2022-10-1720XX年匯報人：鐘庭瑋2022-2023年光刻膠行業(yè)洞察報告目錄contens01行業(yè)發(fā)展概述02行業(yè)環(huán)境分析03行業(yè)現(xiàn)狀分析04行業(yè)格局及發(fā)展趨勢近年來，中國發(fā)改委、國務院出臺了一系列紅利政策，鼓勵光刻膠產品研發(fā)和技術升級，推動中國光刻膠行業(yè)國產化進程。EUV光刻膠將成為主流光刻膠的波長由紫外寬譜向g線（436納米）、i線（365納米）、KrF（248納米）、ArF（193納米）、EUV（15納米）的方向轉移。隨著光刻膠的曝光波長縮短，光刻膠所能達到的極限分辨率將得以提升，從而提高集成電路的集成度，推進集成電路芯片向更小的制程節(jié)點發(fā)展。近年來，隨著芯片技術的提高，集成電路芯片從14納米、10納米、7納米、逐步發(fā)展到5納米。受技術工藝和成本的影響，7納米及7納米以下芯片還未形成大規(guī)?；懂a使用。但隨著7納米芯片制程工藝生產技術的成熟，芯片將從10納米向7納米及7納米以下發(fā)展。雖然現(xiàn)階段已成功利用ArF浸沒式光刻工藝和多重曝光技術突破ArF光刻膠的極限分辨率，使得可加工的微細線路尺寸縮小到10納米和7納米工藝節(jié)點，但ArF光刻膠未能實現(xiàn)特定圖形線路圖制造，而EUV通過縮短光線的波長來提高曝光時的分辨率，從而滿足微細圖形線路的加工制造需求。因此，EUV是實現(xiàn)14納米節(jié)點以下的最可行方案。當前，三星電子和臺積電已具備EUV制程。如臺積電采用EUV制程，量產7納米芯片產品，在7納米市場占據絕對優(yōu)勢。一旦EUV技術發(fā)展成熟，EUV光刻膠將是未來7納米和5納米制程芯片的主流材料，在半導體制造中的占比將逐漸提高。摘要頁光刻膠產品定制化需求增長在全球化技術浪潮發(fā)展的背景下，全球制造業(yè)供給側結構性改革正加快升級步伐，促使了光刻膠行業(yè)下游終端應用領域產品趨向定制化和多樣化需求增長。光刻膠行業(yè)下游終端應用企業(yè)積極尋求差異化優(yōu)勢，對光刻膠制造商的研發(fā)能力、技術工藝和光刻膠產品性能等方面的要求持續(xù)朝著定制化、個性化方向發(fā)展。為滿足行業(yè)下游個性化的需求，光刻膠制造商需要根據下游終端應用領域企業(yè)提出的整體生產工藝和定制化設計需求，設計和制造出符合客戶產品的技術和生產工藝，同時還需提供一體化技術綜合服務和產品升級服務等解決方案。因此，在全球制造業(yè)供給側結構升級的背景下，行業(yè)下游應用領域市場將趨向非標準化，推動定制化光刻膠需求的增長。第一章行業(yè)發(fā)展概述01行業(yè)定義光刻膠是由樹脂、感光劑、溶劑及各類添加劑等組成的對光敏感的混合液態(tài)感光材料。在圖形轉移介質經過曝光、顯影、刻蝕等一系列流程環(huán)節(jié)后，光刻膠可將所需要的掩膜板圖形轉移至代加工襯底上。光刻膠是半導體、平板顯示器、PCB等微電子、光電子領域加工制造中使用的關鍵材料，其性能直接影響了下游應用產品的集成度、功耗性能、成品率及可靠性。光刻膠根據顯示效果的不同可分為正性光刻膠和負性光刻膠:（1）正性光刻膠在紫外線等曝光源的照射下，將圖形轉移至光膠涂層上，受光照射后感光部分將發(fā)生分解反應，可溶于顯影液；未感光部分不溶于顯影液，仍然保留在襯底上，將與掩膜上相同的圖形復制到襯底上。正性光刻膠響應波長為330～430納米，膠膜厚為1～3微米，正性光刻膠的分辨率更高，無溶脹現(xiàn)象。因此，正性光刻膠的應用比負性光刻膠更為普及。（2）負性光刻膠在紫外線等曝光源的照射下，將圖形轉移至光膠涂層上，在顯影溶液的作用下，負性光刻膠曝光部分產生交聯(lián)反應而不溶于顯影液；未曝光部分溶于顯影液，將與掩膜上相反的圖形復制到襯底上。負性光刻膠響應波長為330～430納米，膠膜厚0.3～1微米，負性光刻膠的分辨率比正性光刻膠低。因此，負性光刻膠的普及率低。光刻膠行業(yè)定義全球光刻膠行業(yè)起步于1950年，國外研究人員開發(fā)出酚醛樹脂-重氮萘醌正性光刻膠，此類光刻膠用稀堿水顯影時不存在膠膜溶脹問題，制成的光刻膠分辨率較高，而且抗干法蝕刻性較強。正性光刻膠根據所用的曝光機不同，又可分為寬譜紫外正膠、g線正膠、i線正膠。三種類型的正性光刻膠均采用線型酚醛樹脂制造出膜樹脂，重氮萘醌型酯化物作為感光劑，但由于酚醛樹脂和感光劑微觀結構的不同，因此三種正膠的分辨率和應用場景不同。如g線紫外正性光刻膠采用g線曝光，適用于0.5～0.6微米集成電路的制作，可滿足當時大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路的制作。1954年，美國柯達公司研發(fā)出聚乙烯醇肉桂酸酯及其衍生物類光刻膠體系，該類光刻膠是最先應用在電子工業(yè)中的光刻膠，但由于該類光刻膠在硅片上的粘附性差，影響了它在電子工業(yè)的廣泛應用。