標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 1558-2023 硅中代位碳含量的紅外吸收測(cè)試方法》相較于《GB/T 1558-2009 硅中代位碳原子含量紅外吸收測(cè)量方法》,主要在以下幾個(gè)方面進(jìn)行了調(diào)整和更新:
首先,在術(shù)語(yǔ)定義上,新版本可能對(duì)某些專業(yè)術(shù)語(yǔ)進(jìn)行了更加精確的界定或增加了新的定義項(xiàng),以適應(yīng)技術(shù)進(jìn)步帶來(lái)的需求變化。例如,對(duì)于“代位碳”的描述可能會(huì)更具體化,或者引入了與現(xiàn)代檢測(cè)技術(shù)相關(guān)的新詞匯。
其次,關(guān)于測(cè)試原理部分,2023版或許引入了最新的科學(xué)研究成果,優(yōu)化了原有的理論基礎(chǔ),使得測(cè)試過(guò)程更加科學(xué)合理。這包括但不限于改進(jìn)了樣品處理方式、提高了數(shù)據(jù)處理算法精度等。
第三,在操作步驟方面,《GB/T 1558-2023》可能細(xì)化了實(shí)驗(yàn)流程,比如增加了預(yù)處理階段的具體要求、明確了不同條件下應(yīng)采取的操作差異等,旨在提高測(cè)試結(jié)果的一致性和可靠性。
此外,對(duì)于儀器設(shè)備的要求也可能有所更新。隨著科技發(fā)展,新型高效能的分析儀器不斷涌現(xiàn),《GB/T 1558-2023》很可能推薦使用這些先進(jìn)的工具,并對(duì)其性能參數(shù)提出了更為嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)。
最后,質(zhì)量控制與保證措施也可能是此次修訂的重點(diǎn)之一。新版標(biāo)準(zhǔn)或許加強(qiáng)了對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境條件、人員技能水平等方面的規(guī)定,同時(shí)完善了質(zhì)量管理體系,確保每次測(cè)量都能達(dá)到預(yù)期效果。
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....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2023-12-28 頒布
- 2024-07-01 實(shí)施
文檔簡(jiǎn)介
ICS77040
CCSH.17
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T1558—2023
代替GB/T1558—2009
硅中代位碳含量的紅外吸收測(cè)試方法
Testmethodforsubstitutionalcarboncontentinsiliconbyinfraredabsorption
2023-12-28發(fā)布2024-07-01實(shí)施
國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布
國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T1558—2023
前言
本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)定
GB/T1.1—2020《1:》
起草
。
本文件代替硅中代位碳原子含量紅外吸收測(cè)量方法與
GB/T1558—2009《》。GB/T1558—2009
相比除結(jié)構(gòu)調(diào)整和編輯性改動(dòng)外主要技術(shù)變化如下
,,:
更改了范圍見(jiàn)第章年版的第章
a)(1,20091);
更改了術(shù)語(yǔ)和定義見(jiàn)第章年版的第章
b)(3,20093);
更改了方法原理見(jiàn)第章年版的第章
c)(4,20094);
更改了干擾因素內(nèi)容見(jiàn)年版的新增了干擾因素內(nèi)
d)(5.2、5.3、5.4、5.6,20095.2、5.3、5.4、5.6),
容見(jiàn)
(5.8、5.9、5.10、5.11、5.12、5.13);
增加了試驗(yàn)條件見(jiàn)第章
e)(6);
更改了儀器設(shè)備要求見(jiàn)年版的刪除了窗口材料和溫度計(jì)的要求見(jiàn)年
f)(7.2,20096.2),“”“”(2009
版的
6.4、6.5);
更改了樣品見(jiàn)第章年版的第章
g)(8,20097);
更改了試驗(yàn)步驟見(jiàn)第章年版的第章
h)(9,20098);
更改了精密度見(jiàn)第章年版的第章
i)(11,200910);
更改了試驗(yàn)報(bào)告見(jiàn)第章年版的第章
j)(12,200911);
增加了附錄見(jiàn)附錄
k)A(A)。
請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任
。。
本文件由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)與全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)
(SAC/TC203)
化技術(shù)委員會(huì)材料分會(huì)共同提出并歸口
(SAC/TC203/SC2)。
本文件起草單位中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所青海芯測(cè)科技有限公司天津中環(huán)領(lǐng)先
:、、
材料技術(shù)有限公司浙江金瑞泓科技股份公司山東有研半導(dǎo)體材料有限公司浙江海納半導(dǎo)體股份有
、、、
限公司布魯克北京科技有限公司中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院有色金屬技術(shù)經(jīng)濟(jì)研究院有限責(zé)任公司開(kāi)
、()、、、
化縣檢驗(yàn)檢測(cè)研究院四川永祥新能源有限公司亞洲硅業(yè)青海股份有限公司新疆新特新能材料檢
、、()、
測(cè)中心有限公司陜西有色天宏瑞科硅材料有限責(zé)任公司中電晶華天津半導(dǎo)體材料有限公司浙江
、、()、
眾晶電子有限公司義烏力邁新材料有限公司湖南三安半導(dǎo)體有限責(zé)任公司
、、。
本文件主要起草人李靜何烜坤劉立娜李素青索開(kāi)南馬春喜薛心祿張雪囡張海英孫韞哲
:、、、、、、、、、、
王彥君沈益軍趙躍王軍鋒李蘭蘭鄒劍秋徐順波李壽琴?gòu)垖氻槃?guó)霞徐巖李明達(dá)陸勇
、、、、、、、、、、、、、
皮坤林杜偉華
、。
本文件于年首次發(fā)布年第一次修訂年第二次修訂本次為第三次修訂
1979,1997,2009,。
Ⅰ
GB/T1558—2023
硅中代位碳含量的紅外吸收測(cè)試方法
1范圍
本文件描述了硅中代位碳原子含量的紅外吸收測(cè)試方法
。
本文件適用于電阻率大于的型硅單晶片及電阻率大于的型硅單晶片中代
3Ω·cmp1Ω·cmn
位碳原子含量的測(cè)試室溫下測(cè)試范圍15-3至硅中碳原子的最大固溶度溫度低于時(shí)測(cè)
(:5×10cm;80K
試范圍不小于14-3
:5×10cm)。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的內(nèi)容通過(guò)文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款其中注日期的引用文
。,
件僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于
,;,()
本文件
。
數(shù)值修約規(guī)則與極限數(shù)值的表示和判定
GB/T8170
分子吸收光譜法術(shù)語(yǔ)
GB/T8322
半導(dǎo)體材料術(shù)語(yǔ)
GB/T14264
用區(qū)熔拉晶法和光譜分析法評(píng)價(jià)多晶硅棒的規(guī)程
GB/T29057
硅單晶中碳氧含量的測(cè)定低溫傅立葉變換紅外光譜法
GB/T35306、
3術(shù)語(yǔ)和定義
和界定的以及下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件
GB/T14264GB/T8322。
31
.
背景光譜backgroundspectrum
在紅外光譜儀中無(wú)樣品存在的情況下使用單光束測(cè)試獲得的譜線
,。
注通常包括氮?dú)饪諝獾刃畔?/p>
:、。
32
.
基線baseline
從測(cè)試圖譜中碳峰的兩側(cè)最小吸光度處作出的切線
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