光刻工序質(zhì)量控制技術(shù)CONTENTS目錄02光刻工藝03產(chǎn)生毛刺和鉆蝕的主要原因04針孔01課程導(dǎo)入01PARTone課程導(dǎo)入課程導(dǎo)入在制造業(yè)中，工序質(zhì)量控制技術(shù)是保證產(chǎn)品質(zhì)量和滿足客戶需求的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。通過采用先進(jìn)的工序質(zhì)量控制技術(shù)，企業(yè)能夠確保每個生產(chǎn)工序都符合預(yù)定的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)，從而降低產(chǎn)品不良率，提高整體品質(zhì)。02PARTTWO光刻工藝光刻膠的均勻性、敏感度和穩(wěn)定性直接影響到光刻圖像的清晰度和精度。均勻性環(huán)境因素如溫度、濕度和清潔度等也會對光刻工藝產(chǎn)生顯著影響。溫濕度光刻工藝浮膠是顯影或刻蝕工序中較常出現(xiàn)的一種不良現(xiàn)象。浮膠是半導(dǎo)體制造中顯影或刻蝕工序中常見的不良現(xiàn)象。它指的是光刻膠涂層在加工過程中與基材失去粘附力，導(dǎo)致部分膠層脫離或漂浮。這種現(xiàn)象的產(chǎn)生可能與光刻膠的選擇、涂布質(zhì)量以及顯影、刻蝕條件的不當(dāng)有關(guān)。例如，光刻膠與基材之間的粘附力不足、涂布不均勻或存在氣泡，以及顯影液濃度、溫度、時間設(shè)置不合理，都可能導(dǎo)致浮膠現(xiàn)象的發(fā)生。光刻工藝01.浮膠浮膠不僅影響芯片的加工質(zhì)量，還可能引發(fā)生產(chǎn)線停線整頓，造成經(jīng)濟(jì)損失。因此，工程師們需要密切關(guān)注浮膠現(xiàn)象，及時分析原因并采取有效措施進(jìn)行預(yù)防和解決。在半導(dǎo)體制造的顯影工序中，若觀察到玻璃表面的光刻膠膜皺起，呈現(xiàn)出類似橘皮的起伏，或是膠膜大片剝落，這往往是光刻膠與玻璃表面黏附不良的直接表現(xiàn)。產(chǎn)生的原因一般如下：①涂膠前玻璃表面清洗不良，表面沾有油污、水汽等；②光刻膠失效；③預(yù)烘溫度或時間設(shè)置不對，膠膜中的溶劑未完全揮發(fā)；④曝光過量或玻璃曝光前已被紫外線照射；⑤顯影時間過長或顯影液濃度過高。光刻工藝01.浮膠（1）顯影浮膠蝕浮膠是半導(dǎo)體制造工藝中常見的一個挑戰(zhàn)，它指的是在刻蝕過程中，本應(yīng)被完全去除的光刻膠殘留于圖形邊緣或特定區(qū)域的現(xiàn)象?？涛g浮膠的形成原因復(fù)雜多樣，除了與顯影浮膠原因相同外，還有下面幾點(diǎn)：①堅膜不足，膠膜烘烤熱固化不夠；②刻蝕液配比有誤，酸的比例太大；③刻蝕條件不好，如溫度過高、時間過長等，光刻工藝01.浮膠（2）刻蝕浮膠腐蝕ITO玻璃時，如何刻蝕液滲透入光刻膠的邊緣致使圖形邊緣局部被腐蝕，就會破壞ITO圖形整性。腐蝕較輕時，邊緣出現(xiàn)毛刺狀，稱為毛刺：腐蝕較重時，TO圖形局部破區(qū)重，稱為鉆蝕。光刻工藝02.毛刺和鉆蝕03PARTTHREE產(chǎn)生毛刺和鉆蝕的主要原因產(chǎn)生毛刺和鉆蝕的主要原因如下：①涂膠前玻璃清洗不凈，表面有油污、灰塵等，光刻膠在污染處與玻璃黏附性差；②光刻掩膜版不良，圖形邊緣不齊有毛刺狀缺陷；③光刻膠過濾不好，膠中有顆粒；④顯影時間過長，產(chǎn)生鉆蝕。產(chǎn)生毛刺和鉆蝕的主要原因04PARTfour針孔若玻璃基底上的光刻膠層存在微小漏洞，這些瑕疵便成為刻蝕液滲透的通道?？涛g液會精準(zhǔn)地通過這些針尖大小的漏洞，滲透至光刻膠之下，對下方的ITO導(dǎo)電層進(jìn)行局部腐蝕，從而形成被稱為“針孔”的微小孔洞。產(chǎn)生針孔的原因一般有以下幾點(diǎn)：①涂膠前玻璃清洗不凈，涂膠時，膠面有氣泡或膠與玻璃黏附性差；②光刻膠臟，本身有顆粒；③光刻膠涂層過?。虎芡扛矙C(jī)的涂覆輥臟或有缺陷，涂出的膠膜不好；⑤光刻掩膜版本身有針孔；⑥顯影液或