1958年，美國柯達公司成功研發(fā)出環(huán)化橡膠-雙疊氮系光刻膠，該類光刻膠在硅片上具有粘附性良好、感光速度快、抗?jié)穹涛g能力強等特點。20世紀八十年代初，環(huán)化橡膠-雙疊氮系光刻膠成為電子工業(yè)主要應用的光刻膠，為后續(xù)的光刻膠應用奠定了基礎。行業(yè)發(fā)展歷程萌芽期（20世紀50年代～20世紀80年代初）在全球集成電路行業(yè)發(fā)展的背景下，光刻膠技術工藝逐步提高。20世紀80年代中期，i線光刻技術進入開發(fā)期。20世紀90年代，i線光刻膠進入高速發(fā)展期，并取代了g線光刻膠。隨著i線光刻機的改進，i線光刻膠可制造線寬為0.25微米的集成電路，拓寬了i線光刻的應用范圍。隨著KrF（248納米）、ArF（193納米）等稀有氣體鹵化物準分子激發(fā)態(tài)激光光源技術的發(fā)展，深紫外光刻膠得以應用。20世紀90年代前后，國外研究人員投入到KrF準分子激光為曝光源的KrF光刻膠研究中，KrF光刻膠逐步開始發(fā)展。然而，由于酚醛樹脂-重氮萘醌光刻膠在KrF（248納米）處有很強的非光漂白性吸收，導致光敏性差，因此KrF光刻膠無法使用。為了解決這一難題，國外研究學者通過提高曝光機的NA值及改進配套光刻技術，以拓展KrF光刻膠應用的界限，到20世紀90年代中后期，KrF光刻膠進入成熟階段。這一時期，KrF光刻膠逐步應用于液晶平板顯示器件加工制造中，對液晶平板顯示器的高精細化和彩色化發(fā)展起到推動的作用。與此同時，在半導體集成度不斷提高的進程中，光刻膠成為了半導體制造環(huán)節(jié)中重要的材料，推進半導體制造技術的進步。初步發(fā)展期（20世紀80年代中期～20世紀90年代）進入21世紀后，全球高科技行業(yè)發(fā)展迅速，光刻膠行業(yè)下游半導體、平板顯示器等新興行業(yè)得到較快的發(fā)展。光刻膠從g線、i線、KrF發(fā)展到ArF光刻膠。相比KrF光刻膠，ArF光刻膠具有更高的分辨率，可達到0.1微米。因此2005年，ArF光刻膠逐步應用于90納米的制造工藝。在全球半導體行業(yè)快速發(fā)展的背景下，全球光刻膠相關企業(yè)加快在光刻膠領域的研發(fā)步伐。2004年Intel公司安裝了全球第一套商用EUV光刻工具，并建立了一條EUV掩模試產線，表明EUV光刻膠從研發(fā)階段進入試用階段。隨著微電子制造業(yè)精密度不斷提升，光刻膠的曝光波長由寬譜紫外線向g線、i線、Krf、ArF發(fā)展到EUV光刻膠。作為新一代電子信息、新型顯示技術的重要基礎性化學材料，全球光刻膠需求得到增長。全球光刻膠市場規(guī)模從2010年的56億美元增長到2015年的71億美元，年復合增長率為7.9%，全球光刻膠行業(yè)進入快速發(fā)展階段?？焖侔l(fā)展期（21世紀至今）產業(yè)鏈上游中國光刻膠行業(yè)產業(yè)鏈上游參與者為溶劑、樹脂、光敏劑等各類原材料供應商和光刻機、顯影機、檢測與測試等設備供應商。溶劑、樹脂、光敏劑是光刻膠生產的主要原材料，其中光敏劑在光刻膠生產總成本中占比達到60%。根據在光刻膠行業(yè)有多年市場運營經驗的專家表示，在溶劑方面，中國僅有小部分企業(yè)從事研發(fā)和生產光刻膠溶劑，但溶劑生產量供不應求，無法滿足中國光刻膠制造商的需求。在樹脂方面，中國處于起步發(fā)展階段，目前山東圣泉新材料股份有限公司具備樹脂生產能力，但生產的樹脂質量不穩(wěn)定，符合光刻膠制造商要求的樹脂產量僅有30%左右。在光敏劑方面，以常州強力電子新材料股份有限公司（以下簡稱“強力新材”）為代表的光敏劑供應商在光敏劑技術方面具有領先優(yōu)勢，但強力新材的光敏劑主要應用在PCB領域的光刻膠生產，無法應用于半導體和平板顯示領域的光刻膠生產。當前，應用于半導體和平板顯示領域的光刻膠光敏劑主要依靠進口，市場主要被日本東京應化工業(yè)株式會社（以下簡稱“東京應化”）、韓國株式會社東進世美肯（以下簡稱“東進”）和美國羅門哈斯電子材料有限公司等廠商所占據。整體而言，中國從事光刻膠原材料研發(fā)及生產的供應商較少，中國光刻膠原材料市場主要被日本、韓國和美國廠商所占據。因此，中國光刻膠制造商對進口材料依賴性較大，在上游原材料環(huán)節(jié)的議價能力弱。在上游設備供應商方面，光刻機、顯影機、檢測與測試設備是中國光刻膠制造的核心設備。由于中國在光刻機、顯影機、檢測與測試設備行業(yè)的起步時間較晚，且這些設備具備較高的制造工藝壁壘，導致中國在光刻膠、顯影機、檢測與測試設備的國產化程度均低于10%，此類設備主要依賴美國、日本、荷蘭等國。其中荷蘭ASML已壟斷了高端光刻機市場。由此可見，中國在行業(yè)上游設備市場方面不具備競爭優(yōu)勢，國外設備廠商的議價能力強。產業(yè)鏈上游中國光刻膠行業(yè)的中游參與主體為光刻膠制造商，主要負責光刻膠的研發(fā)、制造和銷售。