ICS1303020

Z05..

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T34697—2017

含氟蝕刻廢液處理處置方法

Treatmentanddisposalmethodforspentfluoricetchant

2017-11-01發(fā)布2018-05-01實施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T34697—2017

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國石油和化學(xué)工業(yè)聯(lián)合會提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國廢棄化學(xué)品處置標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口

(SAC/TC294)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位杭州格林達(dá)化學(xué)有限公司昆明培銘科技有限公司常州清流環(huán)?？萍加邢薰?/p>

:、、、

深圳市中潤水工業(yè)技術(shù)發(fā)展有限公司四川省中明環(huán)境治理有限公司深圳慧欣環(huán)境技術(shù)有限公司重

、、、

慶藍(lán)潔廣順凈水材料有限公司藍(lán)保廈門水處理科技有限公司江西核工業(yè)環(huán)境保護(hù)中心浙江海翔

、()、、

凈水科技有限公司天津理工大學(xué)重慶大學(xué)重慶新申世紀(jì)化工有限公司中海油天津化工研究設(shè)計院

、、、、

有限公司

。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人尹云艦趙紅林韓曉剛李潤生何中明黃崇堅谷飛陳嘉賓杜興勝張怡

:、、、、、、、、、、

李梅彤陳玉英陳建敏鄭懷禮申靜弓創(chuàng)周

、、、、、。

Ⅰ

GB/T34697—2017

含氟蝕刻廢液處理處置方法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了含氟蝕刻廢液組成處理處置方法及環(huán)境保護(hù)要求

、。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于液晶顯示屏玻璃蝕刻光伏行業(yè)蝕刻硅片蝕刻電極箔蝕刻及稀土蝕

TFT-LCD、、IC、

刻所產(chǎn)生含氟蝕刻廢液的處理處置

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

危險廢物鑒別標(biāo)準(zhǔn)通則

GB5085.7

污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)

GB8978

大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)

GB16297

一般工業(yè)固體廢物貯存處置場污染控制標(biāo)準(zhǔn)

GB18599、

工業(yè)氟硅酸鈉

GB/T23936

氟化鈣

GB/T27804

工業(yè)氟化銨

GB/T28653

工業(yè)氟化氫銨

GB/T28655

工業(yè)氟硅酸銨

HG/T4692

工業(yè)氟硅酸鉀

HG/T4693

氟化鎂

YS/T691

3含氟蝕刻廢液組成

含氟蝕刻廢液主要組成見表

1。

表1主要組成

來源

項目液晶顯示屏玻璃蝕刻

TFT-LCD、電極箔蝕刻廢液稀土蝕刻廢液

光伏行業(yè)蝕刻硅片蝕刻廢液

、IC

氫氟酸w

(HF)/%1~101~105~15

氟硅酸w

(H2SiF6)/%5~15—3~10

鹽酸w

(HCl)/%3~8—≤0.1

硫酸w

(H2SO4)/%1~31~3—

硝酸w

(HNO3)/%2~101~3