BST薄膜的直接感光法圖形化及其性能研究的開題報告_第1頁
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BST薄膜的直接感光法圖形化及其性能研究的開題報告摘要:BST(BaSrTiO3)是一種具有非常高介電常數(shù)、鐵電性和光學(xué)性質(zhì)的陶瓷材料,被廣泛應(yīng)用于電子器件、光學(xué)器件等領(lǐng)域。其中,BST薄膜具有很好的光電性能,可以通過直接感光法制備出具有一定結(jié)構(gòu)特征的圖案,可用于光電器件等領(lǐng)域。本文擬對BST薄膜的直接感光法圖形化及其性能進行研究。關(guān)鍵詞:BST薄膜,直接感光法,圖形化,光電性能一、研究背景和意義隨著納米技術(shù)和微納技術(shù)的發(fā)展,光學(xué)器件和光電器件越來越受到人們的關(guān)注,而高介電常數(shù)、鐵電性和光學(xué)性質(zhì)的陶瓷材料被廣泛應(yīng)用于電子器件、光學(xué)器件等領(lǐng)域。BST(BaSrTiO3)是一種具有這些特性的材料,其應(yīng)用前景非常廣闊。其中,BST薄膜具有很好的光電性能,可以通過直接感光法制備出具有一定結(jié)構(gòu)特征的圖案,可用于光電器件等領(lǐng)域。因此,對BST薄膜的直接感光法圖形化及其性能進行研究具有重要的科學(xué)意義和應(yīng)用價值。二、研究內(nèi)容和方案本研究旨在通過直接感光法制備BST薄膜,并對其進行圖形化和性能研究,具體研究內(nèi)容和方案如下:1.BST薄膜制備采用射頻磁控濺射法在K9玻璃基板上制備BST薄膜,具體工藝條件如下:Feedingtargets:BaO,SrOandTiO2Substratematerial:K9glassSputteringtemperature:700℃Argongaspressure:2.0PaSputteringpower:150W2.直接感光法制備BST薄膜圖案采用直接感光法制備BST薄膜圖案,具體方法如下:(1)BST薄膜表面覆蓋一層UV感光劑。(2)在感光劑表面上,利用光掩膜技術(shù)進行光刻,去除部分感光劑。(3)進行紫外光照射,在未被去除的感光劑表層形成具有一定結(jié)構(gòu)特征的圖案。3.BST薄膜性能測試(1)利用XRD對BST薄膜進行晶體結(jié)構(gòu)分析。(2)采用原子力顯微鏡(AFM)對BST薄膜進行表面形貌和粗糙度分析。(3)在光掩膜上,采用紫外光照射和微波燒結(jié)技術(shù)進行退火,并分析其對BST薄膜性能的影響。4.研究結(jié)果及意義通過研究,本文將獲得如下成果:(1)成功制備出BST薄膜,并通過XRD分析其晶體結(jié)構(gòu)。(2)采用直接感光法制備出了BST薄膜具有一定結(jié)構(gòu)特征的圖案。(3)利用原子力顯微鏡分析了BST薄膜的表面形貌和粗糙度,并對退火對其性能的影響進行了分析。(4)研究結(jié)果表明,BST薄膜具有良好的光電性能,可用于

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