(19)國家知識產權局(10)申請公布號CN120204836A(30)優(yōu)先權數(shù)據DE102020102036.82020.DE102020103982.42020.DE102020112861.42020.(62)分案原申請數(shù)據(71)申請人禾鼎過濾技術有限公司地址德國安貝格斯特凡·哈耶克迪諾·貝思克(74)專利代理機構北京高沃律師事務所11569專利代理師谷朋倫(54)發(fā)明名稱用于干式過濾攜帶異物的氣體流的方法及用于清潔攜帶異物的原料氣體的過濾器裝置本發(fā)明涉及用于干式過濾攜帶異物的氣體流的方法和過濾器裝置，特別是在用于凈化在增材制造技術中產生的廢氣的過濾器裝置中，所述方法包括：將含有異物的原料氣體流(44)導入過濾器單元(12)的原料氣體腔(15)中，過濾器單元(12)具有將原料氣體側與清潔氣體側分隔開的至少一個過濾器表面；將氧化劑供給到反應區(qū)域(24)中，該反應區(qū)域位于過濾器表面的下游的原料氣體側上，使得包含從過濾器表面清除的物質21.一種用于干式過濾攜帶異物的氣體流的方法，所述方法包括：將含有異物的原料氣體流(44)導入過濾器單元(12)的原料氣體空間(15),所述過濾器單元(12)具有將原料氣體側與清潔氣體側分隔開的至少一個過濾器表面；在清除循環(huán)中清除已積聚在所述至少一個過濾器表面處的異物，并將清除的異物輸送至下游的反應區(qū)域(24);通過氣動運送裝置(80)將氧化劑供應至所述反應區(qū)域(24);使得包含在從所述過濾器表面清除的物質中和/或包含在原料氣體流中的異物在所述反應區(qū)域(24)內與所述氧化劑反應，以形成含有氧化物的異物。2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述氣動運送裝置(80)是作為固體注射器或噴射泵操作的運送裝置。3.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述反應區(qū)域相對于已積聚在所述過濾器表面上并且在清除循環(huán)過程中已經從所述過濾器表面清除的異物的輸送在所述原料氣體空間的下游。4.根據權利要求1或2所述的方法，其中，將在從所述過濾器表面清除的物質與所述氧化劑的反應過程中未消耗的氧化劑從所述反應區(qū)域(24)移除。5.根據權利要求1或2所述的方法，其中，將氧化劑經由氧化劑入口(36)供應至所述反應區(qū)域(24),并且經由氧化劑出口6.根據權利要求5所述的方法，其中，所述氧化劑出口(39)不同于所述氧化劑入口(36)。7.根據權利要求5所述的方法，其中，未消耗的氧化劑與在所述反應過程中形成的含有氧化物的異物，以及如果適用的話還有尚未反應的異物，通過相同的所述氧化劑出口(39)排出。8.根據權利要求7所述的方法，其中，所述反應區(qū)域(24)包括位于所述氧化劑出口(39)下游的區(qū)域。9.根據權利要求5所述的方法，其中，所述氧化劑出口(39)連接至所述氣動運送裝置(80)。10.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述反應區(qū)域(24)具有被施加至所述反應區(qū)域(24)的負壓。11.根據權利要求10所述的方法，其中，在從所述過濾器表面清除的物質與所述氧化劑的反應過程中和/或之后，對所述反應區(qū)域(24)施加負壓。12.根據權利要求1或2所述的方法，其中，在從所述過濾器表面清除的物質與所述氧化劑的反應過程中，將尚未消耗的氧化劑通過所述氣動運送裝置從所述反應區(qū)域(24)抽出。13.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述反應區(qū)域(24)受到惰性流體的作用。14.根據權利要求13所述的方法，3其中，從所述過濾器表面清除的物質與氧化劑的反應在反應階段進行，且在相應的反應階段之后，所述反應區(qū)域受到未添加氧化劑的惰性流體作用。15.根據權利要求13所述的方法，其中，經由不同于所述氧化劑入口(36)的另外的流體入口(38)將惰性流體供給至所述反應區(qū)域中。16.根據權利要求13所述的方法，其中，將惰性流體和/或氧化劑通過除所述氧化劑出口(39)之外設置的另外的出口(40),從所述反應區(qū)域排出。17.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述反應區(qū)域(24)具有流過所述反應區(qū)域(24)的傳熱流體，以用于移除在從所述過濾器表面清除的物質與所述氧化劑的反應期間產生的熱。18.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述反應區(qū)域(24)包括團聚物收集區(qū)域(33),所述團聚物收集區(qū)域(33)被配置成接收從所述過濾器表面清除的物質，其中，已經積聚在所述過濾器表面上的異物或含有異物的團聚物被清除、并且收集和儲存在所述團聚物收集區(qū)域(33)中。19.根據權利要求18所述的方法，其中，將從所述過濾器表面清除的物質從所述團聚物收集區(qū)域(33)運送到下游排放區(qū)域(62)中，其中，所述排放區(qū)域(62)包括所述反應區(qū)域(24)的至少一部分；以及將氧化劑供應到所述團聚物收集區(qū)域(33)和/或所述排放區(qū)域(62)。