微電子器件與IC設(shè)計(jì)基礎(chǔ)-第2版-劉剛-陳濤-課后答案_第1頁
微電子器件與IC設(shè)計(jì)基礎(chǔ)-第2版-劉剛-陳濤-課后答案_第2頁
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文檔簡介

課后習(xí)題答案

1.1為什么經(jīng)典物理無法準(zhǔn)確描述電子的狀態(tài)?在量子力學(xué)中又是用什么方法來描述的?

解:在經(jīng)典物理中,粒子和波是被區(qū)分的。然而,電子和光子是微觀粒子,具有波粒二象性。

因此,經(jīng)典物理無法準(zhǔn)確描述電子的狀態(tài)。

在量子力學(xué)中,粒子具有波粒二象性,其能量和動量是通過這樣一個(gè)常數(shù)來與物質(zhì)波的頻率

。和波矢無建立聯(lián)系的,即

E=hu=

hu-.7

p=——n=nk

上述等式的左邊描述的是粒了的能量和動量,右邊描述的則是就了?波動性的頻率①和波矢

L

1.2量了?力學(xué)中用什么來描述波函數(shù)的時(shí)空變化規(guī)律?

解:波函數(shù)”是空間和時(shí)間的復(fù)函數(shù)。與經(jīng)典物理不同的是,它描述的不是實(shí)在的物理量

的波動,而是粒子在空間的概率分布,是一種幾率波。如果用〃伍。表示粒子的德布洛意

波的振幅,以表示波的強(qiáng)度,那么,t時(shí)刻在r附近的小體積元

A.iAvAz中檢測到粒子的概率正比于。

1.3試從能帶的角度說明導(dǎo)體、半導(dǎo)體和絕緣體在導(dǎo)電性能上的差異。

解:如圖1.3所示,從能帶的觀點(diǎn)來看,半導(dǎo)體和

空帶

絕緣體都存在著禁帶,絕緣體因其禁帶寬度較大

(6~7cV),室溫下本征激發(fā)的載流子近乎為零,所‘導(dǎo)櫛

以絕緣體室溫下不能導(dǎo)電。半導(dǎo)體禁帶寬度較小,

禁帶禁帶

只有l(wèi)~2eV,室溫下已經(jīng)有一定數(shù)量的電子從價(jià)

價(jià)格

帶激發(fā)到導(dǎo)帶。所以半導(dǎo)體在室溫下就有一定的.會滿帶::

導(dǎo)電能力。而導(dǎo)體沒有禁帶,導(dǎo)帶與價(jià)帶重迭在

?起,或者存在半滿帶,因此室溫下導(dǎo)體就具有㈤匏緣體(b)半導(dǎo)體(c)導(dǎo)體

良好的導(dǎo)電能力。

圖1.3導(dǎo)體、半導(dǎo)體和絕緣體的能帶

1.4為什么說本征載流子濃度與溫度有關(guān)?

解:本征半導(dǎo)體中所有我流子都來源于價(jià)帶電子的本征激發(fā)。由此產(chǎn)生的我流子稱為本征我

流子。本征激發(fā)過程中電子和空穴是同時(shí)出現(xiàn)的,數(shù)量相等,.%=Po=%。對于某一確定

的半導(dǎo)體材料,其本征載流子濃度為吟==NcM-J”

式中,Nc.Nv以及Eg都是隨著溫度變化的,所以,本征載流子濃度也是隨著溫度變化的。

1.5什么是施主雜質(zhì)能級?什么是受主雜質(zhì)能級?它們有何異同?

解:當(dāng)半導(dǎo)體中摻入施主雜質(zhì)后,在其導(dǎo)帶底的下方,距離導(dǎo)帝底很近的范圍內(nèi)可以引入局

域化的量子態(tài)能級。該能級位于禁帶中,稱之為施主雜質(zhì)能級。同理,當(dāng)半導(dǎo)體中摻入受主

雜質(zhì)后,在其價(jià)帶頂?shù)纳戏?,距離價(jià)帶頂很近的范圍內(nèi)也可引入局域化的受主雜質(zhì)能級。

施主能級距離導(dǎo)帶底很近,施主雜質(zhì)電離后,施主能級上的電子躍遷進(jìn)入導(dǎo)帶,其結(jié)果

向?qū)峁﹤鲗?dǎo)電流的準(zhǔn)自由電子;而受主能級距離價(jià)帶頂很近,受主雜質(zhì)電離后,價(jià)帶頂

的電子躍遷進(jìn)入受主能級,其結(jié)果向價(jià)帶提供傳導(dǎo)電流的空穴.

