TcS.37.020N33中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T17723—1999黃金制品鍍層成分的X射線能譜測量方法Surfacecompositionanalysismethodofgold-platedproductsbyEDX1999-04-11發(fā)布1999-12-01實施國家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)黃金制品鍍層成分的X射線能譜測量方法GB/T17723-1999中中國標(biāo)準(zhǔn)出版社出版發(fā)行北京西城區(qū)復(fù)興門外三里河北街16號郵政編碼：100045電話：63787337、637874471999年7月第一版2004年11月電子版制作書號：155066·1-15976版權(quán)專有侵權(quán)必究舉報電話：（01068533533

GB/T17723-1999為了檢驗鍍金飾品的質(zhì)量，許多單位都開展了鍍金飾品的無損檢測。經(jīng)過許多單位多年來的實踐，采用掃描電鏡X射線能譜法對鍍金飾品進行無損檢測.證明是一種簡單易行的方法。既可以達(dá)到對鍍金飾品不造成損傷，又可檢測出鍍層成分的目的。該方法是通過掃描電鏡結(jié)合能譜分析技術(shù)的特點，使電子束能很準(zhǔn)確地選擇需要分析的部位，并且可以很好地避開表面的粗糙面(劃道、磨痕、不平整等等)獲得較為理想的結(jié)果。更為重要的是應(yīng)用改變掃描電鏡的加速電壓使人射電子具有不同能量，而使它進人樣品的不同表面深度。這樣可以發(fā)現(xiàn)在不同深度范圍內(nèi)元素是否有變化.并且也可以說明在基體上金或金合金鍍層大致有多厚。本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用掃描電鏡X射線能譜儀（包括裝有X射線能譜儀的電子探針儀）對鍍金制品表面金及金合金單層均勻鍍層成分的非破壞性分析測量方法的技術(shù)要求和規(guī)范本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A是提示的附錄。本標(biāo)準(zhǔn)由全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出并負(fù)責(zé)技術(shù)歸口本標(biāo)準(zhǔn)由北京有色金屬研究總院、核工業(yè)總公司北京地質(zhì)研究院、北京鋼鐵研究總院共同負(fù)責(zé)起本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：劉安生、張宜、毛允靜、

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)黃金制品鍍層成分的X射線能譜測量方法GB/T17723-1999Surfacecompositionanalysismethodofgold-platedproductsbyEDx1范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用掃描電鏡×射線能譜儀(包括裝有X射線能譜儀的電子探針儀)對鍍金制品表面金及金合金單層均勻鍍層成分的非破壞性分析測量方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于表面鍍金及金合金，其鍍層厚度為0.2m以上.3m以下范圍內(nèi)的成分測量(不包括基體和金鍍層材料相近的鍍層成分的測量)。2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文.通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時，所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性，GB/T15075—1994電子探針分析儀的檢測方法GB/T17359—1998電子探針和掃描電鏡定量X射線能譜定量分析方法通則GB/T17362-1998黃金飾品的掃描電鏡X射線能譜分析方法術(shù)語3.1金鍍層采用電鍍或化學(xué)鍍等加工方法得到的金或金合金的覆蓋層·稱為金鍍層3.2電子穿透深度當(dāng)具有一定能量的入射電子與樣品相互作用，其能量逐漸損失，當(dāng)能量達(dá)到零時,人射電子在樣品表面下所達(dá)到的深度，稱為電子穿透深度。4方法原理通過改變掃描電鏡的工作電壓·來改變?nèi)肷潆娮拥拇┩干钇?從而獲得不同深度內(nèi)元素存在的信息。在相同的實驗條件下.測量鍍層中存在元素和相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)樣品中同種元素的特征X射線·經(jīng)對比、修正后求出鍍層內(nèi)相應(yīng)于電子穿透深度范圍內(nèi)的元素的定量分析結(jié)果。5實驗儀器設(shè)備及材料5.1帶有X射線能譜