光刻膠從原材料到最終成品的制造過程中，需要經過成品提純、金屬雜質去除、蒸餾、抽濾、合成、分液、濃縮等一系列生產工藝，每道生產工藝均涉及曝光光源、加工圖形線路精度等方面的不同關鍵技術。光刻膠品類繁多，針對下游不同應用需求，每種光刻膠產品的原材料配方和制備要求各不相同。因此，光刻膠制造商不僅需要具備研發(fā)能力和技術應用能力，其研發(fā)人員還需具有較強的性能評價技術、微量分析技術能力以滿足下游電子信息產業(yè)的功能性需求。當前全球光刻膠生產制造主要被日本JSR株式會社（以下簡稱“JSR”）、東京應化、信越化學工業(yè)株式會社（以下簡稱“信越化學”）、日本住友化學株式會社（以下簡稱“住友化學”）、美國陶氏化學有限公司（以下簡稱“陶氏化學”）和韓國東進等制造商所壟斷，尤其在高分辨率的KrF和ArF光刻膠領域，其核心技術基本由美國和日本制造商所掌握。以半導體制造用的光刻膠市場為例，隨著半導體的集成度提升，因半導體制造用的光刻膠純度要求高，半導體對高性能半導體光刻膠提出了更高的要求。當前日本住友化學、東京應化，美國陶氏化學等制造商掌握超過90%的半導體光刻膠市場，而在制造技術先進的KrF、ArF和EUV光刻膠領域占據50%以上的市場，中國本土企業(yè)在光刻膠市場的份額較低，與國外光刻膠制造商仍存在差距。受益于中國政府頒布的利好政策，中國光刻膠制造商加大了光刻膠的研發(fā)力度?，F(xiàn)階段，中國蘇州瑞紅、科華微電子兩家企業(yè)加強在高端光刻膠領域的產業(yè)布局。蘇州瑞紅的KrF光刻膠已進入中試階段?？迫A微電子已建立年產能10噸的KrF光刻膠生產線。光刻膠行業(yè)存在嚴格的供應商認證機制，憑借在KrF光刻膠的成熟制造工藝，科華微電子的KrF光刻膠已通過中國本土集成電路生產商中芯國際集成電路制造有限公司（以下簡稱“中芯國際”）認證。與此同時，科華微電子也正在積極研發(fā)ArF光刻膠，其參與的國家科技重大專項極紫外（EUV）光刻膠項目已通過驗收，該項目完成了關鍵材料設計、制備和合成工藝研究、配方組成的研究和光刻膠設備等研究?？梢姡袊K州瑞紅和科華微電子在光刻膠產業(yè)積極布局，且其光刻膠已取得下游廠商的認證，這兩家光刻膠制造商已在光刻膠領域取得較大進步，推動了光刻膠國產化進程。整體而言，中國光刻膠制造商與國外制造商相比，中國本土光刻膠制造商技術不高，市場競爭力不強。未來，在光刻膠國產化進程加快的趨勢下，光刻膠制造商發(fā)展空間將逐步增大。產業(yè)鏈上游中國光刻膠行業(yè)產業(yè)鏈下游應用終端領域主要包括半導體、平板顯示器和PCB領域。在“互聯(lián)網+”和5G進程持續(xù)深化的背景下，各類涉及電氣化和自動化的場景都離不開以半導體、平板顯示器和PCB為核心的應用。伴隨著消費升級、應用終端產品更新迭代速度加快，下游應用領域企業(yè)對半導體、平板顯示和PCB制造提出了愈加精細化的要求。光刻膠是電子工業(yè)中的關鍵性材料，其質量直接影響到電子工業(yè)產品的集成度和成品率。因此，隨著行業(yè)下游應用領域不斷趨向定制化、個性化，下游應用領域將帶動光刻膠行業(yè)持續(xù)發(fā)展?？梢姡袠I(yè)下游應用終端領域對光刻膠行業(yè)在產品設計、技術發(fā)展具有導向性，尤其是半導體、平板顯示器和PCB行業(yè)的發(fā)展對光刻膠行業(yè)的發(fā)展具有至關重要的作用，這三大行業(yè)應用的終端用戶在光刻膠行業(yè)產業(yè)鏈中具有強大的議價權。第二章行業(yè)環(huán)境分析02010203行業(yè)政策環(huán)境1《電子基礎材料和關鍵元器件“十一五”專項規(guī)劃》指出要重點支持國內6英寸及以上集成電路生產所有的248納米及以下光刻膠、引線框架等配套產品?！秶壹呻娐樊a業(yè)發(fā)展推進綱要》提出要加強集成電路裝備、材料與工藝結合，開發(fā)光刻膠、大尺寸硅片等關鍵材料，加強集成電路制造企業(yè)和裝備、材料企業(yè)的協(xié)作，加快產業(yè)化進程，增強產業(yè)配套能力?！秶抑攸c支持的高新技術領域（2015）》明確將高分辨率光刻膠及配套化學品列入“精細化學品”大類的“電子化學品”項，光刻膠成為中國重點發(fā)展的新材料領域。工信部科技部、財政部國務院指出要發(fā)展集成電路用電子化學品，重點發(fā)展KrF（248納米）和ArF（193納米）光刻膠，推進中國電子化學品行業(yè)發(fā)展。行業(yè)政治環(huán)境明確將深紫外光刻膠列為極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝的關鍵材料，支撐關鍵材料產業(yè)技術創(chuàng)新生態(tài)體系建設與發(fā)展，同年12月，中國發(fā)改委頒布《新材料關鍵技術產業(yè)化實施方案》，指出要發(fā)展高端專用化學品，包括KrF（248納米）光刻膠和ArF光刻膠(193納米)，為大型和超大型集成電路提供設備，且單套裝置規(guī)模達到10噸/年。