1.6試比較N型半導(dǎo)體與P型半導(dǎo)體的異同。

解:對同種材料制作的不同型號的半導(dǎo)體來說,具有以下相同點(diǎn):二者都具有相同的晶格結(jié)

構(gòu),相同的本征載流子濃度,都對溫度很敏感。不同點(diǎn)是,N型半導(dǎo)體所摻雜質(zhì)是施主雜質(zhì),

主要是靠電子導(dǎo)電,電子是多數(shù)載流子,空穴是少數(shù)載流子:而P型半導(dǎo)體所摻雜質(zhì)是受

主雜質(zhì),主要靠空穴導(dǎo)電,空穴是多數(shù)載流了,甩了?是少數(shù)載流了。

1.7從能帶的角度說明雜質(zhì)電離的過程。

解:雜質(zhì)能級距離主能帶很近,其電離能?般都遠(yuǎn)小于禁帶寬度。因此,雜質(zhì)能級與主能帶

之間的電子躍遷也比較容易完成。以施主雜質(zhì)為例,施主能級上的電子就是被該施主原子束

縛著的電子。它在室溫下吸收晶格振動的能量或光子的能量(只要其能量高于雜質(zhì)的電離能)

后,就可以撿脫施主原子核對它的束縛,躍遷進(jìn)入導(dǎo)帶成為準(zhǔn)自由電子。這一過程稱之為雜

質(zhì)電離。電離以后的雜質(zhì)帶有正電荷,電離以前的雜質(zhì)是電中性的。

1.8什么是遷移率?什么是擴(kuò)教系數(shù)?二者有何關(guān)系?

解:遷移率是描述載流子在電場作用下輸運(yùn)能力的一個(gè)物理量;擴(kuò)散系數(shù)是描述載流子在其

濃度梯度作用下輸運(yùn)能力的物理量。二者可以通過以F愛因斯田關(guān)系建立聯(lián)系:

-D-=-k--T

〃q

1.9說明載流子的兩種輸運(yùn)機(jī)制,并比較它們的異同。

解:載流子的輸運(yùn)機(jī)制可分為擴(kuò)散運(yùn)動和漂移運(yùn)動兩種。擴(kuò)散運(yùn)動是在半導(dǎo)體中存在載流子

的濃度梯度時(shí),高濃度一邊的載流子將會向低濃度一邊輸運(yùn)。這種運(yùn)動稱為載流子的擴(kuò)散運(yùn)

動。擴(kuò)散運(yùn)動的強(qiáng)弱與濃度梯度的大小成止比,即與載流子的分布梯度有關(guān)。漂移運(yùn)動是半

導(dǎo)體中的載流子在電場力作用下的定向運(yùn)動。其強(qiáng)弱只與電場的大小成正比,與載流子的分

布沒有關(guān)系。

1.10什么是費(fèi)米能級?什么是準(zhǔn)費(fèi)米能級?二者有何差別?

解:在熱平衡條件下,半導(dǎo)體中能量為E的能級被電子占據(jù)的幾率f(E)服從費(fèi)米-狄拉克分

1+e"

式中的EF就是費(fèi)米能級。它是一個(gè)描述半導(dǎo)體甩了系統(tǒng)中電了?填充能帶水平的標(biāo)志性參數(shù),

也稱為熱平衡系統(tǒng)的化學(xué)勢。

準(zhǔn)費(fèi)米能級是半導(dǎo)體系統(tǒng)在非平衡條件卜.(如關(guān)照或有電注入下),有非平衡載流子存

在時(shí),為了描述導(dǎo)帶電子在導(dǎo)帶各能級上的分布以及價(jià)帶空穴在價(jià)帶各個(gè)能級上的分布而引

入的一個(gè)參考量。其大小也反映了電子和空穴填充能帶的水平。值得注意的是,一個(gè)能帶內(nèi)

消除非平衡的影響僅僅需要1。-"~10*5,而少子壽命約為](TS。所以,在非平衡我流

子存在的絕大部分時(shí)間內(nèi)主能帶的電子都處于平衡分布。

1.11什么是擴(kuò)散長度?擴(kuò)散長度與非平衡少數(shù)載流了壽命有何關(guān)系?

解:擴(kuò)散長度是描述載流子濃度隨著擴(kuò)散深度增加而衰減的特征長度。擴(kuò)散長度與非平衡少

數(shù)載流子壽命的關(guān)系如下:

=

LpjDp.,Ln-y]Dnrn

1.12簡述半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電機(jī)理。

解:半導(dǎo)體的導(dǎo)電機(jī)理與金屬是不同的。金屬中只有一-種載流子(電子)參與導(dǎo)電,而半導(dǎo)

體中同時(shí)有兩種載流子(電子和空穴)參與導(dǎo)電。本征半導(dǎo)體中導(dǎo)電的載流子是由于本征激

發(fā)而產(chǎn)生的電子和空穴。它們是同時(shí)出現(xiàn)的,且%=〃()=%,兩種載流子對電流的貢獻(xiàn)相

同。但是,在雜質(zhì)半導(dǎo)體中往往有〃或者%<<Po,存在著多數(shù)載流了和少數(shù)載

流子。所以,多數(shù)載流子對電流的貢獻(xiàn)占據(jù)主要地位,而少數(shù)載流子對電流的貢獻(xiàn)卻可以忽

略不計(jì)。

習(xí)題1

1.1計(jì)算速度為10?的自由電子的德布洛意波長。

初)hh6.626x1034…\

解:X=—=—=------------T:-------=7.28x10

pmv9.IX10-3IXI05r'

