犐犆犛１７．２４０

犃５８

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

犌犅／犜１６５１０—２００８／犐犛犗／犃犛犜犕５１４００：２００２

代替ＧＢ／Ｔ１６５１０—１９９６

輻射加工劑量學(xué)校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室的能力要求

犜犺犲狉犲狇狌犻狉犲犿犲狀狋狊犳狅狉狋犺犲犮狅犿狆犲狋犲狀犮犲狅犳犪狉犪犱犻犪狋犻狅狀狆狉狅犮犲狊狊犻狀犵犱狅狊犻犿犲狋狉狔

犮犪犾犻犫狉犪狋犻狅狀犾犪犫狅狉犪狋狅狉狔

（ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１４００：２００２，Ｐｒａｃｔｉｃｅｆｏｒｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎａｎｄｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ

ｏｆａｈｉｇｈｄｏｓｅｒａｄｉａｔｉｏｎｄｏｓｉｍｅｔｒｙｃａｌｉｂｒａｔｉｏｎｌａｂｏｒａｔｏｒｙ，ＩＤＴ）

２００８０９１９發(fā)布２００９０８０１實(shí)施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

書

中華人民共和國

國家標(biāo)準(zhǔn)

輻射加工劑量學(xué)校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室的能力要求

ＧＢ／Ｔ１６５１０—２００８／ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１４００：２００２

中國標(biāo)準(zhǔn)出版社出版發(fā)行

北京復(fù)興門外三里河北街１６號

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中國標(biāo)準(zhǔn)出版社秦皇島印刷廠印刷

各地新華書店經(jīng)銷

開本８８０×１２３０１／１６印張１字?jǐn)?shù)２５千字

２００８年１２月第一版２００８年１２月第一次印刷

書號：１５５０６６·１３５１０８

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版權(quán)專有侵權(quán)必究

舉報(bào)電話：（０１０）６８５３３５３３

書

犌犅／犜１６５１０—２００８／犐犛犗／犃犛犜犕５１４００：２００２

前言

本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１４００：２００２《高劑量輻射劑量學(xué)校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室特征和能力的實(shí)踐》（英

文版）。

為便于使用，本標(biāo)準(zhǔn)做了下列編輯性修改：

ａ）按照漢語的習(xí)慣對一些編寫格式進(jìn)行了修改。

ｂ）在第２章“規(guī)范性引用文件”中，所引用ＩＳＯ和ＡＳＴＭ等國際標(biāo)準(zhǔn)，凡已轉(zhuǎn)化為我國標(biāo)準(zhǔn)（包括

計(jì)量檢定法規(guī)）的，改為引用我國標(biāo)準(zhǔn)。

ｃ）刪除了資料性附錄Ａ，增加了參考文獻(xiàn)。

本標(biāo)準(zhǔn)代替ＧＢ／Ｔ１６５１０—１９９６《輻射加工劑量學(xué)校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室的能力要求》。

本標(biāo)準(zhǔn)與ＧＢ／Ｔ１６５１０—１９９６相比主要變化如下：

———在“意義和用途”章增加了“在校準(zhǔn)活動中，實(shí)驗(yàn)室在滿足與ＧＢ／Ｔ１５４８１通用要求的同時(shí)，還

應(yīng)滿足ＧＢ／Ｔ１５４８１和ＩＳＯ９０００系列標(biāo)準(zhǔn)的相關(guān)要求；當(dāng)其充當(dāng)廠商生產(chǎn)的校準(zhǔn)結(jié)果時(shí)，還

應(yīng)包括ＩＳＯ９００２標(biāo)準(zhǔn)中對保證模式的要求?！钡膬?nèi)容條款（１９９６版的第４章；本版的４．４）；

———在“意義和用途”章增加了“對從事專用領(lǐng)域校準(zhǔn)工作的實(shí)驗(yàn)室，還應(yīng)對ＧＢ／Ｔ１５４８１的通用

要求進(jìn)行補(bǔ)充和說明?！钡囊螅ǎ保梗梗栋娴牡冢凑拢槐景娴模矗担?；

———分別給出了對“電離輻射專用領(lǐng)域校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室”和“應(yīng)用γ射線、電子束和Ｘ射線（韌致輻射）

等粒子類型的電離輻射專用領(lǐng)域校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室”的補(bǔ)充要求和說明章節(jié)（１９９６版的第６章；本版

的第６章和第７章）；

———將１９９６版中“實(shí)驗(yàn)室校準(zhǔn)裝置的吸收劑量測量值與相應(yīng)的國家標(biāo)準(zhǔn)比較，偏差應(yīng)在士３％以

內(nèi)”，改為“實(shí)驗(yàn)室校準(zhǔn)裝置的吸收劑量測量值與相應(yīng)的國家標(biāo)準(zhǔn)比較，偏差應(yīng)在士５％以

內(nèi)?！保ㄒ姡保梗梗栋妫叮常叮槐景妫罚矗?；

———對設(shè)備要求部分：提出了“實(shí)驗(yàn)室應(yīng)建立覆蓋校準(zhǔn)量程、經(jīng)過考核認(rèn)證的參考標(biāo)準(zhǔn)和傳遞標(biāo)準(zhǔn)

劑量測量系統(tǒng)”的要求；刪除了１９９６版中６．６．４．１、６．６．４．２、６．６．４．３、６．６．４．４、６．６．４．５和

６．６．４．６對主要儀器計(jì)量學(xué)特性的具體要求內(nèi)容（見１９９６版６．６．４；本版６．８）；

———調(diào)整了“測量不確定度”一章的內(nèi)容（見１９９６版第７章；本版第８章）；

———刪除了１９９６版中的附錄Ａ，增加了參考文獻(xiàn)。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國核工業(yè)集團(tuán)公司提出。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國核能標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：中國計(jì)量科學(xué)研究院。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：張彥立、龔曉明、張輝。

本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為：

———ＧＢ／Ｔ１６５１０—１９９６。

Ⅰ

書

犌犅／犜１６５１０—２００８／犐犛犗／犃犛犜犕５１４００：２００２

輻射加工劑量學(xué)校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室的能力要求

１范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了輻射加工劑量學(xué)校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室應(yīng)具備的能力要求。這種能力將保證實(shí)驗(yàn)室能提供準(zhǔn)確

可靠的校準(zhǔn)與測試服務(wù)。標(biāo)準(zhǔn)可供輻射加工劑量學(xué)校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室在建立和實(shí)施其質(zhì)量體系時(shí)使用，也可

作為認(rèn)證機(jī)構(gòu)對實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行認(rèn)證和授權(quán)的依據(jù)。

２規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有

的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)，然而，鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究

是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

ＧＢ／Ｔ１５４８１檢測和校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室能力的通用要求（ＧＢ／Ｔ１５４８１—２０００，ＩＳＯ／ＩＥＣ１７０２５：１９９９，

ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ１６５０９輻射加工劑量測量不確定度評定導(dǎo)則（ＧＢ／Ｔ１６５０９—２００８，ＩＳＯ／ＡＳＴＭ５１７０７：２００５，

ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ１６６４０輻射加工劑量測量系統(tǒng)的選擇和校準(zhǔn)導(dǎo)則（ＧＢ／Ｔ１６６４０—２００８，ＩＳ