綜上所述，中國已將光刻膠行業(yè)列為重點發(fā)展行業(yè)，積極推進光刻膠產品研發(fā)和技術升級。相關利好政策有助于推動中國光刻膠行業(yè)技術水平的提升，從而促使中國光刻膠行業(yè)進步。國家鼓勵的集成電路線茲小于28納米(含)，且經營期在15年以上的集成電路生產企業(yè)或項目，第一年至第十年免征企業(yè)所得稅;國家鼓勵的集成電路線寬小于65納米(含)，且經營期在15年以上的集成電路生產企業(yè)或項目，第一年至第五年免征企業(yè)所得稅，第六年至第十年按照25%的法定稅辛減半征收企業(yè)所得稅;國家鼓勵的集成電路線寬小于130納米(含)，且經營期在10年以上的集成電路生產企業(yè)或項目，第一年至第二年免征企業(yè)所得稅，第三年至第五年按照25%的法定稅率減半征收企業(yè)所得稅。光刻膠生產企業(yè)入圍“清單”，可享受稅收優(yōu)惠政策《關于促進集成電路產業(yè)和軟件產業(yè)高質量發(fā)展企業(yè)所得稅政策的公告》《關于儆好享受稅收優(yōu)惠政策的集成電路企業(yè)或項目、軟件企業(yè)清單制定工作有關要求的通知》《石化和化學工業(yè)發(fā)展規(guī)劃（2016-2020年）》《“十三五”先進制造技術領域科技創(chuàng)新專項規(guī)劃》光刻膠行業(yè)政策支持十四五規(guī)劃政府報告國家政策領導講話國務院發(fā)布政策、十四五規(guī)劃、政府報告、領導講話等都有對光刻膠行業(yè)做了一些綱領性的指導，合理的解讀能夠為光刻膠行業(yè)做了好的發(fā)展指引。行業(yè)政策支持光刻膠行業(yè)社會環(huán)境為加快推進我國光刻膠產業(yè)發(fā)展，相關鼓勵性、支持性政策陸續(xù)發(fā)布。2019年，中國光刻膠銷售額達到人民幣84億元，若按美元兌人民幣匯率(1:6.5)計算，中國的市場規(guī)模幾乎占全球總量的15%。我國光刻膠的研究始于20世紀70年代，最初階段與國際水平相差無幾，但由于種種原因，差距愈來愈大。發(fā)展至今，我國中低端光刻膠產品在全球占有一席之地，但高端光刻膠基本全部依賴進口。行業(yè)社會環(huán)境行業(yè)社會環(huán)境發(fā)展至今，我國中低端光刻膠產品在全球占有一席之地，但高端光刻膠基本全部依賴進口。2020年，在國內市場中，面板顯示及半導體光刻膠國內企業(yè)在市場中占比不足40%，但部分細分產品已逐步實現(xiàn)技術突破；此外，在PCB光刻膠生產企業(yè)中，中國企業(yè)占比約61%，外資企業(yè)占比約39%行業(yè)社會環(huán)境近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的快速發(fā)展，光刻膠作為微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，也迎來了高速發(fā)展期。光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。光刻膠主要是由光引發(fā)劑、樹脂以及各類添加劑等化學品成份組成的對光敏感的感光性材料，光刻膠可以通過光化學反應，經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩（掩模版）轉移到待加工基片上，因此光刻膠主要用于電子信息產業(yè)中印制電路板的線路加工、各類液晶顯示器的制作、半導體芯片及器件的微細圖形加工等領域。第三章行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀03行業(yè)現(xiàn)狀全球光刻膠的核心技術基本被日本和美國企業(yè)掌握，中國在光刻膠行業(yè)與國際先進水平相比仍有差距。一方面，中國光刻膠關鍵原材料和光刻膠設備主要依賴進口，對外依存度大。另一方面，國外光刻膠制造商起步早，市場把控力強，競爭優(yōu)勢明顯。而中國光刻膠制造商起步晚，缺乏技術積累，導致中國光刻膠制造商的市場競爭力弱。在全球大力發(fā)展高新技術的背景下，中國政府對于光刻膠的發(fā)展關注度較高。自“六五”計劃以來，光刻膠行業(yè)被列為國家高新技術計劃和國家重大科技項目。中國政府通過頒布一系列紅利政策，鼓勵光刻膠行業(yè)產品研發(fā)和技術升級，在規(guī)劃部署行業(yè)發(fā)展方向上起到了引導的作用。中國本土光刻膠制造商加強光刻膠產業(yè)鏈布局，以蘇州瑞紅電子化學品有限公司（以下簡稱“蘇州瑞紅”）、北京科華微電子材料有限公司（以下簡稱“科華微電子”）、深圳市容大感光科技股份有限公司（以下簡稱“容大感光”）等為代表的光刻膠制造商已開啟了光刻膠自主研發(fā)步伐，逐步具備了自主研發(fā)光刻膠的實力。