20.根據權利要求19所述的方法，其中，具有第一切斷構件(30)的第一封閉裝置與所述團聚物收集區(qū)域(33)聯(lián)接，所述封閉裝置被設計成，使得所述封閉裝置能夠使在清除過程中從所述過濾器表面脫落的物質被收集在所述團聚物收集區(qū)域(33)中，并且在將已清除的物質收集在所述團聚物收集區(qū)域(33)中之后，相對于所述原料氣體空間(15)關閉所述反應區(qū)域(24),至少直到所述反應區(qū)域(24)和/或所述團聚物收集區(qū)域(33)中的氧化劑濃度已經下降到足夠的程度。21.根據權利要求20所述的方法，其中，所述排放區(qū)域(62)包括第二封閉裝置(66),其中，所述反應區(qū)域(24)位于所述第一封閉裝置和所述第二封閉裝置之間；和/或，其中，所述排放區(qū)域(62)包括用于含有固體的物質的收集容器(64)。22.根據權利要求1或2所述的方法，其中，在離開所述反應區(qū)域(24)之后，所述反應區(qū)域(24)中的未消耗的氧化劑，以及如果適用的話，還有作為過量流體積聚的另外的流體，完全地或部分地再循環(huán)至所述反應區(qū)域(24)。23.根據權利要求22所述的方法，其中，提供控制/調節(jié)單元，所述控制/調節(jié)單元布置成使得所述反應區(qū)域(24)內的流體壓力不超過預定的上限值或保持在預定的壓力范圍內。24.一種用于清潔攜帶異物的原料氣體的過濾器裝置(10),包括：至少一個過濾器元件(14),所述過濾器元件(14)具有至少一個過濾器表面，所述過濾器表面在原料氣體空間中將原料氣體側與清潔氣體側分隔開，含有異物的原料氣體流(44)4能夠供應至所述原料氣體空間；清除裝置，所述清除裝置適于在清除循環(huán)中清除已積聚在所述至少一個過濾器表面處的異物，并且將清除的異物輸送至下游的反應區(qū)域(24);氧化劑供應裝置，所述氧化劑供應裝置適于通過氣動運送裝置(80)將氧化劑供應至所述反應區(qū)域(24);使得包含在從所述過濾器表面清除的物質中和/或原料氣體流(44)中的異物在所述反應區(qū)域(24)內與氧化劑反應，以形成含有氧化物的異物。25.根據權利要求24所述的過濾器裝置(10),其中，所述氣動運送裝置被配置成作為固體注射器或噴射泵操作。26.根據權利要求24或25所述的過濾器裝置(10),其中，所述反應區(qū)域相對于已積聚在所述過濾器表面上并且在清除循環(huán)過程中已經從所述過濾器表面清除的異物的輸送在所述原料氣體空間的下游。27.根據權利要求24或25所述的過濾器裝置(10),其中，在從所述過濾器表面清除的物質與氧化劑的反應期間，未消耗的氧化劑能夠從所述反應區(qū)域(24)移除。28.根據權利要求24或25所述的過濾器裝置(10),包括氧化劑入口(36)和氧化劑出口(39),所述氧化劑入口(36)布置為將氧化劑供應至所述反應區(qū)域(24),所述氧化劑出口(39)布置為將氧化劑從反應區(qū)域(24)移除，其中，所述氧化劑出口(39)不同于所述氧化劑入口(36)。29.根據權利要求28所述的過濾器裝置(10),所述過濾器裝置(10)被設計成將未消耗的氧化劑與在所述反應過程中形成的含有氧化物的異物，以及如果適用的話，還有尚未反應的異物，一起通過相同的所述氧化劑出口30.根據權利要求28所述的過濾器裝置(10),其中，所述反應區(qū)域(24)包括位于所述氧化劑出口(39)下游的區(qū)域。31.根據權利要求28所述的過濾器裝置(10),其中，所述氧化劑出口(39)連接至所述氣動運送裝置(80)。32.根據權利要求24或25所述的過濾器裝置(10),所述過濾器裝置(10)布置為在從所述過濾器表面清除的物質與氧化劑的反應過程中和/或之后將負壓施加至所述反應區(qū)域(24)。33.根據權利要求24或25所述的過濾器裝置(10),所述過濾器裝置(10)布置為利用惰性流體作用在所述反應區(qū)域(24)上。34.根據權利要求33所述的過濾器裝置(10),包括控制單元(59),所述控制單元(59)布置成使得從所述過濾器表面清除的物質與所述氧化劑的反應在反應階段發(fā)生，其中，在相應的反應階段之后，向所述反應區(qū)域(24)施加未添加氧化劑的惰性流體。35.根據權利要求34所述的過濾器裝置(10),進一步包括通入所述反應區(qū)域(24)中的另外的流體入口(38),所述另外的流體入口(38)不同于所述氧化劑入口(36),以用于引入惰性流體和/或傳熱流體。536.根據權利要求33所述的過濾器裝置(10),進一步包括用于排出惰性流體和/或氧化劑的另外的出口(40),所述另外的出口(40)是除了所述氧化劑出口(39)之外設置的。37.根據權利要求24或25所述的過濾器裝置(10),其中，所述反應區(qū)域(24)包括團聚物收集區(qū)域(33),所述團聚物收集區(qū)域(33)布置成接收從所述過濾器表面清除的物質，其中，已經積聚在所述過濾器表面上的異物或含有異物的團聚物在其被清除之后能夠收集并且儲存在所述團聚物收集區(qū)域(33)中。38.根據權利要求37所述的過濾器裝置(10),進一步包括排放區(qū)域(62),所述排放區(qū)域(62)位于所述團聚物收集區(qū)域(33)的下游，并且從所述過濾器表面清除的物質能夠運送到所述排放區(qū)域(62)中，其中，所述排放區(qū)域(62)包括所述反應區(qū)域(24)的至少一部分，以及氧化劑能夠供應到所述團聚物收集區(qū)域(33)和/或排放區(qū)域(62)。