2025年無(wú)損檢測(cè)員（中級(jí)）無(wú)損檢測(cè)員理論知識(shí)鑒定試卷考試時(shí)間：______分鐘總分：______分姓名：______一、單項(xiàng)選擇題（本大題共25小題，每小題2分，共50分。在每小題列出的四個(gè)選項(xiàng)中，只有一項(xiàng)是最符合題目要求的，請(qǐng)將正確選項(xiàng)的字母填在題后的括號(hào)內(nèi)。）1.無(wú)損檢測(cè)的基本原理不包括以下哪一項(xiàng)？A.利用材料的聲學(xué)特性B.利用材料的電磁特性C.利用材料的化學(xué)成分D.利用材料的光學(xué)特性2.超聲波檢測(cè)中，常用的脈沖反射式超聲波探傷儀的組成部分不包括：A.探頭B.發(fā)射電路C.接收電路D.濾波器3.在射線檢測(cè)中，使用膠片進(jìn)行檢測(cè)時(shí)，通常需要使用增感屏，其主要作用是：A.增強(qiáng)射線的穿透能力B.增加膠片的感光速度C.提高膠片的分辨率D.延長(zhǎng)膠片的保存時(shí)間4.磁粉檢測(cè)中，磁粉的種類不包括：A.干式磁粉B.濕式磁粉C.液體磁粉D.半導(dǎo)體磁粉5.液體滲透檢測(cè)中，滲透劑的種類不包括：A.油性滲透劑B.水性滲透劑C.化學(xué)滲透劑D.氣體滲透劑6.超聲波檢測(cè)中，常用的工作頻率范圍是：A.0.1MHz~1MHzB.1MHz~10MHzC.10MHz~100MHzD.100MHz~1GHz7.射線檢測(cè)中，常用的射線源是：A.X射線源B.α射線源C.β射線源D.γ射線源8.磁粉檢測(cè)中，磁粉探傷機(jī)的類型不包括：A.干式磁粉探傷機(jī)B.濕式磁粉探傷機(jī)C.自動(dòng)磁粉探傷機(jī)D.手動(dòng)磁粉探傷機(jī)9.液體滲透檢測(cè)中，顯像劑的種類不包括：A.干粉顯像劑B.水性顯像劑C.化學(xué)顯像劑D.氣體顯像劑10.超聲波檢測(cè)中，常用的探頭類型不包括：A.直探頭B.斜探頭C.曲探頭D.電磁探頭11.射線檢測(cè)中，常用的膠片類型不包括：A.常規(guī)膠片B.特種膠片C.數(shù)字膠片D.光致膠片12.磁粉檢測(cè)中，磁粉探傷前的預(yù)處理不包括：A.清潔表面B.除去油污C.除去氧化皮D.除去磁粉13.液體滲透檢測(cè)中，滲透劑的清洗時(shí)間通常為：A.5秒B.10秒C.30秒D.60秒14.超聲波檢測(cè)中，常用的脈沖重復(fù)頻率（PRF）范圍是：A.0.1kHz~1kHzB.1kHz~10kHzC.10kHz~100kHzD.100kHz~1MHz15.射線檢測(cè)中，常用的曝光時(shí)間范圍是：A.0.1秒~1秒B.1秒~10秒C.10秒~100秒D.100秒~1000秒16.磁粉檢測(cè)中，磁粉探傷后的清洗時(shí)間通常為：A.5秒B.10秒C.30秒D.60秒17.液體滲透檢測(cè)中，顯像劑的干燥時(shí)間通常為：A.5分鐘B.10分鐘C.30分鐘D.60分鐘18.超聲波檢測(cè)中，常用的距離波幅曲線（DAC）不包括：A.DAC曲線B.AC曲線C.DC曲線D.RC曲線19.