當前，蘇州瑞紅、科華微電子已實現(xiàn)光刻膠產品自主研發(fā)和規(guī)?；a，并取得行業(yè)下游中國本土廠商的認證，為行業(yè)下游半導體、平板顯示、PCB廠商供貨。行業(yè)現(xiàn)狀在全球高新技術發(fā)展的背景下，中國政府高度重視半導體、平板顯示器及PCB行業(yè)發(fā)展。在國家一系列紅利政策帶動下，中國半導體、平板顯示及PCB行業(yè)發(fā)展勢頭良好。作為半導體、平板顯示及PCB行業(yè)制造環(huán)節(jié)中關鍵的材料，光刻膠的市場需求得到快速釋放，尤其是平板顯示器用的光刻膠產量增長，中國光刻膠產量呈現(xiàn)穩(wěn)中有升態(tài)勢。根據研究院數據顯示，中國光刻膠產量從2014年的6.3萬噸增長到2018年的9.0萬噸，年復合增長率為9.3%。受益于中國紅利政策的扶持，中國本土光刻膠制造商積極提升光刻膠產品技術水平和研發(fā)能力，推進光刻膠國產化的進程。未來，中國有望突破高端光刻膠產品的技術壁壘，帶動中國光刻膠產量進一步提升。與此同時，全球半導體產業(yè)、平板顯示器、PCB行業(yè)逐漸向中國轉移，帶動中國光刻膠的需求激增，中國光刻膠行業(yè)擁有較大發(fā)展空間。除此之外，在中國“工業(yè)0”、“互聯(lián)網+”和“中國制造2020”持續(xù)深化發(fā)展的背景下，行業(yè)下游應用終端領域對光刻膠的需求有望持續(xù)增長，從而推動中國光刻膠產量提升，到2023年中國光刻膠產量有望達到28萬噸，市場發(fā)展空間廣闊。行業(yè)現(xiàn)狀隨著PCB外資企業(yè)陸續(xù)在中國建廠，中國成為全球最大的PCB光刻膠生產基地，促使中國本土光刻膠制造商崛起，極大地推動了中國PCB光刻膠的發(fā)展。當前，中國光刻膠制造商在PCB領域制造用的光刻膠已逐步實現(xiàn)進口替代，打破了國外光刻膠制造商在該領域的壟斷，推進了中國光刻膠國產化進程的加快。然而，在技術要求較高的半導體和平板顯示器領域，與國外光刻膠制造商相比，中國本土光刻膠制造商的生產配方工藝和制造技術仍存在差距。中國在半導體和平板顯示器領域用的光刻膠主要集中在g線和i線光刻膠，而在中高端市場，半導體和平板顯示器領域制造用的KrF和ArF光刻膠則被日本和美國企業(yè)所占據，中國在中高端市場不具備市場競爭力，在光刻膠技術方面仍需進一步增強自身競爭力。01020304行業(yè)現(xiàn)狀PCB光刻膠技術含量較低，國產化率超過50%PCB光刻膠主要品種有干膜光刻膠、濕膜光刻膠（又稱液態(tài)光致抗蝕劑、線路油墨）、光成像阻焊油墨等。濕膜性能優(yōu)于干膜，未來濕膜光刻膠有望逐步替代干膜光刻膠。濕膜相比干膜具有高精度、低成本的優(yōu)勢，容易得到高分辨率，滿足PCB高性能的要求。PCB行業(yè)成本中，光刻膠及油墨的占比約3~5%。全球PCB光刻膠市場規(guī)模在20億美元左右，中國市場規(guī)模占比達50%以上。隨著PCB光刻膠外企東移和內資企業(yè)的不斷發(fā)展，中國已成為全球最大的PCB光刻膠生產基地。PCB光刻膠全球市場行業(yè)集中度較高。干膜光刻膠方面，臺灣長興化學、日本旭化成、日本日立化成三家公司就占據了全球80%以上的市場份額；光成像阻焊油墨方面，日本太陽油墨占據全球60%左右的市場份額，前十家公司合計占據全球80%以上的市場份額。半導體光刻膠技術難度最高，國產化率極低半導體是光刻膠最重要的應用領域。光刻和刻蝕技術是半導體芯片在精細線路圖形加工中最重要的工藝，決定著芯片的最小特征尺寸。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的30%，耗時約占整個芯片工藝的40%~50%，是芯片制造中最核心的工藝。光刻膠及其配套化學品在芯片制造材料成本中的占比高達12%，是繼硅片、電子氣體的第三大IC制造材料。光刻膠市場需求快速增長。隨著半導體線路圖形越來越小，光刻工藝對光刻膠的需求量也越來越大。2018年全球半導體用光刻膠市場規(guī)模約13億美元，未來5年年均增速約8%~10%；中國半導體用光刻膠市場規(guī)模約23億元人民幣，未來5年年均增速約10%。熱點三行業(yè)產品質量整體提高熱點二科研服務市場持續(xù)增長熱點一光刻膠應用領域廣泛光刻膠行業(yè)具有市場空間廣闊、銷售范圍廣、用戶分散、單批數量少、銷售單價高等特點。光刻膠行業(yè)技術提升，多元化科研服務平臺持續(xù)擴張，促進高價值服務企業(yè)品牌形成。行業(yè)產品化發(fā)展，集研發(fā)、生產、銷售于一體的綜合性科研服務企業(yè)逐漸增多。光刻膠行業(yè)產品質量有待提升制約光刻膠行業(yè)發(fā)展。行業(yè)內產品質量參差不齊，導致研究結果可靠性難以保證，產品喪失市場競爭力。