39.根據權利要求38所述的過濾器裝置(10),其中，所述團聚物收集區(qū)域(33)具有與其聯(lián)接的第一封閉裝置，所述第一封閉裝置具有第一切斷構件(30),并且所述第一封閉裝置被設計成，使得所述第一封閉裝置能夠使在清除過程中從所述過濾器表面脫落的物質被收集在所述團聚物收集區(qū)域(33)中，并且在將清除的物質收集在所述團聚物收集區(qū)域(33)中之后，相對于所述原料氣體空間(15)關閉所述反應區(qū)域(24),至少直到所述反應區(qū)域(24)中的氧化劑濃度已經下降到足夠的程度。40.根據權利要求39所述的過濾器裝置(10),其中，所述排放區(qū)域(62)包括第二封閉裝置，其中，所述反應區(qū)域(24)位于所述第一封閉裝置與所述第二封閉裝置之間。41.根據權利要求40所述的過濾器裝置(10),其中，所述排放區(qū)域(62)包括用于分離含有固體的物質的收集容器(64),其中，所述收集容器(64)具有用于流體物質的出口，其中，用于將從所述流體物質清除異物的另外的過濾器單元(122)與所述出口聯(lián)接。42.根據權利要求24或25所述的過濾器裝置(10),進一步包括流體再循環(huán)單元(150),所述流體再循環(huán)單元(150)布置成使得在離開所述反應區(qū)域(24)之后，在所述反應區(qū)域(24)中未消耗的氧化劑，以及如果適用的話，還有作為過量流體積聚的另外的流體，完全或部分地再循環(huán)到所述反應區(qū)域(24)中，其中，設置控制/調節(jié)單元，所述控制/調節(jié)單元布置成使得所述反應區(qū)域(24)內的流體壓力不超過預定值或保持在預定范圍內。6用于干式過濾攜帶異物的氣體流的方法及用于清潔攜帶異物的原料氣體的過濾器裝置[0001]本申請是申請日為2021年01月14日、申請?zhí)枮?02180019471.5、發(fā)明名稱為“用于干式過濾攜帶異物的氣體流的方法及用于清潔攜帶異物的原料氣體的過濾器裝置”的分案技術領域[0002]本發(fā)明涉及一種用于干式過濾攜帶異物的氣體流的方法，并且涉及一種用于清潔攜帶異物的原料氣體的過濾器裝置。背景技術[0003]當凈化攜帶高可燃性的異物或外來物的氣體時，諸如在用于增材制造由金屬制成的工件的系統(tǒng)中(例如，在激光燒結由鈦合金或鋁合金制成的工件中)進行的，在廢氣中存在不受控制的火災的危險。當這種高可燃性的異物沉積在過濾器表面上并且在該過程中積聚時，這種危險特別大。類似于WO2012/032003A1中示出的設計，已經嘗試通過用惰性化過濾助劑(諸如CaCO?)預涂覆過濾器表面或將此類助劑添加至待凈化的原料氣體中來應對這些危險。發(fā)明內容[0004]本發(fā)明的目的是在過濾含有可燃性異物的原料氣體時，諸如特別是在過濾在增材制造技術中產生的廢氣時，通過干式過濾器來防止或抑制原料氣體燃燒。[0005]根據本發(fā)明，在用于干式過濾攜帶異物的氣體流的方法中，所述方法特別地用在用于清除在增材制造技術中產生的排出空氣或廢氣的過濾器裝置中，將含有異物的原料氣體流供給到過濾器單元的原料氣體空間中，該過濾器單元具有將原料氣體側與清潔氣體側分隔開的至少一個過濾器表面。此外，將氧化劑供給到位于過濾器表面下游的過濾器表面的原料氣體側上的反應區(qū)域。供給氧化劑，使得包含在從過濾器表面清除的物質中的異物和/或包含在原料氣體流中的異物在反應區(qū)域內與氧化劑反應，以形成含有氧化物的異物。[0006]本發(fā)明建議了一種方法，并提供了相應設計的過濾器裝置，其中，特別地引起廢氣中的反應性或甚至高反應性異物(諸如來自如激光燒結裝置的增材制造設備的廢氣中的含有金屬的顆粒)的自發(fā)氧化。這種異物與諸如氧氣或空氣的氧化劑的高反應性——實際上是這種廢氣的干式過濾有問題的原因——由此特別地用于觸發(fā)異物與氧化劑的自發(fā)反應。令人驚訝的是，可以通過適當控制氧化劑的供應和/或排放，以及如果必要的話，還通過其他措施，來特別引發(fā)該自發(fā)反應，并保持其進程很好地受控，使得可以避免異物與氧化劑的不受控反應。采用本文所建議的方法，反應過程中產生的熱可被很好地消散，使得不必擔心不受控的火災或爆炸。[0007]本發(fā)明的基本思想不是使包含在原料氣體中的易燃異物變成惰性，而是通過有目的地引發(fā)和執(zhí)行這些可燃異物到氧化構型的受控轉移(即通過化學反應)來使它們無害。在7氧化構型中，這些異物通常是低反應性的或惰性的且不再可燃，使得對這些氧化的異物的進一步處理不再需要任何特殊預防措施。[0008]然而，必須小心以確保自發(fā)氧化反應以受控的方式進行。這可以通過向含有從過濾器表面清除的物質并且因此含有異物的預定反應區(qū)域適當?shù)毓趸瘎┖?或進一步地通過措施從反應區(qū)域移除氧化物來實現(xiàn)。已經發(fā)現(xiàn)，如果氧化劑不僅供應至反應區(qū)域，而且流過反應區(qū)域，則可以很好地控制往往強烈放熱的氧化反應的進程。然后，將氧化劑供應至在第一位置處或第一區(qū)域(入口)中的反應區(qū)域，并且流過反應區(qū)域，直到它在另外的位置或另外的區(qū)域(出口)再次離開反應區(qū)域，在任何情況下，條件是它在流過反應區(qū)域時沒有通過與含有異物的物質的反應而被消耗。