射線檢測(cè)中，常用的靈敏度指數(shù)（ASL）不包括：A.ASLB.ARLC.ASRD.ARA20.磁粉檢測(cè)中，磁粉探傷前的預(yù)熱溫度通常為：A.100℃B.200℃C.300℃D.400℃21.液體滲透檢測(cè)中，滲透劑的溫度通常為：A.0℃B.20℃C.40℃D.60℃22.超聲波檢測(cè)中，常用的缺陷指示長(zhǎng)度（PWL）不包括：A.PWLB.PDWC.PDDD.PDP23.射線檢測(cè)中，常用的像質(zhì)指數(shù)（IQI）不包括：A.IQIB.IQLC.IQDD.IQE24.磁粉檢測(cè)中，磁粉探傷后的檢查時(shí)間通常為：A.5分鐘B.10分鐘C.30分鐘D.60分鐘25.液體滲透檢測(cè)中，滲透劑的清洗方法不包括：A.噴洗B.擦洗C.浸洗D.滾動(dòng)二、多項(xiàng)選擇題（本大題共10小題，每小題3分，共30分。在每小題列出的五個(gè)選項(xiàng)中，有多項(xiàng)符合題目要求，請(qǐng)將正確選項(xiàng)的字母填在題后的括號(hào)內(nèi)。若漏選、錯(cuò)選、多選，則該小題無(wú)分。）1.超聲波檢測(cè)中，常用的探頭材料包括：A.碳化鍺B.壓電陶瓷C.鈮酸鋰D.鍺酸鉍E.硫化鋅2.射線檢測(cè)中，常用的射線防護(hù)措施包括：A.使用鉛衣B.使用鉛屏風(fēng)C.使用鉛眼鏡D.使用鉛手套E.使用鉛圍脖3.磁粉檢測(cè)中，常用的磁粉探傷方法包括：A.干式磁粉探傷B.濕式磁粉探傷C.自動(dòng)磁粉探傷D.手動(dòng)磁粉探傷E.液體滲透探傷4.液體滲透檢測(cè)中，常用的滲透劑類型包括：A.油性滲透劑B.水性滲透劑C.化學(xué)滲透劑D.氣體滲透劑E.半導(dǎo)體滲透劑5.超聲波檢測(cè)中，常用的缺陷類型包括：A.表面缺陷B.內(nèi)部缺陷C.裂紋D.孔洞E.夾雜物6.射線檢測(cè)中，常用的缺陷類型包括：A.表面缺陷B.內(nèi)部缺陷C.裂紋D.孔洞E.夾雜物7.磁粉檢測(cè)中，常用的缺陷指示類型包括：A.磁痕B.磁斑C.磁紋D.磁點(diǎn)E.磁線8.液體滲透檢測(cè)中，常用的缺陷指示類型包括：A.滲透痕跡B.滲透斑痕C.滲透條紋D.滲透點(diǎn)痕E.滲透線痕9.超聲波檢測(cè)中，常用的檢測(cè)設(shè)備包括：A.超聲波探傷儀B.超聲波探頭C.超聲波校驗(yàn)塊D.超聲波測(cè)厚儀E.超聲波顯微鏡10.射線檢測(cè)中，常用的檢測(cè)設(shè)備包括：A.射線探傷機(jī)B.射線膠片C.射線校驗(yàn)塊D.射線像質(zhì)儀E.射線防護(hù)設(shè)備三、判斷題（本大題共15小題，每小題2分，共30分。請(qǐng)判斷下列說(shuō)法的正誤，正確的填“√”，錯(cuò)誤的填“×”。）1.超聲波檢測(cè)中，超聲波在介質(zhì)中的傳播速度是恒定的。2.射線檢測(cè)中，射線穿透能力越強(qiáng)，所需的曝光時(shí)間就越短。3.磁粉檢測(cè)中，磁粉探傷前必須對(duì)被檢工件進(jìn)行清潔，以確保檢測(cè)效果。4.