ICS2712030

F50..

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T25306—2010

輻射加工用電子加速器工程通用規(guī)范

Standardofelectronacceleratorfacilityengineeringforradiationprocessing

2010-11-10發(fā)布2011-05-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T25306—2010

目次

前言…………………………

Ⅲ

范圍………………………

11

規(guī)范性引用文件…………………………

21

術(shù)語(yǔ)和定義………………

31

輻射加工用電子加速器工程組成………………………

43

電子加速器裝置…………………………

54

束下裝置…………………

66

控制系統(tǒng)…………………

77

廠(chǎng)房………………………

87

安裝與檢驗(yàn)………………

910

工程驗(yàn)收………………

1014

附錄規(guī)范性附錄測(cè)量方法與公式…………………

A()15

附錄資料性附錄個(gè)人劑量限值與不同組織或器官的有效劑量…………………

B()20

附錄資料性附錄個(gè)人微波高頻電磁場(chǎng)與有害氣體職業(yè)接觸限值……………

C()、21

附錄資料性附錄束流焦斑直徑掃描頻率脈沖重復(fù)率的測(cè)量…………………

D()、、22

Ⅰ

GB/T25306—2010

前言

本標(biāo)準(zhǔn)的附錄為規(guī)范性附錄附錄附錄附錄均為資料性附錄

A,B、C、D。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)核工業(yè)集團(tuán)公司提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)核能標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位中國(guó)科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所北京機(jī)械工業(yè)自動(dòng)化研究所山東金塔建

:、、

設(shè)有限公司無(wú)錫愛(ài)邦輻射技術(shù)有限公司江蘇達(dá)勝加速器制造有限公司寧波超能科技股份有限公司

、、、、

四川久環(huán)電氣有限責(zé)任公司核工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所中國(guó)同位素與輻射行業(yè)協(xié)會(huì)輻射加工專(zhuān)業(yè)委員會(huì)

、、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人李民熙郭彥斌孫裕國(guó)李兆先俞章華施惠棟何小海李國(guó)青陳勇

:、、、、、、、、、

朱希愷賴(lài)啟基黃正新

、、。

Ⅲ

GB/T25306—2010

輻射加工用電子加速器工程通用規(guī)范

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了輻射加工用電子加速器工程的組成和技術(shù)要求電子加速器裝置和束下裝置的分類(lèi)

;、

型號(hào)命名廠(chǎng)房建設(shè)的內(nèi)容要求設(shè)計(jì)施工及質(zhì)量監(jiān)督安裝和檢驗(yàn)工程驗(yàn)收

;、、、;;。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于能量為的各類(lèi)輻射加工用電子加速器工程

0.15MeV~15MeV。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過(guò)本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款凡是注日期的引用文件其隨后所有

。,

的修改單不包括勘誤的內(nèi)容或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)然而鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究

(),,

是否可使用這些文件的最新版本凡是不注日期的引用文件其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)

。,。

環(huán)境空氣質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)

GB3095

粒子加速器輻射防護(hù)規(guī)定

GB5172—1985

生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)

GB5749

射線(xiàn)和電子束輻照不同材料吸收劑量的換算方法

GB/T15447X、γ

能量為電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則

GB/T16841300keV~25MeV

電離輻射防護(hù)與輻射源安全基本標(biāo)準(zhǔn)

GB18871—2002

工業(yè)企業(yè)設(shè)計(jì)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)

GBZ1—2002

工作場(chǎng)所有害因素職業(yè)接觸限值第部分化學(xué)有害因素

GBZ2.1—20071:

工作場(chǎng)所有害因素職業(yè)接觸限值第部分物理因素

GBZ2.2—20072:

電子束輻射源輻射加工用

JJG772()

3術(shù)語(yǔ)和定義

下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)

。

31

.

輻射加工radiationprocessing

電離輻射作用于物質(zhì)使其品質(zhì)或性能達(dá)到預(yù)期要求的一種工藝過(guò)程

,。

32

.

輻射裝置radiationfacility

由輻射室電子加速器裝置束下裝置控制系統(tǒng)安全設(shè)施等組成的輻射加工工藝裝置