以此方式，特別地，可以在反應區(qū)域中提供過量的氧化劑，因為需要自發(fā)地引發(fā)用于形成含有氧化物的異物的所需反應或將所希望的反應維持在受控的程度。流過反應區(qū)域的氧化劑流允許對氧化反應的進程進行精確控制。一旦氧化劑流開始，氧化反應自發(fā)地但是以受控的方式進行，并且可以通過調節(jié)氧化劑流的強度、并且還可以通過調節(jié)氧化劑流的組成來很好地控制。[0009]在自發(fā)氧化的情況下，形成含有氧化物的異物的所希望的反應，基本上在沒有通過來自諸如點火源或熱源的能量源的能量供應而提供激活能的情況下發(fā)生。氧化可能已經通過氧化劑與存在于或進入反應區(qū)域中的在清除過程中從過濾器表面脫落的物質接觸而引發(fā)。[0010]氧化劑可以是空氣或含氧氣體。例如諸如氮氣或稀有氣體的惰性氣體的其他物質可以與氧化劑混合，以形成氧化劑流。例如，空氣可用于形成氧化劑流，或氧含量為5-21體積%的貧氧混合物。選擇足夠高的氧化劑流中的氧化劑或氧化劑濃度，以允許反應區(qū)域中的含有異物的物質的自發(fā)反應以形成含有氧化物的異物。[0011]措辭“位于過濾器表面的下游的過濾器表面的原料氣體側上”旨在表達反應區(qū)域相對于已積聚在過濾器表面上并且在清除循環(huán)(例如，通過向過濾器表面施加壓力脈沖)過程中已經從過濾器表面清除的異物的輸送在原料氣體空間的下游。因此，從過濾器表面清除的物質被運送到反應區(qū)域。特別地，反應區(qū)域與原料氣體空間分隔開，特別地與原料氣體空間的下游分隔開。如果氧化劑首先被供應到反應區(qū)域下游，但不供應到原料氣體空間或原料氣體空間上游的區(qū)域(即，這些區(qū)域保持不含氧化劑),使得清除的含有異物的物質的氧化處理不會影響通過引入氧化劑對原料氣體進行實際過濾的工藝環(huán)境。特別地，該過濾工序或產生待過濾的廢氣的工作工序可以在大部分惰性的條件下發(fā)生并且不受氧化處理的干擾。當供應氧化劑時，通過將反應區(qū)域與原料氣體空間暫時分隔開，特別是通過以氣密方式將原料氣體空間分隔開，可以另外地確保原料氣體空間中惰性環(huán)境的維持。[0012]如所解釋的，有利的是，當從過濾器表面清除的物質與氧化劑一起反應時，主動將未消耗的氧化劑從反應區(qū)域移除。以此方式，可以提供適當?shù)倪^剩氧化劑并且因此可以實現(xiàn)氧化反應的受控進程。這意味著該目的不一定是在已經發(fā)生或多或少完全的化學轉化之后，從反應區(qū)域僅移除在反應過程中形成的反應產物，特別是含有氧化物的異物以及在適用的情況下的未轉化或未完全轉化的清除的物質。相反，在氧化反應進程的過程中，應移除反應中未消耗的任何氧化劑，通常移除的程度與添加新氧化劑的程度相同。以此方式，反應區(qū)域中的氧化反應可基本上在恒定的環(huán)境條件下進行，特別是在恒定濃度的氧化劑下進8[0013]一旦在反應區(qū)域中或至少在屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域中，足夠比例的含有異物的物質已被轉化成含有氧化物的異物，和/或足夠大量的含有異物的物質已經從反應區(qū)域或至少從屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域中移除，就可以認為至少在屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域中氧化反應停止。在這種情況下，停止向反應區(qū)域或屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域供應另外的氧化劑。然后，通常從反應區(qū)域或屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域移除反應產物或反應殘渣。通常認為的是，從反應區(qū)域或屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域移除基本上所有的反應產物或反應殘渣。僅移除反應產物或反應殘渣的一部分也是足夠的。殘存在反應區(qū)域或屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域中的反應產物或反應殘渣可隨后與進入反應區(qū)域或屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域的新物質一起進行另外地氧化，如果有必要，在加入另外的氧化劑之后。在反應已經停止或已經發(fā)生之后仍然殘存在反應區(qū)域或屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域中的氧化劑被移除之后，可以使反應區(qū)域或屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域與原料氣體空間流體連通，而不存在氧化劑進入原料氣體空間的風險。[0014]特別地，氧化劑可以從反應區(qū)域或屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域吸出或抽出。為此目的，可以使反應區(qū)域經受負壓，以便從反應區(qū)域吸出仍存在于反應區(qū)域中的氧化劑。