1.2如果在單晶硅中分別摻入IO"/。/的磷和]0i5/c〃『的硼,試計(jì)算300K時(shí),電子占據(jù)

雜質(zhì)能級的概率。根據(jù)“?算結(jié)果檢驗(yàn)常溫卜.雜質(zhì)幾乎完全電離的假設(shè)是否正確。

解:查表可知,磷作為硅晶體中的施主雜質(zhì),其電離能為△ED=O.O44CV,硼作為硅晶體

中的受主雜質(zhì),其電離能為AEA=0-N5eV。于是有

ED-EF=ED-E/=-^-AED=0.56-0.044=0.516(^V)

能級為ED的量子態(tài)被被電子占據(jù)的幾率為

上述結(jié)果說明,施主能級上的電子幾乎全部電離。

能級為EA的量了?態(tài)被空穴占據(jù)的幾率為

I

=2.4x109

0.515

+1

0.026

上述計(jì)算結(jié)果說明受主能級上的空穴幾乎全部被電離。

1.3硅中的施主雜質(zhì)濃度最高為多少時(shí)材料是非簡并的。

解:若假設(shè)非簡并的條件為那么,非簡并時(shí)導(dǎo)帶電子濃度為

iy2IS3

nQ=Ncexp,味、=/exp^^-1=2.8xlOf=3.8x1O(C777)

\kT)\kT)

非簡并時(shí),最高施主雜質(zhì)濃度為

=3.8x10%〃尸)

1.4某單晶硅樣品中每立方厘米摻有](y5個(gè)硼原子,試計(jì)算300K時(shí)該樣品的準(zhǔn)自由電子濃

度、空穴濃度以及費(fèi)米能級。如果摻入的是磷原子它們又是多少?

,53

解:硼原子摻入硅晶體中可以弓I入受主雜質(zhì),材料是P型半導(dǎo)體:NA=IOcw-

該樣品的空穴是多子,其濃度為PQ=3=1015cm凸

53

申子是少子,其濃度為*=,=-------L=1.04X10(C/H-)

九10"

費(fèi)米能級為

i()15

E-A:TinPo=(eV)E/-0.026In=E.-0.299eV

EF=t

J,,1.02x100

即費(fèi)米能級在本征費(fèi)米能級的下方0.299eV處。

1.5某硅單晶樣品中摻有的硼、10160〃-3的磷和]015刖?-3錢,試分析該材料是N

型半導(dǎo)體還是P型半導(dǎo)體?準(zhǔn)自由電了和空穴濃度各為多少?

解:由硼、磷、錢摻入硅中分別成為受主、施主和受主,它們在硅晶體中引入的雜質(zhì)濃度依

,63

次為N..=10cm-、ND=1016cm-、N=⑷隈加-

由于N*+N4一N。=10&77廣3>(),即受主原子總數(shù)大于施主原子總數(shù),所以該材料

是P型半導(dǎo)體。此時(shí),硅材料中

,53

空穴濃度為/?0=ioc//r

準(zhǔn)自由電子濃度為%=£=(1。B105(cm")

1.6有兩塊單晶硅樣品,它們分別摻有10匕。7戶的硼和磷,試計(jì)算300K時(shí)這兩塊樣品的電

阻率,并說明為什么N型硅的導(dǎo)電性比同等摻雜的P型硅好。

解:查P.22圖1.4.2可得空穴遷移率=4()0C7"2/(V.S),電子遷移率

?I200C7?7(V-5)

于是,摻硼的單晶硅電阻率為0,二—!一=—.------!----------=15.625Qc/n

10”xl.6xl(T“x400

摻磷的單晶硅電阻率為p,}=——=—n------------------=5.208Ccm

0%偌.10,3X1.6X10-19X120CI

因?yàn)殡娮拥倪w移率大于空穴的遷移率,所以在其它條件不變的情況下,N型硅的導(dǎo)電性較P

型硅的導(dǎo)電性高。

1.7實(shí)驗(yàn)測出某均勻摻雜N型曜的電阻率為,試估莽施主雜質(zhì)濃度。

解:本查P.301附錄A可得ND=2.3X10,5CW-3,再查P.22圖1.4.2可得電子的遷移率為

?1200c/n7(V-5)o則施主雜質(zhì)的濃度為

=2.6xl015(c/n-3)

19

pnq/.in-2x1.6x10x1200

1.8假設(shè)有一塊摻有施主雜質(zhì)的硅樣品,其截面積為0.2”〃X0.5A〃,長度為

如果在樣品兩端加上5V電壓,通過樣品的電流有多大?電子電流與空穴電流的比

值是多少?