光刻膠行業(yè)難形成統(tǒng)一的監(jiān)督管理規(guī)范,產品質量主要靠企業(yè)自主檢測保障，監(jiān)管難度大。中國光刻膠行業(yè)產品主要集中在中低端領域，高端領域被外資企業(yè)壟斷，產品品質有待進一步提升。行業(yè)熱點關鍵詞關鍵詞關鍵詞關鍵詞受益于國家“02專項”的支持，中國光刻膠行業(yè)從起步時期依靠進口發(fā)展到如今，已具備部分光刻膠產品研發(fā)和制造能力，中國光刻膠行業(yè)取得了一定的技術進步，推動光刻膠國產化程度的提升?，F(xiàn)階段，中國在中高端光刻膠技術已得到突破。在i線光刻膠方面，科華微電子已建成年產500噸i線光刻膠生產線，打破了國外廠商在i線光刻膠的壟斷。與此同時，科華微電子已建立了KrF光刻膠生產線，并已通過中芯國際的認證，已實現(xiàn)小批量供貨。在高端的KrF光刻膠方面，蘇州瑞紅已建成了KrF光刻膠中試生產線，KrF光刻膠分辨率達到0.25～0.13微米的技術要求。中國光刻膠技術逐步提高行業(yè)驅動因素1政策支持近年來，中國發(fā)改委、國務院出臺了一系列紅利政策，鼓勵光刻膠產品研發(fā)和技術升級，推動中國光刻膠行業(yè)國產化進程。關鍵詞關鍵詞關鍵詞關鍵詞2017年，中國國務院在《關于進一步擴大和升級信息消費持續(xù)釋放內需潛力的指導意見》中提出加快第五代移動通信（5G）標準研究、技術試驗和產業(yè)推進，力爭2020年啟動商用。當前，中國已具備5G商用部署條件，并已逐步啟動5G通信的措施。2019年6月，中國工信部正式向中國電信、中國移動、中國聯(lián)通、中國廣電發(fā)放5G商用牌照。中國移動、中國聯(lián)通、中國電信三大運營均已公布5G部署。而高頻PCB是實現(xiàn)5G應用的電子部件之一。因此，5G的商用成為光刻膠行業(yè)發(fā)展的動力，帶動光刻膠的需求增長。5G通信系統(tǒng)在3,000MHz～5,000MHz的頻率使用，與4G通信系統(tǒng)相比，5G數據傳輸速度提高10倍以上。為實現(xiàn)無線傳輸、增加傳輸速率，大規(guī)模的天線陣列和超密集組網是發(fā)展5G的關鍵技術，而高頻PCB是5G通信基材，具有低損耗、高可靠性、高頻特性等特點。在5G技術的發(fā)展下，5G新建的通信基站數量將會達到4G時代的2倍以上，超密集小基站建設擴大了高頻PCB需求。作為PCB制造環(huán)節(jié)的必備材料，中國光刻膠市場需求相應地將快速釋放。5G商用帶動光刻膠行業(yè)發(fā)展行業(yè)驅動因素2全球半導體制造基地向中國轉移半導體行業(yè)是電子信息高新技術產業(yè)的核心。在“中國制造2025”進程持續(xù)深化的背景下，人工智能、云計算、物聯(lián)網興起成為中國半導體行業(yè)發(fā)展的主要動力。與此同時，中國作為全球最大的電子整機制造基地，對半導體產品需求不斷增長，推動中國半導體行業(yè)發(fā)展。近年來，憑借著巨大的市場容量和消費群體，中國大陸半導體銷售額占全球半導體銷售額的30%左右，超過美國、歐洲、日本，成為全球最大的半導體銷售國，中國半導體市場發(fā)展勢頭良好，吸引了全球晶圓制造商在中國建廠，全球半導體制造產能逐步向中國轉移。根據國家半導體產業(yè)協(xié)會數據顯示，2017年至2020年期間，中國大陸將新建27座晶圓廠，在全球新建晶圓廠數量中占比為4第四章行業(yè)前景趨勢04ABC光刻膠是技術密集型產業(yè)，是集基礎化學、物理學和電子工程等多學科結合的綜合學科領域，對多學科交叉的復合型人才需求較大。雖然目前中國高校設置了相關光刻膠領域的課程，但是受教學配套設施資源有限的影響，中國大部分高校的課程設置仍然滯后，難以形成實際操作應用。而光刻膠的實際生產要求光刻膠技術人員具有很強專業(yè)性:不僅要求技術人員具備較強的技術理論水平，技術綜合運用能力和實際操作經驗，還需要技術人員對行業(yè)發(fā)展趨勢有深入的了解，才能把握市場機遇，進行產品開發(fā)以達到行業(yè)領先水平。但由于培養(yǎng)一位光刻膠人才需要3-5年，培養(yǎng)經驗豐富的專業(yè)人才需要至少10年，導致目前中國光刻膠相關企業(yè)的專業(yè)人才儲備不足。專業(yè)人才儲備不足行業(yè)發(fā)展問題光刻膠品種種類繁多、專業(yè)跨度大，其行業(yè)下游應用領域相關企業(yè)對光刻膠純度和性能要求嚴格。因此，光刻膠行業(yè)存在較為嚴格的供應商認證機制，下游應用相關領域企業(yè)與光刻膠制造商合作前會對光刻膠制造商的研發(fā)能力、生產能力、產品質量及性能等方面進行充分考核。光刻膠制造商成為合格供應商之前，必須經過產品送樣測試、樣品認證、樣品中試、工廠現(xiàn)場審核、小批試做、大批量供貨等嚴格的篩選流程，認證流程多、周期長。光刻膠供應商一旦通過下游應用廠商的認證，將會成為光刻膠的合格供應商，并形成相對穩(wěn)定的合作關系且不輕易更換。