液體滲透檢測(cè)中，滲透劑的溫度越高，滲透效果越好。5.超聲波檢測(cè)中，常用的探頭類型包括直探頭、斜探頭和曲探頭。6.射線檢測(cè)中，常用的膠片類型包括常規(guī)膠片、特種膠片和數(shù)字膠片。7.磁粉檢測(cè)中，磁粉探傷后的檢查必須在暗處進(jìn)行，以便觀察磁痕。8.液體滲透檢測(cè)中，顯像劑的干燥時(shí)間越長(zhǎng)，滲透效果越好。9.超聲波檢測(cè)中，常用的距離波幅曲線（DAC）用于校正探傷儀的靈敏度。10.射線檢測(cè)中，常用的靈敏度指數(shù)（ASL）用于表示膠片的靈敏度。11.磁粉檢測(cè)中，磁粉探傷前的預(yù)熱可以去除工件表面的氧化皮。12.液體滲透檢測(cè)中，滲透劑的清洗方法包括噴洗、擦洗和浸洗。13.超聲波檢測(cè)中，常用的缺陷指示長(zhǎng)度（PWL）用于表示缺陷的大小。14.射線檢測(cè)中，常用的像質(zhì)指數(shù)（IQI）用于表示膠片的像質(zhì)。15.磁粉檢測(cè)中，磁粉探傷后的檢查時(shí)間通常為5分鐘到60分鐘。四、簡(jiǎn)答題（本大題共5小題，每小題4分，共20分。請(qǐng)根據(jù)題目要求，簡(jiǎn)要回答問(wèn)題。）1.簡(jiǎn)述超聲波檢測(cè)的基本原理。2.簡(jiǎn)述射線檢測(cè)中常用的射線防護(hù)措施。3.簡(jiǎn)述磁粉檢測(cè)中常用的磁粉探傷方法。4.簡(jiǎn)述液體滲透檢測(cè)中常用的滲透劑類型。5.簡(jiǎn)述超聲波檢測(cè)中常用的探頭類型及其特點(diǎn)。本次試卷答案如下一、單項(xiàng)選擇題答案及解析1.C解析：無(wú)損檢測(cè)的基本原理主要是利用材料對(duì)聲、光、電、磁、熱等物理量或化學(xué)量的敏感性差異來(lái)進(jìn)行缺陷檢測(cè)。材料的化學(xué)成分本身并不直接用于檢測(cè)原理，而是材料在特定物理或化學(xué)環(huán)境下的表現(xiàn)不同。聲學(xué)特性（超聲波）、電磁特性（射線、磁粉）和光學(xué)特性（滲透）都是常用的檢測(cè)手段。2.D解析：脈沖反射式超聲波探傷儀的核心部分是能夠產(chǎn)生和接收超聲波脈沖的探頭，以及將電信號(hào)轉(zhuǎn)換為聲信號(hào)（發(fā)射）和聲信號(hào)轉(zhuǎn)換回電信號(hào)（接收）的電路。濾波器用于選擇特定頻率的信號(hào)，但不是必需的核心部件，發(fā)射電路和接收電路是基本構(gòu)成。3.B解析：增感屏的主要作用是增強(qiáng)膠片的感光速度。射線在穿過(guò)增感屏?xí)r，會(huì)發(fā)生軔致輻射，產(chǎn)生更多的二次射線，這些二次射線更容易被膠片感光，從而在相同的曝光條件下，膠片能夠記錄下更弱的信號(hào)，提高檢測(cè)靈敏度。4.D解析：磁粉的種類主要包括干式磁粉（磁性粉末混合載體）和濕式磁粉（磁性粉末懸浮于液體中）。液體磁粉是濕式磁粉的另一種說(shuō)法。半導(dǎo)體磁粉不屬于磁粉檢測(cè)中常用的磁粉類型。5.D解析：滲透劑的種類主要包括油性滲透劑（基于石油產(chǎn)品）和水性滲透劑（基于水基溶劑）?