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文檔簡介
介紹三方面內(nèi)容:熱電堆紅外探測器
128×128像素的熱電堆紅外焦平面陣列3.總結(jié)
介紹三方面內(nèi)容:1微輻射計可以分成兩個大的設(shè)計類別:
“一層”微輻射計包括一個與硅襯底等高的微電橋,通過一個硅底上的蝕刻槽進行隔熱。微輻射計可以分成兩個大的設(shè)計類別:2
“兩層”微輻射計包括一個高于原始硅表面的微電橋,這樣位于下方的硅是無損的。
“兩層”微輻射計包括一個高于原始硅表面的微電橋,3測輻射熱計式像素大小
硅
電極
傳感器
單層像素
兩層像素傳感器
電極
硅
像素大小
一層和兩層的微輻射計結(jié)構(gòu)展示
測輻射熱計式像素大小硅電極傳感器單層像素4熱釋電式通過照相平板運算方法移去有機層的一部分,留下有機臺以連接探測器的像素倒裝焊
信號電極普通電極
混合熱隔離結(jié)構(gòu)的進化過程。ROIC,讀出集成電路
熱釋電式通過照相平板運算方法移去有機層的一部分,留下有機臺以5非致冷紅外探測器機理非致冷紅外探測器機理62.非致冷紅外探測器設(shè)計方案間的比較
2.非致冷紅外探測器設(shè)計方案間的比較7珀耳帖效應(yīng)(1834)IT12T2種不同金屬或半導(dǎo)體,通電接頭處有吸放熱現(xiàn)象Π12I
珀耳帖效應(yīng)(1834)IT12T2種不同金屬或半導(dǎo)體,通電接8湯姆遜效應(yīng)dxTT+dTI存在溫度梯度,有電流,則除了產(chǎn)生和電阻有關(guān)的焦耳熱,導(dǎo)體各部分會變冷變熱,原來的溫度分布就會改變。為維持原有的溫度分布,導(dǎo)體各部分必須吸收或放出熱量。湯姆遜效應(yīng)dxTT+dTI存在溫度梯度,有電流93.塞貝克效應(yīng)
(1821)溫差電流溫差電動勢溫差電偶3.塞貝克效應(yīng)(1821)溫差電流10如果存在一個溫差,熱區(qū)有聲子濃度增加,聲子就會從熱接擴散到冷接。由于電子和聲子之間的碰撞,電子會受到聲子的擴散電流帶來的動量的影響,這種效應(yīng)稱為聲子牽引效應(yīng),它將加速塞貝克效應(yīng)。如果存在一個溫差,熱區(qū)有聲子濃度增加,聲子就會從11例子:N型半導(dǎo)體的塞貝克效應(yīng)(2個機理)費米能級例子:N型半導(dǎo)體的塞貝克效應(yīng)(2個機理)費米能級12
P型半導(dǎo)體,多數(shù)載流子是空穴,因此熱電場的極性相反,換句話說,N型半導(dǎo)體的塞貝克系數(shù)的符號為正,而P型為負。對于一個本征半導(dǎo)體,電子濃度和空穴濃度都會增加,這樣熱接和冷接之間的電子和空穴濃度都會不同,而只有電子和空穴之間由濃度差異引起的移動才能產(chǎn)生塞貝克效應(yīng),而這個遷移率變化的差異比凍結(jié)范圍小得多,因此這種情況較非本征情況發(fā)生塞貝克效應(yīng)的幾率小得多。P型半導(dǎo)體,多數(shù)載流子是空穴,因此熱電場的極性13熱電堆:響應(yīng)度和響應(yīng)時間是測輻射熱電偶的兩個重要參數(shù)。但兩者之間是互相制約的,不可能同時得到改善。較好的商品測輻射熱電堆的低頻探測率為1×109cmHz1/2W-1,響應(yīng)時間從1---10ms。熱電堆:響應(yīng)度和響應(yīng)時間是測輻射熱電偶的兩個重14冷結(jié)熱結(jié)屏板銅引線銅引線冷結(jié)熱結(jié)屏板銅引線銅引線15通常在設(shè)計熱電偶時,著眼于響應(yīng)度高,響應(yīng)時間短和器件阻抗要合適。增加串聯(lián)熱電偶數(shù)目,可以提高響應(yīng)速度,但降低了響應(yīng)度,同時熱電堆的噪聲等效功率也會相應(yīng)增加。不過,在熱電堆中,每個熱電偶受照面的熱容量可以做得很小,而整體受照面比較大,這樣可以使熱電堆的性能優(yōu)于熱電偶。
通常在設(shè)計熱電偶時,著眼于響應(yīng)度高,響應(yīng)時間16測輻射熱電堆可分為兩類:
塊狀材料制成的器件薄膜器件測輻射熱電堆可分為兩類:174.不同的熱電堆紅外探測器(1).密歇更大學(xué),1991
32像素的線性熱電堆紅外探測器列。(2).