也可以通過對反應區(qū)域施加負壓而從反應區(qū)域吸出反應產物和/或其他反應殘渣。對反應區(qū)域施加負壓可以在從過濾器表面清除的物質與氧化劑的反應過程中和/或反應之后發(fā)生。[0015]可以設置氧化劑入口，以用于將氧化劑供應至反應區(qū)域或屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域?？梢栽O置氧化劑出口，以用于從反應區(qū)域或從屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域移除氧化劑。在最簡單的情況下，氧化劑入口也可以同時用作氧化劑出口。然而，通常規(guī)定，氧化劑出口不同于氧化劑入口，特別地使得在氧化劑入口與氧化劑出口之間形成氧化劑流，該氧化劑流盡可能大部分地橫穿反應區(qū)域或屬于反應區(qū)域的部分區(qū)域。[0016]氧化劑出口可以是特別設置的用于排出氣體、特別是氧化劑的出口。然而，尚未消耗的氧化劑通過氧化劑出口與反應過程中已經形成的含有氧化物的異物，如果適用的話，以及尚未反應的清除的物質一同排出。在這種情況下，氧化劑出口被設計為排出氣態(tài)物質和含有固體的物質兩者。[0017]可以想到，但不是絕對必需的是，含有異物的物質與氧化劑的所有反應都發(fā)生在氧化劑出口的上游區(qū)域。除了氧化劑流可能再循環(huán)到氧化劑入口之外，通過氧化劑出口排出的氧化劑或氧化劑和其他(例如惰性)流體的混合物然后不再用于進一步氧化。然而，還可以想到，反應區(qū)域包括位于氧化劑出口下游的區(qū)域，特別是位于氧化劑出口下游的管道或管線、運送裝置和/或容器。未消耗的氧化劑是否通過氧化劑出口與反應過程中形成的含有氧化物的異物和可能尚未轉化或反應的異物一同排出，這將是特別值得考慮的。[0018]在一個可能的實施例中，氧化劑出口可以連接到氣動運送裝置上。特別地，該氣動運送裝置可以是作為固體注射器或噴射泵操作的運送裝置?？商娲?，可以想到吸風機。氣動運送裝置可以通過運送連接件連接至氧化劑出口并且因此在反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域上施加抽吸作用。抽吸作用致使氧化劑或氧化劑與引入反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域中的氧的其他(例如，惰性)流體的混合物作為氧化劑朝向氧化劑出口流動，因而穿過反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域并致使氧化劑與含有異物的物質反應，以形成含有氧化物的異物。[0019]在反應過程中形成的含有氧化物的異物和可能尚未反應的異物也可以經由氣動9運送裝置，尤其是作為固體注射器或噴射泵操作的運送裝置排出。氣動運送裝置還可用于例如通過管線將這種含有固體的物質進一步輸送至收集容器或處置容器。運送的含有固體的物質可以包含由與氧化劑的反應產生的含有氧化物的異物，或尚未反應的清除的物質。氣動運送裝置可以特別地設置成用于從反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域移除含有固體的物質。然而，還可以想到的是，設置氣動運送裝置以用于從反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域抽出含有固體的物質以及用于從反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域抽出氣態(tài)物質和/或用于將氧化劑添加至運送的含有固體的物質。例如，在固體注射器中，含有諸如空氣的氧化劑的流體或含氧氣體混合物可以用作運送流體。以此方式，當運送流體與運送的含有固體的混合物被輸送通過運送管線的固體注射器的下游部分時，運送流體與運送的含有固體的物質的混合致使所希望的氧化反應有效地發(fā)生。[0020]通過控制氣動運送裝置，可以調節(jié)作用在反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域中的物質上的抽吸強度。在較低的抽吸強度下，(至少基本上)僅氣態(tài)物質從反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域抽出，使得連接至氣動運送裝置的運送連接件的開口(抽吸開口)形成氧化劑出口。在較強的抽吸強度的情況下，含有固體的物質和氣態(tài)的物質兩者從反應區(qū)域或者從反應區(qū)域的部分區(qū)域抽出。在這種情況下，抽吸開口形成用于在反應區(qū)域中或在反應區(qū)域的部分區(qū)域中進一步輸送含有固體的物質的出口，并且同時，形成用于將氧化劑供應至進一步輸送的含有固體的物質的氧化劑出口和/或布置。后者例如通過將固體注射器中的含有氧化劑的運送流體和含有固體的物質混合。[0021]此外，反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域受到惰性流體，特別是惰性氣體的作用。通過混合惰性氣體，例如可以適當?shù)卣{節(jié)氧化劑流中氧化劑的濃度，如果有必要，可以加速或減緩氧化反應的進程。