,83

解:摻有施主雜質(zhì)濃度的硅樣品,其電子濃度為%=ND=10(C/W-),

再查P.22可得電子的遷移率4h380c7〃7(Vr),于是,該材料的電導(dǎo)率為

,819

G=nMin=10xl.6xl(FX380=60.8%cJ

在該樣品兩端加上5V電壓后的電場強(qiáng)度為E=y=2.;0_4=2.5x104(V/cw)

42

于是,電子電流密度為jn==60.8x2.5x10=1.52xlO^/l/cw)

如果在樣品兩端加上5V電壓,通過樣品的電流為

/?=-A=1.52xl06x0.2x104X0.5X10-4=1.52x10。⑷

平衡空穴濃度為〃。=?==104.04(c/?-3)

再查P.22圖1.4.2可得空穴遷移率為〃。近90。〃2/(\八5),于是電子電流與空穴電流的比

值為

二訕=叱遜2=1.92x1(嚴(yán)

Ip〃必,104x190

1.9有一塊摻雜濃度為10i7crn3的N型硅樣品,如果在\pm的范圍內(nèi),空穴濃度從1cm-3

線性降低到1013c.m-3,求空穴的擴(kuò)散電流密度。

解:查P.22圖1.4.2可得當(dāng)N=10,7<?/?-3時(shí),=2l()(c/??7v,$),所以

Dp=-〃〃=0.026x210=5.46(》//5)

型=且*=則口竺=9.99x09(1/而)

dxAr10'4'>

192

jp=qDp黑=1.6x10"x5.46x9.99x10=87.3(A/C/7Z)

1.10光照射在一塊摻雜濃度為1017cm-3的N型硅樣品上,假設(shè)光照引起的載流了?產(chǎn)生率為

1013cM求少數(shù)載流子濃度和電阻率,并畫出光照前后的能帶圖。已知乙=金=2心:

2

=1350cnrUy?s),4〃=5(X)C7?/(V?S),ni=1.5x10用c"'。

解:

7

〃o=ND=101c〃/3,

13

n=n0+A/??IOcm

%上空%L2250M

7

NDIO'

少數(shù)載流子濃度為〃=〃0+△〃=2250+2xio7?2x10〈C”門)

電導(dǎo)率為

cr=〃//+pq%=10l7xl.6xlO-19x1350+2x107x1.6x1019x500

=21.6+1.6x109?21.6(s/cm)

電阻率為夕=L=—=4.63x102(。.cm)

a21.6

1.11寫出下列狀態(tài)下連續(xù)性方程的簡化形式:

(1)無濃度梯度、無外加電場、有光照、穩(wěn)態(tài):

(2)無外加電場、無光照等外因引起載流子的產(chǎn)生,穩(wěn)態(tài)。

解:以P型半導(dǎo)體為例,電子為少數(shù)載流子,完整的連續(xù)性方程為

dn加dE

~dt

(1)無濃度梯度、無外加旦場、有光照、穩(wěn)態(tài)情況下上式可以簡化為

G.二R

因?yàn)闊o濃度梯度,所以含有濃度梯度的項(xiàng)均等于零,即

D〃

2+〃”嗎=°

dxCX

因?yàn)闊o外加電場,所以,含有電場的項(xiàng)也為零,即

加dE

=0

ox+dx

又因?yàn)橛泄庹?,所以產(chǎn)生率G不等于零:因?yàn)橛懻摰氖欠€(wěn)態(tài)情況,,所以,我流子濃度不隨

時(shí)間變化

羽=0

dt

(2)同理,無外加電場、無光照等外因引起載流子的產(chǎn)生,穩(wěn)態(tài)情況下連續(xù)性方程可以

簡化為

OF二〃一%

**Tn

對于空穴來說,根據(jù)空穴的連續(xù)性方程

冬=?!?£?一〃〃七?一人,〃孚+6,,-匕”,作相應(yīng)的簡化,同樣可以得到

otdx~OXOXTp

⑴G〃=j和⑵“篤=匕]

2

Prn°dxr?

第二章

思考題:

2.1PN結(jié)的如散電勢。哪些因素有關(guān)?

LTNN

答:由擴(kuò)散電勢的表達(dá)式匕,=—可知,擴(kuò)散電勢VD與PN結(jié)兩邊半今體材料的

q〃,

摻雜濃度N”、N、,以及該材料的本價(jià)栽流子濃度〃,有關(guān),而不征我流子濃度〃,乂。材料

的塔帶寬度和環(huán)境溫度有關(guān)?并且不同的材料乂具有不同的禁帶寬度,所以,擴(kuò)散電勢還與

材料的種類和溫度有美。

2.2前述PN結(jié)加正向電壓和反向電壓時(shí)其能帶圖會發(fā)生什么變化?為什么?

答:PN結(jié)零偏、正偏和反偏近的能帶圖見圖2.1

<a)PN絡(luò)字偏

圖2.1PN結(jié)靛帶圖

如圖2.1a所示:當(dāng)PN結(jié)零偏時(shí),有統(tǒng)的費(fèi)米能級,由JPN結(jié)內(nèi)建電場的存在,使

勢坐乂兩邊的能帶有一定的高度差,其大小等于4匕,.同時(shí),在本偏壓.卜,勢皇M也有一定

的寬度,其大小為.%?

