ICS17.180N30中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T26332.1-2010/ISO9211-1：1994光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第1部分:定義Opticsandopticalinstruments--Opticalcoatings-Part1:Definitions（ISO9211-1:1994.IDT)2011-01-14發(fā)布2011-06-01實施中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布中國國家標(biāo)準(zhǔn)化餐理委員會

GB/T26332.1-2010/IS09211-1：1994次前言：：····范圍……規(guī)范性引用文件3術(shù)語和定義·按功能定義薄膜75常見的薄膜缺陷定義6其他定義…………·附錄A（資料性附錄）常見薄膜缺陷類型圖解

GB/T26332.1-2010/ISO9211-1:1994GB/T26332《光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜》分為4個部分：第1部分：定義第2部分：光學(xué)特性第3部分：環(huán)境適應(yīng)性第4部分：規(guī)定的試驗方法本部分為GB/T26332的第1部分。本部分等同采用ISO9211-1:1994《光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第1部分：定義》英文版)本部分采用國際標(biāo)準(zhǔn)的方法為翻譯法。本部分的附錄A為資料性附錄。本部分由中國機械工業(yè)聯(lián)合會提出并歸口本部分起草單位：沈陽儀表科學(xué)研究院、沈陽匯博光學(xué)技術(shù)有限公司、浙江大學(xué)、杭州科汀光學(xué)技術(shù)有限公司、國家儀器儀表元器件質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心、杭州照相機械研究所。本部分主要起草人：陰曉俊、費書國、高鵬、王瑞生、趙帥鋒、章岳光、顧培夫、馬敬、金秀、楊文華、徐秋玲、杜健、虞仲曉

GB/T26332.1-2010/ISO9211-1:1994光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第1部分：定義1范圍（B/T26332的本部分?jǐn)⑹隽顺劭乒鈱W(xué)（眼鏡)之外的所有鍍膜的光學(xué)元器件及基片的鍍膜表面,并制定了相關(guān)參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)表述.定義了表面特性參數(shù)及其檢驗、檢測方法.而不說明其加工方法。本部分定義了與光學(xué)薄膜相關(guān)的術(shù)語。這些術(shù)語分為4類：基本定義、按功能定義薄膜、常見的薄膜缺陷定義和其他定義2規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過GB/T26332的本部分的引用而成為本部分的條款。凡是注日期的引用文件·其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本部分.然而·鼓勵根據(jù)本部分達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本部分。GB/T1185-2006光學(xué)零件表面疵病(ISO10110-7:1996.NEQ)GB3102.6—1993光及有關(guān)電磁輻射的量和單位GB/T8322—2008分子吸收光譜法術(shù)語(ISO6286：1982.NEQ）ISO9211-4:2006光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)薄膜第4部分：規(guī)定的試驗方法ISO10110-8:1997光學(xué)和光學(xué)儀器光學(xué)元件和系統(tǒng)制圖準(zhǔn)備第8部分：表面結(jié)構(gòu)IEC50（845）:1987國際電工詞匯845章：照明CIEPublication38:1977材料的輻射測量和光度特性及相應(yīng)測量方法術(shù)語和定義下列術(shù)語和定義適用于本部分3.1鍍膜表面surfacetreatment3.1.1元件和基片的鍍膜表面surfacetreatmentofcomponentsandsubstrates在光學(xué)元件表面“鍍膜”.能夠改變光學(xué)元件的光學(xué)、物理或化學(xué)特性。作為所鍍薄膜載體的光學(xué)元件稱為“基片”。理想的基片是幾何完美和光學(xué)均質(zhì)的，應(yīng)將基片及其表面作為一個整體進行檢驗測量光在鍍膜表面的透射與反射方向是由光學(xué)薄膜、人射介質(zhì)及出射介質(zhì)共同決定的。3.1.2入射介質(zhì)incidentmedium光射入薄膜前經(jīng)過的介質(zhì)