穩(wěn)定的合作關系使得行業(yè)中知名企業(yè)具有一定的客戶壁壘，而這一穩(wěn)定的合作模式也使得光刻膠生產商的市場份額較為穩(wěn)定，市場新進入者很難與現(xiàn)有企業(yè)競爭，簽約新客戶的難度高，同時也導致中小光刻膠制造商的產品難以進行測試與改進。由于光刻膠行業(yè)技術門檻較高，主要的光刻膠市場被國外制造商所占據，中國光刻膠制造商在行業(yè)的市場份額低。因此，在國外光刻膠制造商占據主要市場份額的形勢下，嚴格的供應商認證機制會使中國光刻膠制造商尤其是中小規(guī)模的光刻膠制造商難以發(fā)展壯大，阻礙了中國光刻膠行業(yè)的發(fā)展。行業(yè)進入壁壘高光刻膠需要有相應的光刻機與之配對調試，資金壁壘較高。目前全球光刻機核心技術處于壟斷狀態(tài)，只有荷蘭ASML公司可制造EUV光刻機，售價超過1億歐元；而技術水平稍低的DUV光刻機，售價為2000~5000萬美元；目前國內只有一家企業(yè)可制造光刻機，且技術等級較低。光刻機的配套需求光刻膠行業(yè)發(fā)展建議發(fā)展建議1發(fā)展建議2發(fā)展建議3提升產品質量（1）政府方面：政府應當制定行業(yè)生產標準，規(guī)范光刻膠行業(yè)生產流程，并成立相關部門，對科研用光刻膠行業(yè)的研發(fā)、生產、銷售等各個環(huán)節(jié)進行監(jiān)督，形成統(tǒng)一的監(jiān)督管理體系，完善試劑流通環(huán)節(jié)的基礎設施建設，重點加強冷鏈運輸環(huán)節(jié)的基礎設施升級，保證光刻膠行業(yè)產品的質量，促進行業(yè)長期穩(wěn)定的發(fā)展；（2）生產企業(yè)方面：光刻膠行業(yè)生產企業(yè)應嚴格遵守行業(yè)生產規(guī)范，保證產品質量的穩(wěn)定性。目前市場上已有多個本土光刻膠行業(yè)企業(yè)加強生產質量的把控，對標優(yōu)質、高端的進口產品，并憑借價格優(yōu)勢逐步替代進口。此外，光刻膠行業(yè)企業(yè)緊跟行業(yè)研發(fā)潮流，加大創(chuàng)新研發(fā)力度，不斷推出新產品，進一步擴大市場占有率，也是未來行業(yè)發(fā)展的重要趨勢。全面增值服務單一的資金提供方角色僅能為光刻膠行業(yè)企業(yè)提供“凈利差”的盈利模式，光刻膠行業(yè)同質化競爭日趨嚴重，利潤空間不斷被壓縮，企業(yè)業(yè)務收入因此受影響，商業(yè)模式亟待轉型除傳統(tǒng)的光刻膠行業(yè)需求外，設備管理、服務解決方案、貸款解決方案、結構化融資方案、專業(yè)咨詢服務等方面多方位綜合性的增值服務需求也逐步增強。中國本土光刻膠行業(yè)龍頭企業(yè)開始在定制型服務領域發(fā)力，鞏固行業(yè)地位多元化融資渠道可持續(xù)公司債等創(chuàng)新產品，擴大非公開定向債務融資工具（PPN）、公司債等額度獲取，形成了公司債、PPN、中期票據、短融、超短融資等多產品、多市場交替發(fā)行的新局面；企業(yè)獲取各業(yè)態(tài)銀行如國有銀行、政策性銀行、外資銀行以及其他中資行的授信額度，確保了銀行貸款資金來源的穩(wěn)定性。光刻膠行業(yè)企業(yè)在保證間接融資渠道通暢的同時，能夠綜合運用發(fā)債和資產證券化等方式促進自身融資渠道的多元化，降低對單一產品和市場的依賴程度，實現(xiàn)融資地域的分散化，從而降低資金成本，提升企業(yè)負債端的市場競爭力。以遠東宏信為例，公司依據自身戰(zhàn)略發(fā)展需求，堅持“資源全球化”戰(zhàn)略，結合實時國內外金融環(huán)境，有效調整公司直接融資和間接融資的分布結構，在融資成本方面與同業(yè)相比優(yōu)勢突出。行業(yè)建議行業(yè)發(fā)展趨勢1EUV光刻膠將成為主流光刻膠的波長由紫外寬譜向g線（436納米）、i線（365納米）、KrF（248納米）、ArF（193納米）、EUV（15納米）的方向轉移。隨著光刻膠的曝光波長縮短，光刻膠所能達到的極限分辨率將得以提升，從而提高集成電路的集成度，推進集成電路芯片向更小的制程節(jié)點發(fā)展。近年來，隨著芯片技術的提高，集成電路芯片從14納米、10納米、7納米、逐步發(fā)展到5納米。受技術工藝和成本的影響，7納米及7納米以下芯片還未形成大規(guī)?；懂a使用。但隨著7納米芯片制程工藝生產技術的成熟，芯片將從10納米向7納米及7納米以下發(fā)展。雖然現(xiàn)階段已成功利用ArF浸沒式光刻工藝和多重曝光技術突破ArF光刻膠的極限分辨率，使得可加工的微細線路尺寸縮小到10納米和7納米工藝節(jié)點，但ArF光刻膠未能實現(xiàn)特定圖形線路圖制造，而EUV通過縮短光線的波長來提高曝光時的分辨率，從而滿足微細圖形線路的加工制造需求。