加圖2.1b所示:當(dāng)PN結(jié)加上正向電壓/時(shí),外部電場的方向與內(nèi)建電場的方向相反,

它削弱了內(nèi)定電場,使勢/高度由原來的dV卜降到,/(乙一匕).此時(shí),勢皇寬度也由原來

的4減少到4。

如圖2.1c所示:當(dāng)PN結(jié)加上反向電壓時(shí).外部電場的方向與內(nèi)建電場的方向相同.

它使得內(nèi)建電場加強(qiáng),所以,外坐高度由q匕,上升到4(匕,+匕),空間電荷區(qū)寬度也由.J增

加到xm

習(xí)題

,7

2.1現(xiàn)IT硅、鋅PN結(jié)各一,其摻雜濃度均為N〃=5乂10,力尸、NA=10cm\求300K

時(shí)的匕,各為多少?說明為什么會有這種差別?

解:對硅PN解?室溫卜山=l.5x10久力尸

九=竺一崢=0.026二平乂,=0.739僅)

q<(i.5xio,0)-

對楮PN結(jié)〃,=2.4乂10,,m-3

5XlO,$Xl(7

V。=ALInML=o,o26inz;=O.356(V)

q<(2.4x10*-

可見城的擴(kuò)散電勢比楮大,這是因?yàn)轸陌珟挾缺辱螅菊魑伊饔跐舛缺辱?

2.2證明通過PN結(jié)的空穴電流與總電流之比為土=1+二區(qū)

/\<rp“Ln

證明:流過PN結(jié)的電流由門克萊方程決定:

其中,空穴電流為:

/,=A也2“...........(2.2)

利用〃w產(chǎn)〃:、/;以刈曲…Ov=p兇以及愛囚斯坦關(guān)系。二—4,山(2.1)、(2.2)

兩式可得空穴電流與總電流之比為

-3-

可以改寫為

(i+/,r41"AL〃,,

LTLT

證明:利用愛因斯坦關(guān)系/)“=——4、億=——4?質(zhì)量作用定律n⑷pg=n.p面=n:

qq

?

電導(dǎo)率公式%=PmqAp、?=n而叫、0=q*1,+4)以及〃區(qū)可得

%

qD/內(nèi)?qDpPwn;kT

+“以〃

L“Lpq

---1------1_生

=-------+----------q"承3”"4

(y?LHcrJ

+---kT

O.LTJq

g-zz./z(|kT_a;bkT

L”+〃jl%L■JqS+i)P/.■Jq

2.4PN結(jié)兩邊雜質(zhì)濃度利寬度均相等.且兩邊寬度小于相應(yīng)的少子擴(kuò)散長度.試證明正向

空穴電流和電,.電流之比為,如果兩邊寬度為人J相應(yīng)的爐散K度,結(jié)

果如何?

證明:如果PN結(jié)兩邊寬度大于少于擴(kuò)散長度,當(dāng)PN結(jié)正向偏置時(shí),通過PN結(jié)兩側(cè)注入的

少數(shù)載流于一邊擴(kuò)散,一邊更合,在一個(gè)少子擴(kuò)散長度范困內(nèi)囚旦合消失向形成擴(kuò)散電流,

這也就是PN結(jié)的正向電流?根據(jù)竹克萊方程,當(dāng)PN結(jié)正向偏樂為V時(shí),PN結(jié)正向空穴電

流〃和電子電流/“分別為

「型"優(yōu)和一也團(tuán)優(yōu)」

I))

利用公式Pm=*、!1兇=去以及己知條件%〃="4,空穴電流和電f電流之比為

二檔小

IPL_DgL?NA^D,.LnNA_D?L?

--

1JL也“ALpNbDji;-必DnDnLp

當(dāng)PN結(jié)兩邊寬度小于相應(yīng)的少子擴(kuò)散匕度時(shí),從PN結(jié)邊界注入的少數(shù)載流子向兩邊作

Jf敞運(yùn)動,在到達(dá)歐姆接觸電極處時(shí)遇到了電子或空穴的勢阱,所以在電極歐姆接觸處少子

的濃度應(yīng)該治近于零。設(shè)兩邊寬度均為W,則電子和空穴的濃度梯度分別近似為

一巴0訐-1和E&e訐-I,于是電子電流和空穴電流分別為

W(JW【)

