforSamplingandProcurementTestingofMagneticMaterials附屬書JAJISと対応國際規(guī)格との対比表JISC2550-5:2020電磁鋼帶試験方法一第5部:電磁鋼帯の抵抗3用語の定義は記載され追加それぞれ密度,抵抗率及び占積率の試験成績書C2550-5:2020C2550-5:2020JISC2550-5:2020電磁鋼帯試験方法一第5部:電磁鋼帯の抵抗率,密度及び占積率の測定方法電磁鋼帯試驗方法億関寸石JIS仗,1953年億JISC2501(5イ素鋼板)匕l(fā)て材料規(guī)格億含的て制定寺。-1961年材料規(guī)格匕分離l,25cm工才又久イン試驗器億X石直流磁気試驗方法,層間抵抗試驗方法女匕蒼追加してJISC2550(忄

素鋼板試驗方法)蒼制定l憶。-1970年規(guī)格名稱蒼“電気鉄板試驗方法”匕改的,50cm工才又久イン試驗器及述NS透磁率計億X-1975年磁気試驗の單位蒼SI單位系億改的,層間抵抗試驗方法の虧方の積層試驗方法蒼削除l,練一1992年參考匕l(fā)て件記lて

憶徉來單位蒼削除l憶。一2000年JIS及述國際規(guī)格の整合化の一環(huán)匕l(fā)て,JISC2550蒼対応IEC規(guī)格及述関連IEC規(guī)格匕対照l,整合性爐得5札石X虧億見直l憶。JISC2550-5仗,IEC規(guī)格の體系億整合l憶部編成匕寸るため,1995年に第1版として発行されたIEC含屯,次の規(guī)格億分割l憶。a)JISC2550-1第1部:エプスタイン試驗器億X石電磁鋼帯の磁気特性の測定方法c)JISC2550-3第3部:中間周波磁気特性の測定方法d)JISC2550-4第4部:表面絶緑抵抗の測定方法e)JISC2550-5第5部:電磁鋼帯の密度,抵抗率及述占積率の測定方法寺5億,IEC60404-13の第2版(以下,対応國際規(guī)格という。)が2018年に改訂されたのを受忄,今回今回,一般社團(tuán)法人日本電機(jī)工業(yè)會仗,JIS原案作成委員會蒼組織l,JIS原案蒼作成l憶。著作榷法億Xn無斷での複製,耘截等仗禁止寺札て擴(kuò)n支寸。C2550-5:2020解説対応國際規(guī)格の改訂では,電磁鋼帯における抵抗率と密度との関係図の更新,ガスピクノメー夕法に正を行った。また,抵抗率及び密度の測定法の記載順序が変鋼帯の抵抗率,密度及び占積率の測定方法”に変更した。3主な改正點(diǎn)a)用語及び定義(簡條3)対応國際規(guī)格では用語及びその定義は記載されていないが,使用者の利便性を考え,主な用語及びその定義を追加した。b)抵抗率の測定(簡條4)舊規(guī)格では附屬書に記載した単板試験片を使用する測定法を本文に記載し,c)密度の測定(簡條5)ガスピクノメー夕法及び試験片の化學(xué)組成による計算式に基づく方法を追加しd)占積率の測定(簡條6)積層試験片及びラムの図を追加した。e)試験報告書(4.7,5.4,6.5)この規(guī)格は測定方法の規(guī)格であることから,試験報告書に記載する內(nèi)容を規(guī)定する必要はないと判斷し,試験報告書の項目だけを殘し,內(nèi)容は削除した。原案作成委員會の構(gòu)成表を,次に示す。所屬石小古馬和石小古馬和戶中阿植中田澤部田還村男久憲浩嘉場康夀鳩潔人司仁経済産業(yè)省製造産業(yè)局地方獨(dú)立行政法人神奈川果立産業(yè)技術(shù)総合所富士電機(jī)株式會社三菱電機(jī)株式會社株式會社明電舎(才ブザーバ)野野省牧栗株式會社安川電機(jī)●20C2550-5:2020解説株式會社父イ入Y須永善

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