使用不含氧化劑的惰性流體，在反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域上的作用可用于例如在反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域中停止清除的物質與氧化劑的進一步反應進程。惰性流體還可用于驅除反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域中的任何殘存氧化劑，以在反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域中產生足夠的惰性氣氛，以允許在反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域與原料氣體空間之間形成流體接觸。例如，可在一定量的清除的物質已經與氧化劑反應之后或在一定比例的清除的物質已經與氧化劑反應之后停止反應。[0022]例如，可以設置，從過濾器表面清除的物質與氧化劑的反應在反應階段中進行，其中，施加氧化劑至反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域，在相應的反應階段過程中發(fā)生，并且在相應的反應階段之后，反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域受到未添加氧化劑的惰性流體作用。這樣，反應進程可以以非常受控的方式進行管理，因為在切斷氧化劑供應后反應將停止，并且然后，反應區(qū)域或者反應區(qū)域的部分區(qū)域中的任何物質，無論是固體還是氣體，可以從反應區(qū)域或者反應區(qū)域的部分區(qū)域全部或部分地移除。通過同時用惰性流體沖吹反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域，然后可以降低氧化劑的濃度至反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域與原料氣體空間之間的流體接觸再次成為可能的程度，在此程度下沒有氧化劑進入原料氣體空間的風險。然后，反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域準備好接收從過濾器表面清除的另一批物質。[0023]將惰性氣體引入反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域可以以簡單的方式實現(xiàn)，例如，經由固體注射器的清洗端口向其供給惰性流體。[0024]為了支持所描述的措施，可以規(guī)定，經由不同于氧化劑入口的另外的流體入口將惰性流體供給至反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域。例如，這樣的另外的流體入口可以設置在連接反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域與原料氣體空間的開口附近，以便從該開口附近選擇性地沖出氧化劑。還可以想到，設置多個這樣的另外的流體入口。[0025]當惰性流體和/或氧化劑通過除氧化劑出口之外設置的一個或更多個另外的出口從反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域排出時，也可以是有益的。例如，可以規(guī)定，布置分布在圍繞反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域的殼體上的多個氧化劑出口，使得充分覆蓋反應區(qū)域體積的廣泛分布的氧化劑流分布在反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域。還可以設置相對于用于惰性流體的相應的聯(lián)接的入口開口的用于惰性流體的若干出口之一特定布置，以便以特別有效的方式從反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域的某些區(qū)域沖出氧化劑。[0026]當從過濾器表面清除的物質與氧化劑的反應發(fā)生時，可能已經開始向反應區(qū)域或劑流是氧化劑(例如，氧氣)和僅包含少量氧化劑的惰性氣體(例如，氮)的混合物時，經常會出現(xiàn)這種情況。[0027]反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域可由傳熱流體穿過，以用于移除在從過濾器表面清除的物質與氧化劑的反應過程中產生的熱。在適當情況下，傳熱流體流可以與氧化劑流一起流過反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域。氧化劑本身也可以充當傳熱流體，特別是當氧化劑僅部分反應時，因為過量添加氧化劑以加速反應。傳熱流體還可以充當惰性流體，以用于沖出從反應區(qū)域或從部分反應區(qū)域的反應已完成之后仍然存在的氧化劑。然后，使用未添加氧化劑的惰性流體作為傳熱流體可以是方便的。[0028]反應區(qū)可包含團聚物收集區(qū)域，其適于接收從過濾器表面清除的物質，由此，清除已積聚在過濾器表面上的異物或含有異物的團聚物，并收集和保留在團聚物收集區(qū)域中。團聚物收集區(qū)域則尤其構成上述反應區(qū)域的部分區(qū)域。