也貯儲力和為5

卬}W

同樣利用公式Pw=3、*和已知條竹N0=N4,則TT

MNI

2.5frtPN結(jié)N區(qū)電阻率/“=50,?cm%r/(=\ps?P區(qū)電限率pp=O.lQcw?Tn=5/Js

,計(jì)算3OOK時(shí)反向飽和電流密度、空穴電流與電子電流之比以及正向O.3V和O.7V時(shí)流過

PN結(jié)的電流密度。

,5-3

解:由圖1.4.8位得=5。cm時(shí),=l.lxlOcm;

p?=0.1*cm時(shí),%=6x10"cw',

再由圖1.4.6查得室溫卜N區(qū)空穴的遷移率/=450c7n2/i,s;P區(qū)電子的遷移率

-5-

=5(X)t7w?/v-s

由此可得?!?//?—=500x0.026=1乂刖%)

q

Dp=u—=450x0.026=1\.l(cnr/s)

q

3

Ln==Vl3x5xio^=8.06XI0-(C/H)

I"=金=Jl1.7x10、=3.42xl0-3(cm)

(l.5xlO10)2(1.5x10町

=l.6xlOIMxl3x+I.6XI0-19x11.7x

6X107X8.06X10-3MxlO,sx3.42xlO-3

=9.677x10M+1.12xlCr,0=1.121x10-,°(A/cnr)

利用上式的中間結(jié)果,空穴電流與電子電流之比為

J”_qD"“QL1.12x107。I?

九匕qD.,i29.677x10”

正偏0.3V時(shí)流過PN結(jié)的電流密度為

%=A)即-1=1.12lxlO-,ox=1.15x1。"(板J)

正偏0.7V時(shí)流過PN處的電流密度為

17102

J07=jJe-1=L121xlO-x。麗-1=55.2(A/CW)

i2

2.6Si的P'N結(jié)中=10汽〃/3Dp=13cm7s.Lp=2x10^cm.A=\Ocm,若

規(guī)定..極管正向電流達(dá)到0.1mA時(shí)的電壓為闌值電壓?向該P(yáng)N結(jié)閾衽電壓匕是多少?

參數(shù)相同的楮PN結(jié)匕是名少?

解:P*N像的反向飽和電流主要是N區(qū)少子(空穴)的擴(kuò)放電流,忽略P?區(qū)少子擴(kuò)敝電流,

-6-

可以得到

4=皿&=q>,」一=1.6XI0-,9XI3X?干叫=2.34x10-"(A/cm?)

°”rLp”PNJ,I0,6X2XI0-39'

山H克萊方程/=A/J一1]可以得到閨值電壓為

O.lxlQ-34

匕=竺疝+—=0.026InI=0.696⑺

AIS-H

q10-X2.34X10Y

對參數(shù)相同的楮PN結(jié).人衣達(dá)式中的〃,由1.5x10“'改為2.4x10''em-3,經(jīng)過相同的計(jì)算

得到:

(2.4XI01-)2

=5.99xl0-5(4/tm2)

3叫爭=叫1.6x10,9XI3X

I0,6X2X10-3

3

—Inil+—=0.026InIO.lxlQ-

^IO-$x5.99xlO\=O.3I3(V)

4IAJJ

經(jīng)過比較可知,銘PN結(jié)的閾值電壓不及是PN結(jié)的一半。

2.7位、然PN結(jié)各一、摻雜濃度均為N、=1。|,桁7、=IO,5cw_,.NIX的壽命

5

Tp=10-5.11Wa?L[t.300K下N小化中外=45cvn7s.N?W任中

D?=l3cnr/s.求外加偏壓為-5V時(shí),反向飽和電流和勢空區(qū)產(chǎn)生也流各為多少?從

中可以得出什么結(jié)論?

解:根綱題目給出的PN結(jié)摻雜濃度(ND與N,、相差3個(gè)數(shù)能級)可以近似認(rèn)為該P(yáng)N結(jié)是單

邊突變結(jié)。對于硅PN結(jié),材料常數(shù)吃=1.5x101,“-,£,=11.9.室溫下的擴(kuò)散電勢為

小竺加娶…"。隈叫=O.757(V)

qn;(1.5x10'0)-

耗盡層寬度近似為

l2gf,(V,-V)J2X8.85x10*i11.9x(0.757+5)

oz==2.75x104(cm)

V菽)~V1.6X10-19X10,$

勢幺區(qū)產(chǎn)生電流為

勢必區(qū)產(chǎn)生電流為

1.6x10l9x2.75xlO4xl.5xlO10

=3.3x10a(4/cw;)

~^72XI0-5

反向飽和電流為

n2n2

J=qD?—=ql),——i=

s'NJ,"N"際;

=1.6x10^x13x—225x10-------=4.1xl0_,,(4/tw:)

10,5xVl3xl0-5

比較上述結(jié)果可知:徒PN結(jié)的反向電流中產(chǎn)生電流遠(yuǎn)大「反向飽和電流,二哥相差3個(gè)數(shù)

量級.