；瘜W(xué)滲透劑和氣體滲透劑不是滲透檢測(cè)中常用的滲透劑類型。6.B解析：超聲波檢測(cè)中常用的工作頻率范圍一般在1MHz到10MHz之間。頻率過(guò)高（如>100MHz）的超聲波穿透能力較弱，主要用于表面檢測(cè)；頻率過(guò)低（如<1MHz）的超聲波穿透能力強(qiáng)，但分辨率較低。7.D解析：射線檢測(cè)中常用的射線源主要是放射性同位素發(fā)出的γ射線，如鈷-60、銫-137等。X射線源是通過(guò)高速電子轟擊靶材產(chǎn)生的，通常用于需要瞬時(shí)大功率或可調(diào)節(jié)能量的場(chǎng)合。α、β射線穿透能力弱，主要用于其他類型的輻射檢測(cè)。8.A解析：磁粉探傷機(jī)的類型主要包括濕式磁粉探傷機(jī)（用于噴射或刷涂磁粉）和自動(dòng)磁粉探傷機(jī)（集成自動(dòng)化檢測(cè)設(shè)備）。手動(dòng)磁粉探傷機(jī)是濕式或干式磁粉探傷的一種操作方式，而非獨(dú)立機(jī)型分類。9.D解析：顯像劑的種類主要包括干粉顯像劑（磁性粉末混合載體）和水性顯像劑（磁性粉末懸浮于液體中）?；瘜W(xué)顯像劑和氣體顯像劑不是滲透檢測(cè)中常用的顯像劑類型。10.D解析：超聲波探頭的類型主要包括直探頭（用于檢測(cè)近表面缺陷）、斜探頭（用于檢測(cè)斜向缺陷或進(jìn)行角度檢測(cè)）和曲探頭（用于特定曲面檢測(cè)）。電磁探頭是利用電磁感應(yīng)原理的檢測(cè)設(shè)備，不屬于超聲波探頭類型。11.D解析：射線檢測(cè)中常用的膠片類型主要包括常規(guī)膠片（傳統(tǒng)化學(xué)沖洗）、特種膠片（如預(yù)曝光膠片）和數(shù)字膠片（CCD或CMOS成像）。光致膠片是激光成像技術(shù)中使用的膠片，不屬于射線檢測(cè)范疇。12.D解析：磁粉探傷前的預(yù)處理主要包括清潔表面（去除油污、氧化皮等）、磁化（施加磁場(chǎng)）和有時(shí)需要預(yù)熱（提高磁導(dǎo)率）。除去磁粉不是預(yù)處理步驟，而是探傷后的操作。13.C解析：液體滲透檢測(cè)中，滲透劑的清洗時(shí)間通常需要足夠長(zhǎng)以確保完全去除多余滲透劑，一般建議為30秒左右，具體時(shí)間根據(jù)滲透劑類型和被檢工件材質(zhì)而定，但一般不會(huì)需要60秒。14.C解析：超聲波檢測(cè)中常用的脈沖重復(fù)頻率（PRF）范圍一般在10kHz到100kHz之間。PRF過(guò)高會(huì)導(dǎo)致信號(hào)混疊，過(guò)低則會(huì)影響檢測(cè)效率。15.B解析：射線檢測(cè)中，常用的曝光時(shí)間范圍一般在1秒到10秒之間。曝光時(shí)間過(guò)短可能無(wú)法獲得足夠信噪比的圖像，過(guò)長(zhǎng)則效率低下。16.A解析：磁粉探傷后的清洗時(shí)間通常需要足夠長(zhǎng)以確保完全去除多余磁粉，一般建議為5秒左右，具體時(shí)間根據(jù)磁粉類型和清洗方法而定，但不會(huì)需要60秒。