團聚物收集區(qū)域可以被設計成使得從過濾器表面清除的物質直接從原料氣體空間落入團聚物收集區(qū)域，而無需預先收集在過濾器元件和團聚物收集區(qū)域之間的位置(例如，在圍繞原料氣體空間的過濾器殼體的底部區(qū)域中)。[0029]團聚物收集區(qū)域可以具有與其聯(lián)接的具有第一切斷構件的第一封閉裝置。第一封閉裝置可以被設計成使得它能夠使在清除過程中從過濾器表面掉落的物質被收集在團聚物收集區(qū)域中(特別是僅短暫地),并且在將清除的物質收集在團聚物收集區(qū)域中之后，將反應區(qū)域與原料氣體空間封閉(特別是以一種氣密方式封閉該反應區(qū)域),至少直到反應區(qū)域中的氧化劑的濃度已經下降到足夠的程度。[0030]降低至足夠的程度意味著，特別地，直到可以假定反應區(qū)域中的氧化劑的濃度已經降低至低于預定閾值。當形成含有氧化物的異物的反應已完全發(fā)生，氧化劑已大量消耗和/或所有物質已從反應區(qū)域或團聚物收集區(qū)域移除時，情況可能如此。實際上，只要反應進行的速率是充分公知的(例如，從試驗中),則可以通過從氧化反應開始起等待預定的時間來假定到達這種狀態(tài)。然而，通常，當在反應已完成之后，尤其是通過借助惰性流體抽吸和/或吸出，氧化劑已從反應區(qū)域或團聚物收集區(qū)域被移除時，在任何情況下都將達到該條件。[0031]特別地，第一切斷構件可被設計成使得當?shù)谝磺袛鄻嫾蜷_時，在任何情況下都不會顯著地妨礙團聚物收集區(qū)域中的從過濾器表面清除的接收物質。特別地，第一切斷構11件在過濾器元件的清除過程中和/或在過濾器元件的清除之后立即打開，并且在任何情況下保持打開直到在清除過程中原料氣體側上的過濾器表面脫落的物質已經基本上被收集在團聚物收集區(qū)域中。特別地，在用于在反應區(qū)域中形成含有氧化物的異物的反應已經完成之后，一旦反應區(qū)域中的氧化劑的濃度已經下降至足夠的程度，并且不再有任何理由擔心氧化劑將從反應區(qū)域進入原料氣體空間至將干擾在那里占優(yōu)勢的工藝條件的程度，可以再次打開第一切斷構件。[0032]從過濾器表面清除的物質可從團聚物收集區(qū)域運送至下游排放區(qū)域。排放區(qū)域可以位于反應區(qū)域的下游，在這個意義上，在排放區(qū)域本身中不發(fā)生異物的進一步氧化。然而，可以想到，并且實際上優(yōu)選的是，反應區(qū)域還至少部分地包括排放區(qū)域，并且取決于氧化劑的存在，異物仍然在排放區(qū)域中被氧化。在這種情況下，不僅可將氧化劑供應至團聚物收集區(qū)域，而且可以供應至排放區(qū)域或甚至可以專門供應至排放區(qū)域。[0033]排放區(qū)域可以具有第二封閉裝置，該第二封閉裝置具有切斷構件，該切斷構件可以將排放區(qū)域與下游區(qū)域切斷，特別是可以以氣密方式切斷排放區(qū)域。第二封閉裝置不是絕對必要的，特別是如果目的是在引入排放區(qū)域的物質到達排放區(qū)域的下游端之前，實現(xiàn)可燃異物向含有氧化物的異物的大部分完全轉化。在沒有第二封閉裝置的情況下，或者當?shù)诙忾]裝置打開時，排放區(qū)域中的所希望的氧化反應可以非常有效地發(fā)生，同時快速向前輸送運送的物質的。當設置第二封閉裝置時，聯(lián)接的切斷構件可被設計為在其閉合位置形成氣密隔板。然而，這個特征也不是至關重要的；在許多情況下，僅針對大于一定尺寸的顆粒的切斷功能將是有效的。特別地，反應區(qū)可位于第一封閉裝置和第二封閉裝置之間。排放區(qū)域可以進一步包括收集容器。在收集容器中，可收集含有固體的物質，特別是來自從過濾器表面清除的物質的氧化的含有氧化物的產品，并最終被處理掉。[0034]在離開反應區(qū)域之后，特別是在到達排放區(qū)域的下游部分時，在反應區(qū)域中的沒有消耗的任何氧化劑以及，如果適用的話，作為過量流體或廢液(特別是在氣態(tài)流體的情況下，作為廢氣)產生的任何另外的流體全部或部分地返回反應區(qū)域可以是有用。例如，廢液出口或廢氣出口可以與收集容器聯(lián)接，并且離開廢液出口的流體流可以完全地或部分地返回或再循環(huán)到反應區(qū)域。特別地，在此提及的類型的流體再循環(huán)可以顯著地限制所消耗的流體的量，無論是作為氧化劑、傳熱流體、清洗流體和/或運送流體在輸送通過反應區(qū)域過程中不被消耗，且可無限期地保持在以此方式形成的回路中。如果有必要，可以將新鮮氧化劑添加至再循環(huán)流體流，以補償反應區(qū)域中的氧化劑消耗。[0035]如果設置了流體的再循環(huán)，特別地，則可以設置控制/調節(jié)系統(tǒng)，該控制/調節(jié)系統(tǒng)被設計成使得該回路內、特別地該反應區(qū)域內的流體壓力不超過和/或不低于預定值、特別地保持在預定范圍內。作為用于控制流體壓力的控制變量，可以規(guī)定，例如，作為廢液積累的流體流的僅一部分返回到反應區(qū)域，而另一部分排放到環(huán)境或外部廢液處理系統(tǒng)，返回的流體流總是被調節(jié)成使得回路中、特別是反應區(qū)域中的流體壓力保持恒定，特別是不超過預定值和/或不低于另一預定值，特別地保持在預定范圍內。[0036]在反應區(qū)域中，可以設置運送構件，以用于輸送從過濾器表面清除的物質。優(yōu)選地，運送構件可以是運送流體。