因此，EUV是實現(xiàn)14納米節(jié)點以下的最可行方案。當前，三星電子和臺積電已具備EUV制程。如臺積電采用EUV制程，量產7納米芯片產品，在7納米市場占據絕對優(yōu)勢。一旦EUV技術發(fā)展成熟，EUV光刻膠將是未來7納米和5納米制程芯片的主流材料，在半導體制造中的占比將逐漸提高。光刻膠產品定制化需求增長在全球化技術浪潮發(fā)展的背景下，全球制造業(yè)供給側結構性改革正加快升級步伐，促使了光刻膠行業(yè)下游終端應用領域產品趨向定制化和多樣化需求增長。光刻膠行業(yè)下游終端應用企業(yè)積極尋求差異化優(yōu)勢，對光刻膠制造商的研發(fā)能力、技術工藝和光刻膠產品性能等方面的要求持續(xù)朝著定制化、個性化方向發(fā)展。為滿足行業(yè)下游個性化的需求，光刻膠制造商需要根據下游終端應用領域企業(yè)提出的整體生產工藝和定制化設計需求，設計和制造出符合客戶產品的技術和生產工藝，同時還需提供一體化技術綜合服務和產品升級服務等解決方案。因此，在全球制造業(yè)供給側結構升級的背景下，行業(yè)下游應用領域市場將趨向非標準化，推動定制化光刻膠需求的增長。行業(yè)發(fā)展趨勢2光刻膠產品國產化程度提升當前，中國光刻膠產品的生產設備和生產技術仍主要依賴進口，尤其是生產半導體光刻膠主要設備和材料主要依賴進口，對外依存度達到90%以上，導致中國在光刻膠生產和加工上缺少市場話語權。在“中國制造2025”的背景下，中國本土光刻膠企業(yè)正積極對標國外光刻膠技術，同時對新的核心技術有著較大的發(fā)展需求，這促使中國本土光刻膠企業(yè)研發(fā)動力不斷增強，中國有望在5年內實現(xiàn)中高端光刻膠產品替代。與此同時，由于光刻膠行業(yè)的技術壁壘較高，一旦企業(yè)缺少核心技術，將在光刻膠市場不具備競爭優(yōu)勢，這樣的形勢促使中國本土領先光刻膠企業(yè)通過加強技術研發(fā)，以減少與國外企業(yè)的技術差距，推出自主研發(fā)的國產光刻膠以替代進口。目前中國蘇州瑞紅和科華微電子已掌握了自主研發(fā)的i線、KrF和EUV光刻膠技術，其中蘇州瑞紅和科華微電子在i線和KrF光刻膠領域實現(xiàn)了自主加工制造。隨著中國光刻膠技術不斷進步和行業(yè)下游需求持續(xù)增長，未來中國光刻膠將逐步完成國產化進口，光刻膠的國產化趨勢明顯。部分企業(yè)通過參股與收購方式加速實現(xiàn)技術突破本土企業(yè)也在面板光刻膠細分領域積極想辦法迅速突破技術瓶頸，目前晶瑞股份和北京科華微已經在觸控屏光刻膠實現(xiàn)量產；北京科華微和飛凱新材在TFT-LCD正性光刻膠實現(xiàn)量產；晶瑞股份在TFT-LCD正性光刻膠進行產能建設。而雅克科技則希望通過參股及兼并收購的方式迅速實現(xiàn)技術與產能突破。2018年7月，雅克科技通過參股江蘇科特美新材料有限公司10%股權布局TFT-LCD正性光刻膠，該公司的主要運營實體是韓國CotemCo。，Ltd。公司，COTEM位于韓國京能道坡州市，主要產品是IFT-PR及光刻膠輔助材料(顯影液、清洗液等)、B以樹脂、碳納米管等。2020年8月，雅克科技再次參股雅克科技45%股權，雅克科技目前占據江蘇科特美新材料有限公司55%的股權。此外，2020年2月，雅克科技通過香港斯洋國際有限公司收購韓國LG化學下屬的彩色光刻膠事業(yè)部的部分經營性資產，并將在標的資產交割完成后的18個月時間內，在韓國投資建設彩色光刻膠生產工廠。光刻膠行業(yè)標準化與定制化界限被打破，未來趨于融合。標準化加微定制的產品戰(zhàn)略，有效平衡企業(yè)操作層面與消費者需求層面的矛盾讓消費者既擁有足夠的確定性，也有足夠的彈性。光刻膠行業(yè)大數據應用使得實際操作和施工賦能方式深入介入，使得平臺從簡單的流量供給入口轉變?yōu)楣ぞ吖┙o、技術供給、工人供給的模式。中國消費升級倒逼光刻膠行業(yè)提高服務質量，用戶需求從獲取公司信息并與公司對接暢通轉變?yōu)楦幼⒅伢w驗注重實際的效果，滿足用戶需求，提供個性化定制服務，成為光刻膠行業(yè)新的發(fā)展方向。行業(yè)面臨洗牌標準化趨勢融合行業(yè)平臺職能轉化注重用戶體驗由于新冠疫情對經濟的巨大沖擊，各行各業(yè)都面臨資源重新洗牌，因此光刻膠行業(yè)也進入洗牌期。下游企業(yè)缺乏核心技術。投資融資主要集中于行業(yè)主流企業(yè)，對中小企業(yè)面臨巨大挑戰(zhàn)。光刻膠行業(yè)發(fā)展前景趨勢行業(yè)發(fā)展前景趨勢光刻膠行業(yè)投資風險服務更新速度不夠，不能及時適應用戶的需求。服務更新慢實體經濟遭遇疫情“黑天鵝”疫情持續(xù)，對經濟持續(xù)沖擊。另一個是“灰犀牛”，債務衰退，在這次應對疫情的過程中，各國都用了非常多的財政政策，發(fā)了很多國債，全球范圍內國債水平相對于GDP上升了18%，而且以后的利率水平還會提升。黑天鵝/灰犀牛為用戶提