Sarro等人1988年10像素線性的熱電堆紅外探測器陣列4.不同的熱電堆紅外探測器(1).密歇更大學(xué),18(3).德國物理技術(shù)大學(xué)1991,Volkein等人;
P型(Bi1-xSbx)2Te3和N型Bi1-xSbx薄膜構(gòu)成一個簡單的熱電堆.72個結(jié)點,500V/W響應(yīng)率(3).德國物理技術(shù)大學(xué)19(4).TH利用N型和P型PS作熱電材料
(5).Honeywell120像素的線性熱電堆紅外圖像傳感器
(6).日本防御代辦處和NEC制備128×128像素的熱電堆IRFPA利用N型和P型PS為熱電材料(4).TH利用N型和P型PS作熱電材料202.128×128像素的熱電堆紅外焦平面陣列
2.128×128像素的熱電堆紅外焦平面陣列
21測得PS的塞貝克系數(shù)摻雜濃度(CM-3) 多晶硅的塞貝克系數(shù)測得PS的塞貝克系數(shù)摻雜濃度(CM-3) 多晶22其他金屬的塞貝克系數(shù):在00C的塞貝克系數(shù):鉑為4.4
V/0C,鐵為15.0
V/0C,鉍為110
V/0C,銻為47
V/0C。其他金屬的塞貝克系數(shù):23多晶硅熱電堆紅外探測器
熱電堆IRFPA像素結(jié)構(gòu)硅底層制備在硅表面單片集成結(jié)構(gòu)提高填充因子,67%80×84um×
450nm氣隙腐蝕1um犧牲層32對多晶硅熱電堆紅外探測器 熱電堆IRFPA像素結(jié)構(gòu)硅底層制24
熱結(jié)點位于隔膜中心,冷結(jié)點位于隔膜外延,該處的熱傳導(dǎo)很厲害,故冷結(jié)點的溫度總是與底座相等,因此可認為它是一個熱存儲器。熱結(jié)點和冷結(jié)點被Al層擋住以減小接觸電阻。熱結(jié)點位于隔膜中心,冷結(jié)點位于隔膜外延252.熱電堆紅外探測器的特性
響應(yīng)率V/W 斬波頻率
Hz 斬波頻率與響應(yīng)率的關(guān)系
真空里帶有金黑體的500K黑體2.熱電堆紅外探測器的特性響應(yīng)率V/W 斬波頻率Hz 263.信號讀出電路
熱電堆讀出晶體管便置電壓積累電容 信號讀出電路。CCD,電荷耦合器件
3.信號讀出電路熱電堆讀出晶體管便置電壓積累電容 信號讀27將來自于熱電堆的電勢差施加到讀出的金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管(MOS)的柵極上,從而控制漏電流。源極接地,而漏極電流與存儲電容器相連,即CCD本身。CCD容量是2×107個電子。熱電堆的另一端和偏置電壓相連。將來自于熱電堆的電勢差施加到讀出的金屬氧化物半284.電荷耦合器件掃描器成像區(qū)存貯區(qū)水平CCD4.電荷耦合器件掃描器成像區(qū)存貯區(qū)水平CCD29掃描部分由掃描成像的垂直CCD以及掃描存儲區(qū)的垂直CCD和水平CCD組成,以及帶有一個源跟蹤放大器的漂流擴散輸出。這種器件的幀速是120Hz。垂直CCD和水平CCD的時鐘頻率分別為17KHz和2.6MHz。該芯片垂直方向尺寸19.5mm,水平方向15.2mm。因為CCD掃描器和漂流擴散輸出幾乎沒有噪聲,因此主要噪聲源是來自讀出晶體管的散粒噪聲。掃描部分由掃描成像的垂直CCD以及掃30