17.B解析：液體滲透檢測(cè)中，顯像劑的干燥時(shí)間通常需要足夠長(zhǎng)以確保滲透劑完全揮發(fā)或固化，一般建議為10分鐘左右，具體時(shí)間根據(jù)顯像劑類型和環(huán)境濕度而定。18.B解析：超聲波檢測(cè)中常用的距離波幅曲線（DAC）是用于校正探傷儀靈敏度的標(biāo)準(zhǔn)曲線。AC、DC、RC不是超聲波檢測(cè)中的標(biāo)準(zhǔn)曲線類型。19.B解析：射線檢測(cè)中常用的靈敏度指數(shù)（ASL）是表示膠片靈敏度的指標(biāo)。ARL、ASR、ARA不是射線檢測(cè)中常用的靈敏度指標(biāo)。20.B解析：磁粉探傷前的預(yù)熱溫度通常需要控制在一定范圍內(nèi)以提高磁導(dǎo)率，一般建議為200℃左右，具體溫度根據(jù)材料特性而定，但不會(huì)需要400℃。21.B解析：液體滲透檢測(cè)中，滲透劑的溫度通常需要控制在一定范圍內(nèi)以確保滲透效果，一般建議為20℃左右，具體溫度根據(jù)滲透劑類型而定。22.B解析：超聲波檢測(cè)中常用的缺陷指示長(zhǎng)度（PWL）是表示缺陷大小的指標(biāo)。PDW、PDD、PDP不是超聲波檢測(cè)中常用的缺陷長(zhǎng)度指標(biāo)。23.D解析：射線檢測(cè)中常用的像質(zhì)指數(shù)（IQI）是表示膠片像質(zhì)的指標(biāo)。IQL、IQD、IQE不是射線檢測(cè)中常用的像質(zhì)指標(biāo)。24.B解析：磁粉探傷后的檢查時(shí)間通常需要在磁粉充分干燥后進(jìn)行，一般建議為10分鐘左右，具體時(shí)間根據(jù)磁粉類型和干燥方法而定。25.D解析：液體滲透檢測(cè)中，滲透劑的清洗方法主要包括噴洗、擦洗和浸洗。滾動(dòng)不是常用的清洗方法。二、多項(xiàng)選擇題答案及解析1.A,B,C解析：超聲波檢測(cè)中常用的探頭材料主要包括壓電陶瓷（最常用，如鋯鈦酸鉛）、碳化鍺（用于某些高頻探頭）和鈮酸鋰（用于某些特殊應(yīng)用）。鍺酸鉍和硫化鋅不是常用的超聲波探頭材料。2.A,B,C,E解析：射線檢測(cè)中常用的射線防護(hù)措施主要包括使用鉛衣（保護(hù)檢測(cè)人員身體）、使用鉛屏風(fēng)（隔離輻射源）、使用鉛眼鏡（保護(hù)眼睛）和使用鉛圍脖（保護(hù)頸部）。手套主要用于接觸防護(hù)，不是主要的射線防護(hù)措施。3.A,B,C,D解析：磁粉檢測(cè)中常用的磁粉探傷方法主要包括干式磁粉探傷（將干磁粉噴灑或刷涂在工件表面）、濕式磁粉探傷（將磁粉懸浮在液體中噴灑或浸漬在工件表面）、自動(dòng)磁粉探傷（集成自動(dòng)化檢測(cè)設(shè)備）和手動(dòng)磁粉探傷（手動(dòng)操作噴灑或刷涂磁粉）。液體滲透探傷是另一種無(wú)損檢測(cè)方法。4.A,B解析：液體滲透檢測(cè)中常用的滲透劑類型主要包括油性滲透劑（基于石油產(chǎn)品，滲透性好）和水性滲透劑（基于水基溶劑，清洗方便）?；瘜W(xué)滲透劑和氣體滲透劑不是滲透檢測(cè)中常用的滲透劑類型。