對錯(cuò)PN結(jié),材料常數(shù)為匕=2.4xl0"cm-\£,=16

作類似的計(jì)算可得匕)=0.374

2x8.85x10-14xl6x(0.374+5)

=3.08xIO-4(cm)

1.6x10,9X1O15

勢皇區(qū)產(chǎn)生電流為

JG=等J6.UF等yX2.4XI?!?5.92xC用

反向飽和電流為

22

Js=qD——=qD-----,

,NJ,〃N即7

=1.6x10,9X45X(24:I?!梗?).955x10,(〃卅)

IO,5XV45XIO'5

比較上述結(jié)果可知?硅PN結(jié)反向電流以產(chǎn)生電流為I,而豬PN結(jié)反向電流卻以反向飽和電

流為主?這是由于網(wǎng)和材料的禁帶寬度不同,本征我流行衣度的差異所用起的。

2.8①計(jì)內(nèi)溫度從300K帶加至400K時(shí),硅PN結(jié)反向電流增人多少倍;②如果25c時(shí)某缽

PN結(jié)反向電流為10川.當(dāng)溫度上升到45C時(shí)反向電流TT多大(時(shí)0。=1.170。丫)?

解:①.在半導(dǎo)體物理學(xué)中本征戰(zhàn)流了濃度又可以&述為

__

n:=KTye~.............(2.3)

其中K為,溫度無關(guān)的常數(shù).磯PN結(jié)反向電流以產(chǎn)生電流為主.故仃

,G(7')=A=IgKTe2kr

設(shè):300K時(shí)硅的產(chǎn)生電流為匕(300),400K忖硅的產(chǎn)生電流為Ic(400),那么仃

上式說明:溫度從300K增加至400K時(shí),硅PN結(jié)反向電流增大438.9倍

②.楮PN結(jié)反向電流以復(fù)合電流為主,公式裝述為

溫度從25C上升至45c范國內(nèi).上式右邊變化最大的因子是木。戢流了濃度,其它因「的影

響可以忽略。

利用式(2.3)并目.符(2.4)式中與溫度無關(guān)的部分用常數(shù)4(0)表示,則(2.4)式可以簡化

/。(7)=/。(0獷丫常.................(2.5)

于是25c時(shí)楮PN結(jié)反向電流為

/。(25)=令=(273+25fexpf-―—一一7"”。⑼

0041.38x100x(273+25"'

,3

=4.499x10/o(0)

45U時(shí)楮PN結(jié)反向電流為

/。的=/。(。睚令=(273+45fexp■舟畿罌三就(0)

[1.38x10〃x(273+45〃

=9.576x10乜(0)

13

/0(25)4.499xl0-I0/M

=12=由此可以解出45,C時(shí)佬PN結(jié)的反向電流為

/0(45)9.576x10/(>(45)

/。(45)=213網(wǎng)

2.9室溫下測得楮和破的PN結(jié)在丫=-5丫時(shí)的反向電流:楮為1川,主要是擴(kuò)散分量;破

為10M,主要是產(chǎn)生分量,忽略及面漏電流.求在100C和V=-5V下兩個(gè)PN結(jié)的反

向電流。

解:設(shè)密溫等于300K,I00C則畢于373K,利用上鹿的結(jié)果,可以得到楮PN結(jié)在宅溫與I00C

卜反向電流的比值為

/。(300)_g6?!?00丫」II

,373。

將木也給出的己知條件代入上式可得

10-,300丫1.I7XL6XI0-'Y1_____1_^_

0.52xl.43xl0-4=7.46x10-5

兒(373)<373;L38XICT”—[麗一市J廠

/i1001C和V=-5V卜銘PN結(jié)的反向電流為

4由步訴而期OOM八)(2.6)

對于硅PN結(jié)主要是產(chǎn)生電流分量,所以行

I3I3%

/G(T)=A^K^e赤=/G°KW擊

2T

兒(300)=8.64x107

兒(373)

將本虺給出的已知條件代入上式可用100C和V=-5V下徒PN結(jié)的反向電流為

〃(300)_10x10"

4(373)二=1.16x10^(4)(2.7)

8.64x10s-8.64x10

2.10理想硅UN結(jié),N〃=IO%"3,在]丫正偏壓下,求N型中性區(qū)內(nèi)存注的少數(shù)我流

子總量。設(shè)該P(yáng)+N結(jié)面枳為lOTsJ,N型中性區(qū)K度為I僅〃,空穴獷放K度為54"

解:由心口給出的已知條件可知:N區(qū)寬度W=1〃m=IO4cm,空穴擴(kuò)散K度

L=5//m=5xl0'4cm.閃為W?L,所以N區(qū)少子呈三角形分布.

當(dāng)正向偏山等于IV.NMl參雜濃度N〃=10隈〃尸時(shí),室溫卜NMPN結(jié)邊界處少子濃度可

以計(jì)算為

〃“⑹”,聲=/xp[等卜叵需LxP(麻卜LI37XIO%L)

-10<

當(dāng)P'N結(jié)面積為A=N區(qū)存儲的少數(shù)赧源于總量可以HW為:

;)I04XI.I37XI02,XI0^

AP0(OW==5.69xIO12

7

2.11城擴(kuò)散PN結(jié),結(jié)面枳為10-,小,結(jié)深為3"〃,襯庭濃度為Nu=l(T,切表面

濃度為憶=10汽〃廠.外加電壓丫=-1(川,通過計(jì)算比軌勢令電容取哪種近似值更

為合班?若結(jié)深為其余參數(shù)不變,做哪種近似介理?