CCD掃描器制備在一個(100)P型Si襯底上,垂直CCD和水平CCD都設(shè)計成埋溝型。它們具有重疊雙層PS電極。用于圖像和存儲區(qū)的垂直CCD由四相時鐘脈沖驅(qū)動,水平CCD由二相時鐘脈沖驅(qū)動。CCD掃描器制備在一個(100)P型315.封裝熱電堆紅外焦平面陣列的封裝5.封裝熱電堆紅外焦平面陣列的封裝32封裝直徑大小為41mm,高度14mm。在2~15μm波長由于作為紅外吸收體的金黑體的吸收率大于90%,因此光譜響應(yīng)由光學(xué)透鏡和封裝窗口的透射率決定。封裝窗口由帶有透射10μm波長增透膜的Ge構(gòu)成,光學(xué)透鏡的增透膜層也設(shè)計在為10μm波長左右。封裝直徑大小為41mm,高度14mm。336.性能由128×128像素的熱電堆紅外焦平面陣列拍攝
6.性能由128×128像素的熱電堆紅外34熱區(qū)是白色區(qū)域。輸出位移分布為22%,該值通過模擬和數(shù)字位移校正電路校正,但沒有進行增益校正。陣列的平均噪聲等效溫差(NETD)在f/1.0透鏡下為0.50C。分辨率主要受到垂直CCD和水平CCD上的電荷遷移效率低的限制熱區(qū)是白色區(qū)域。35在這個器件里,拍攝到的16384個像素中有162個死點??沙上襁\動目標(biāo),因此我們可以認為對于非致冷紅外成像,128×128像素的PS熱電堆紅外焦平面陣列FPA的熱電堆技術(shù)是可行的。在這個器件里,拍攝到的16384個像素中有367.改進措施1.靈敏度一般來說又與電荷存儲能力的平方根成正比。如果用CMOS掃描器,其電荷存儲能力將是CCD的10倍或更多。7.改進措施1.靈敏度一般來說又與電荷存儲能力的平方根成正比372.
即使在熱電偶的個數(shù)減少的情況下也應(yīng)該降低光闌的熱傳導(dǎo)率。據(jù)估計,如果熱電偶的對數(shù)從32降到1,熱傳導(dǎo)率就會降至原來的1/100,而靈敏度會擴大3倍,PS的熱傳導(dǎo)率也會降低,而塞貝克系數(shù)卻提高了。2.
即使在熱電偶的個數(shù)減少的情況下也應(yīng)該降低光闌的熱傳導(dǎo)383.
為了提高分辨率,CCD的傳輸效率應(yīng)該提高。與5—15
m的可見光CCD圖像傳感器相比,100
m的像素間距是很大的。如果每次傳輸?shù)碾姾蓚鬏旈L度很大,那么有助于電荷傳輸?shù)母缮鎱^(qū)域就會變小。因此,可以通過優(yōu)化CCD通道的摻雜剖面結(jié)構(gòu)來提高干涉區(qū)域。3.
為了提高分辨率,CCD的傳輸效率應(yīng)該提高。與5—1539總結(jié)優(yōu)點
:1)PS用作熱電材料,整個制備過程就可在硅的集成電路制備廠中生產(chǎn),從而該技術(shù)可以實現(xiàn)低價和大規(guī)模生產(chǎn)
2)使用冷接作為溫度基準(zhǔn),因此不需要溫度控制
總結(jié)優(yōu)點:40
器件的規(guī)格說明和性能參數(shù)
成像區(qū)128×128mm(V)象素數(shù)128(H)×128(V)象素尺寸
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