5.B,C,D,E解析：超聲波檢測(cè)中常用的缺陷類型主要包括內(nèi)部缺陷（如裂紋、孔洞、夾雜物）、表面缺陷（如裂紋、凹坑）以及這些缺陷的具體形態(tài)。表面缺陷有時(shí)也用其他方法檢測(cè)，但超聲波主要用于內(nèi)部缺陷檢測(cè)。6.B,C,D,E解析：射線檢測(cè)中常用的缺陷類型與超聲波檢測(cè)類似，主要包括內(nèi)部缺陷（如裂紋、孔洞、夾雜物）、表面缺陷（如裂紋、凹坑）以及這些缺陷的具體形態(tài)。射線檢測(cè)對(duì)內(nèi)部缺陷的檢測(cè)能力更強(qiáng)。7.A,B,C,D解析：磁粉檢測(cè)中常用的缺陷指示類型主要包括磁痕（線狀缺陷）、磁斑（點(diǎn)狀缺陷）、磁紋（細(xì)小裂紋或表面粗糙度引起的信號(hào)）和磁點(diǎn)（微小缺陷）。磁線不是標(biāo)準(zhǔn)的缺陷指示類型。8.A,B,C,D解析：液體滲透檢測(cè)中常用的缺陷指示類型主要包括滲透痕跡（表面缺陷留下的痕跡）、滲透斑痕（較明顯的表面缺陷痕跡）、滲透條紋（細(xì)小表面缺陷留下的痕跡）和滲透點(diǎn)痕（微小表面缺陷留下的痕跡）。9.A,B,C解析：超聲波檢測(cè)中常用的檢測(cè)設(shè)備主要包括超聲波探傷儀（產(chǎn)生和接收超聲波信號(hào)）、超聲波探頭（轉(zhuǎn)換電信號(hào)和聲信號(hào)）和超聲波校驗(yàn)塊（用于校驗(yàn)探頭和儀器性能）。超聲波測(cè)厚儀和超聲波顯微鏡是超聲波技術(shù)的特定應(yīng)用設(shè)備。10.A,B,C,E解析：射線檢測(cè)中常用的檢測(cè)設(shè)備主要包括射線探傷機(jī)（產(chǎn)生射線）、射線膠片（記錄射線圖像）、射線校驗(yàn)塊（用于校驗(yàn)射線源和膠片性能）和射線防護(hù)設(shè)備（保護(hù)人員和環(huán)境）。射線像質(zhì)儀是用于評(píng)估膠片像質(zhì)的設(shè)備，不是檢測(cè)設(shè)備本身。三、判斷題答案及解析1.×解析：超聲波在介質(zhì)中的傳播速度受介質(zhì)類型、溫度、壓力等因素影響而變化。例如，在水中傳播速度比在空氣中快，在金屬中傳播速度又比在水中快。因此，傳播速度不是恒定的。2.×解析：射線穿透能力越強(qiáng)，意味著射線能量越高或波長(zhǎng)越短，能夠穿透的厚度就越大。此時(shí)，為了獲得足夠強(qiáng)度的圖像信號(hào)，通常需要更長(zhǎng)的曝光時(shí)間，以確保膠片或探測(cè)器能夠記錄下足夠的信號(hào)。3.√解析：磁粉探傷前必須對(duì)被檢工件進(jìn)行清潔，以去除表面的油污、銹跡、氧化皮等雜質(zhì)，這些雜質(zhì)會(huì)干擾磁粉的分布，影響缺陷的顯示效果。清潔是確保檢測(cè)效果的關(guān)鍵步驟。4.×解析：液體滲透檢測(cè)中，滲透劑的溫度過(guò)高可能導(dǎo)致滲透劑過(guò)早揮發(fā)或變質(zhì)，反而影響滲透效果。適宜的溫度通常能夠促進(jìn)滲透劑進(jìn)入缺陷，但過(guò)高溫度會(huì)適得其反。5.