%:①.在突變結(jié)近似下,耗盡層電荷總量為

Q=4M2"%包=4向前前R)

突變結(jié)近似卜的勢砧電容為

-1915-4

dQAIqN^E,_/1.6xIOx10x8.85xIO'x11.9

1A5=2.9X10|4(F)

行=M而EaV-------雙正----------

注意:突變結(jié)近似卜的勢必電容。結(jié)次沒有美系:

②.在線性緩變結(jié)近似下

5

.-揚(yáng)14N°14xlO'4.6XI019(CT?^).....(,ry=3xlO^cw)

線性系數(shù)。=-----=--------=IQ/-4\

x.Xj[1.4x10(cm}.....(xy=10x10cm)

招上述a的il學(xué)結(jié)果代入勢金電容公式可行

3

4a(在J59x8.85x10*)2

—12(0.7+10)

3.99x10*伊).....(x.=3/zrn)

2.68X10M(F)............(xj=10/^n)

③.利用*=稱=10-,(_==杏閱武四在編《雙極型和場效應(yīng)

?2

品體管》p.40圖1-41(b)用a=3/zr〃時(shí)Cr=3.2xlOPf/cw:x)=10/zw時(shí)

2

Cr=2.6x10'PF/cm,乘以PN結(jié)面枳(10%〃/)后得到,=3"〃時(shí)

-11-

w

Cr=3.2xlOF,Xj=IOpnlHCr=2.6x10*尸.

④.將①、②計(jì)算的結(jié)果與③的實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行比較可知:當(dāng)乙二3那〃時(shí),突變結(jié)近似較為合

理:當(dāng)u=IO"rn時(shí),緩變結(jié)近似較為合理。

2.12把一個(gè)P+N結(jié)ST.極管作變?nèi)荻O管用,結(jié)兩側(cè)摻雜濃度分別為N.=1(/7〃「3、

N〃.極管面枳0.01c/?①求在匕=山及5V時(shí)極管的電容:②計(jì)”

用此變?nèi)荻O管及L=2〃;〃的儲能電路的共振收率.

解:①.求在匕="及5V時(shí)二極管的電容

該P(yáng)N結(jié)的舊核電勢為

小乎竿=0.026E卷粉=。⑻7⑺

匕?二W及5V時(shí)二極管的電容分別計(jì)算如下

AI_o3x]L6x1Lx10"x8.85x10*x1。9

=V2(小匕)=X2x(0.817+匕)

6.8以10川伊)?揚(yáng).?…=IV)

3.81xl()T(F>W…牝=5V)

②.計(jì)并用此變?nèi)荻O管及L=2m”的儲能電路的共振頻率.

5

,II[4.31XI0(//Z)......(VA.=IV)

2mg2T2xl0TC715.77x10sHz......(V,=5V)

第三章

思考題:

3.1HillNPN雙方,散外延平血管的戕制結(jié)構(gòu)圖,并【L標(biāo)明K相應(yīng)縱向結(jié)構(gòu)參數(shù)的名稱,

答:所謂雙擴(kuò)散外延平面管就是在外延片上經(jīng)過兩次擴(kuò)散工藝形成的晶體管,NPN雙擴(kuò)散外

延平面管的截面結(jié)構(gòu)如圖3.1所示:

S3.1NPN雙擴(kuò)散外延平面晶體管剖面結(jié)構(gòu)

X*為發(fā)刎結(jié)的結(jié)深,I人為它始在第二次擴(kuò)散中形成的,所以乂稱為次如攸結(jié)深;X、

為集電結(jié)的結(jié)深,因?yàn)樗窃诘谝淮螖U(kuò)散中形成的,所以乂稱為一次擴(kuò)散結(jié)深:wcpi為外延

層的厚度;Wb和Wc分別為從M寬度和集電X寬度.

3.2試論BJT為什么冗布對微弱電信號的放大能力?怎樣提高BJT的也沆放大系數(shù)?

答:以共射極接法為例,發(fā)射展的多數(shù)放流子注入到把M就成為卷區(qū)的少數(shù)載流了并在整區(qū)

作擴(kuò)散運(yùn)動.它們邊擴(kuò)散邊第公.由于基區(qū)很薄,除了極少數(shù)的少數(shù)我沆「,密區(qū)的多

數(shù)載流子五會形成冰極電流外.絕大多數(shù)少數(shù)我流「都能夠渡越基區(qū),到達(dá)集電結(jié)的邊界并

被集電極收集形成集電極電流:綜上所述,基極電流的微小變化就可以引起集電極電流很大

的殳化,這也就讓BJT具TT對微弱電信號的放人能力的原因所在。為」.提高BJT的電沆放人

系數(shù),可以采取以下措

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