ICS19020

N04.

中華人民共和國國家標準

GB/T27760—2011

利用Si111晶面原子臺階對原子力

()

顯微鏡亞納米高度測量進行校準的方法

Testmethodforcalibratingthez-magnificationofanatomicforcemicroscopeat

subnanometerdislacementlevelsusinSi111monatomicstes

pg()p

2011-12-30發(fā)布2012-05-01實施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布

中國國家標準化管理委員會

GB/T27760—2011

前言

本標準按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標準與利用晶面原子臺階對原子力顯微鏡亞納米高度測量進行

ASTME2530—2006《Si(111)

校準的方法英文版技術內(nèi)容基本一致

》()。

考慮到我國國情在采用時本標準做了一些修改有關技術性差異已編入

,ASTME2530—2006,,

正文中附錄規(guī)范性附錄中給出樣品制備方法附錄資料性附錄中列出了本標準章條編號與

。A(),B()

章條編號的對照一覽表附錄資料性附錄中給出了技術性差異及其原因一覽

ASTME2530—2006,C()

表以供參考

。

本標準由中國科學院提出

。

本標準由全國納米技術標準化技術委員會歸口

(SAC/TC279)。

本標準起草單位國家納米科學中心

:。

本標準主要起草人朱曉陽楊延蓮賀蒙高潔

:、、、。

Ⅰ

GB/T27760—2011

利用Si111晶面原子臺階對原子力

()

顯微鏡亞納米高度測量進行校準的方法

1范圍

本標準規(guī)定了利用晶面原子臺階高度樣品校準原子力顯微鏡z向標度的測量方法

Si(111)。

本標準適用于在大氣或真空環(huán)境下工作的原子力顯微鏡并且其z向放大倍率達到最大量級即z

,,

向位移在納米和亞納米范圍內(nèi)這是原子力顯微鏡用于檢測半導體表面光學器件表面和其他高科技元

,,

件表面中經(jīng)常用到的檢測范圍

。

本標準并未指出所有可能的安全問題在應用本標準之前使用者有責任采取適當?shù)陌踩徒】荡?/p>

,,

施并保證符合國家有關法規(guī)規(guī)定的條件

,。

注本標準中以國際單位制規(guī)定的數(shù)值作為標準值括號內(nèi)插入的數(shù)值僅供參考

:,。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

產(chǎn)品幾何量技術規(guī)范表面結構區(qū)域法第部分表面結構測量方

ISO25178-6:2010(GPS)6:

法分類

(Geometricalproductsspecification—Surfacetexture:Areal—Part6:Classificationofmethods

formeasuringsurfacetexture)

測量不確定度表示指南

ISO/IECGuide98-3:2008(Uncertaintyofmeasurement—Part3:Guide

totheexpressionofuncertaintyinmeasurement)

測量不確定度評估的重復性再現(xiàn)性和準確度評估的使用指南

ISO/TS21748:2004、(Guidance

fortheuseofrepeatability,reproducibilityandtruenessestimatesinmeasurementuncertaintyestima-

tion)

3術語和定義

下列術語和定義適用于本文件

。

31

.

原子力顯微術atomicforcemicroscopyAFM

()

通過檢測探針與樣品表面相互作用力吸引力或排斥力來獲得表面高度進而得到樣品表面形貌的

()

檢測技術

。

32

.

坐標軸coordinateaxes

檢測表面形貌時使用的坐標系

。

注通常采用直角坐標系即各軸形成笛卡爾正交系x軸方向是樣品表面被跟蹤的主掃描方向軸方向是在樣

:,,