√解析：超聲波檢測(cè)中常用的探頭類型確實(shí)包括直探頭（用于檢測(cè)近表面缺陷）、斜探頭（用于檢測(cè)斜向缺陷或進(jìn)行角度檢測(cè)）和曲探頭（用于特定曲面檢測(cè)）。這些探頭類型覆蓋了常見(jiàn)的檢測(cè)需求。6.√解析：射線檢測(cè)中常用的膠片類型確實(shí)包括常規(guī)膠片（傳統(tǒng)化學(xué)沖洗）、特種膠片（如預(yù)曝光膠片）和數(shù)字膠片（CCD或CMOS成像）。這些膠片類型分別對(duì)應(yīng)不同的應(yīng)用需求和技術(shù)發(fā)展。7.√解析：磁粉探傷后的檢查通常需要在暗處進(jìn)行，因?yàn)榇欧郾旧聿话l(fā)光，磁痕的顯示依賴于磁粉在缺陷處的聚集。在暗處觀察可以增強(qiáng)磁痕的可見(jiàn)度，便于識(shí)別和評(píng)估。8.×解析：液體滲透檢測(cè)中，顯像劑的干燥時(shí)間過(guò)長(zhǎng)可能導(dǎo)致滲透劑過(guò)度揮發(fā)或固化，反而影響滲透效果。適宜的干燥時(shí)間能夠確保滲透劑充分揮發(fā)，留下清晰的缺陷痕跡，但過(guò)長(zhǎng)干燥會(huì)破壞滲透效果。9.√解析：超聲波檢測(cè)中，常用的距離波幅曲線（DAC）是用于校正探傷儀靈敏度的標(biāo)準(zhǔn)曲線，它描述了隨著聲程的增加，超聲波信號(hào)幅值的變化趨勢(shì)。DAC曲線是超聲波檢測(cè)中重要的參考標(biāo)準(zhǔn)。10.×解析：射線檢測(cè)中，常用的靈敏度指數(shù)（ASL）是表示膠片靈敏度的指標(biāo)，而不是像質(zhì)指數(shù)。像質(zhì)指數(shù)（IQI）是表示膠片像質(zhì)的指標(biāo)。ASL主要用于評(píng)估膠片能夠檢測(cè)到的最小缺陷尺寸。11.√解析：磁粉檢測(cè)中，磁粉探傷前的預(yù)熱可以提高工件的磁導(dǎo)率，使磁力線更容易集中，從而提高缺陷的顯示效果。預(yù)熱通常在200℃左右，能夠有效去除氧化皮，提高檢測(cè)靈敏度。12.√解析：液體滲透檢測(cè)中，滲透劑的清洗方法主要包括噴洗（用壓縮空氣或噴壺噴洗）、擦洗（用布或刷擦洗）和浸洗（將被檢工件浸泡在清洗液中）。這些方法是常用的清洗方法，確保滲透劑完全去除。13.√解析：超聲波檢測(cè)中，常用的缺陷指示長(zhǎng)度（PWL）是表示缺陷大小的指標(biāo)，它反映了缺陷在聲程方向上的延伸長(zhǎng)度。PWL是評(píng)估缺陷嚴(yán)重程度的重要參數(shù)之一。14.×解析：射線檢測(cè)中，常用的像質(zhì)指數(shù)（IQI）是表示膠片像質(zhì)的指標(biāo)，而不是靈敏度指數(shù)。靈敏度指數(shù)（ASL）是表示膠片靈敏度的指標(biāo)。IQI主要用于評(píng)估膠片能夠顯示的缺陷細(xì)節(jié)程度。15.√解析：磁粉檢測(cè)中，磁粉探傷后的檢查時(shí)間通常需要在磁粉充分干燥后進(jìn)行，一般建議為5分鐘到60分鐘。這個(gè)時(shí)間范圍能夠確保磁粉干燥到適合觀察的狀態(tài)，同時(shí)不會(huì)過(guò)干