例如，當設置固體注射器，以用于將物質從團聚物收集容器移除到排放管線中時，用于在固體注射器的運送端口處產生負壓或真空的流體可以充當用于進一步輸送從固體注射器下游的團聚物收集容器運送的物質的運送流體。運送構件可用于進一步快速且有效地輸送含有固體的物質。此外，運送構件可以改善含有固體的物質的混合或松散，使得這種物質更容易與氧化劑接觸?？商娲鼗蛄硗獾?，運送構件還可以包括螺旋運送機、旋轉閥、斜度或斜面和/或流化裝置。特別地，運濾器表面清除的物質的輸送方向可以被顛倒。[0037]以下將描述上述方法和下文進一步詳細描述的過濾器裝置的其他實施例：[0038]反應區(qū)域可包括收集容器。至少一個用于移動從過濾器表面清除物質的構件可以設置在收集容器中，特別是用于該收集容器的螺旋運送機、流化裝置、樞轉裝置和/或混合[0039]反應區(qū)域可以被設計為是溫控的，特別是加熱的和/或冷卻的。與上述不同，可以想到多種設計，其中，將點火裝置和/或加熱裝置指配至反應區(qū)域，以便主動地開始異物與氧化劑的反應。然后，清除的物質形成含有氧化物的異物的轉化不依賴于自發(fā)氧化的開始。在所有其他方面，前述和以述也適用于本發(fā)明的該替代性實施例。申請人保留例如以分案申請的方式將權利要求指向此類替代性實施例的權利。[0040]異物可以例如包含金屬或是金屬，并且具有粒狀、特別是片狀、粉末狀或煙霧狀的構型。特別地，異物可以具有不完全氧化或甚至完全不氧化的構型。特別地，異物可以是鈦粉或鈦片。異物可以不是氧化的金屬異物或不完全是氧化的金屬異物。例如，在金屬工件的增材制造過程中，當從粉末床逐層地構建工件時，通過使用粉末狀金屬物質產生這種異物。在這種方法中所用的可導致排出空氣中的可燃異物的典型金屬為鈦、鋁、鎂及其合金，以及[0041]該方法可以進一步包括將過濾助劑添加到原料氣體流、過濾器表面、反應區(qū)域、和/或排放區(qū)域的步驟。過濾助劑可以被配置成抑制從過濾器表面清除的異物和/或物質與氧化劑、特別是氧氣的反應。如果有必要，可以向廢氣中添加阻燃輔料，使得形成異物和過濾助劑的團聚物。基于SiO?的過濾助劑的添加已經證明特別適合于在使用鈦和/或鋁鎂合金的增材制造工藝中抑制原料氣體燃燒。例如，已知激光燒結方法作為產生趨于自燃的廢氣的增材制造工藝。[0042]過濾助劑可以是，例如，無機物質，特別地，氧化硅類無機物質或碳酸鈣類無機物質可以用作過濾助劑。特別地，過濾助劑可以用于確保在該反應區(qū)域中發(fā)生的氧化不會失去控制。[0043]當添加時，過濾助劑可具有顆粒狀，特別是粉末狀構型。這允許將過濾助劑精確計量到原料氣體流中和/或過濾器裝置中，特別是用于涂覆過濾器表面(預涂覆)。此外，合適的過濾助劑允許使用簡單的供給機構，諸如瓣閥供給或加壓氣體供給。當添加細粒的過濾[0044]過濾助劑可以被配置成以顆粒構型將含有金屬的異物結合在團聚物中，特別是在600℃或更高的溫度下，特別是在650℃或更高的溫度下，特別是在1220℃或更高的溫度下，特別是在750℃或更高的溫度下，特別是在1320℃或更高的溫度下。取決于過濾助劑，可以達到高達1000℃、特別是高達1250℃、特別是高達1500℃的溫度，而不會過多地抑制團聚物形成和/或致使團聚物的分解或崩解至不希望的大的程度。形成的團聚物在所提及的溫度范圍內是不可燃的或僅具有難燃性，使得與常規(guī)的過濾器裝置相比，更高的操作安全性是可能的。許多SiO?玻璃在從600℃開始的溫度下開始軟化，然后可與異物形成團聚物。取決于SiO?物質的構型，例如通過添加添加劑或將其形成為玻璃泡沫，軟化開始的溫度可以以合適的方式變化。[0045]與過濾助劑混合的團聚物可在強烈加熱時變成類似于玻璃熔體的可流動構型，并在冷卻至低于玻璃化轉變點之后變成玻璃狀構型。過濾助劑熔化并且由此捕獲熔體中的異物，使得在這種狀態(tài)下已經發(fā)生惰化。一旦熔體凝固，就形成玻璃狀或玻璃質的構型?？闪鲃訕嬓偷男纬煽梢蕴貏e是在加熱到600℃或更高，特別是650℃或更高，特別是1220℃或更高，特別是750℃或更高，特別是1320℃或更高的溫度至玻璃化轉變溫度以下之后可具有玻璃質構型。這可以防止氧化劑與含有金屬的異物接[0046]特別地，過濾助劑可以是具有玻璃質構型或可以在熱的影響下轉化成玻璃質構型的物質。[0047]具有玻璃質構型的基于二氧化硅的物質由固體制成并且具有非晶結構或至少部分晶體結構。這種玻璃以二氧化硅作為其主要成分并且它們的網狀結構主要由二氧化硅形成。特別地，這種玻璃包括所謂的硅酸鹽玻璃。硅酸鹽基玻璃可以以純的形式存在，例如作為硅石玻璃。如果希望較高的軟化溫度，石英玻璃也是可以想到的。除了硅酸鹽基玻璃之[0048]過濾助劑可具有以下物質中的至少一種作為主要成分：膨脹玻璃珠、玻璃粉、二氧化硅顆粒(SiO?顆粒)、石英粉或這些物質中至少兩種的混合物。特別地，非常合適的玻璃物質是由回收的廢玻璃(回收玻璃)制成的那些，諸如膨脹玻璃或發(fā)泡玻璃。通過研磨廢棄的碎玻璃并向其中添加粘合劑和/或膨脹劑來生產膨脹玻璃。這產生具有小充氣孔的大致圓形晶粒?？梢陨a晶粒度為0.04-16mm的膨脹玻璃。這些微粒具有閉合的孔結構。以類似的方式生產發(fā)泡玻璃、特別是發(fā)泡玻璃壓載物?？缮a玻璃或發(fā)泡玻璃，使得軟化范圍開始的溫度和/或玻璃化轉化溫度的下限取600℃至750℃之間的值。[0049]在著火的情況下，最初形成的仍為粉末狀或顆粒狀的過濾助劑和金屬粉末的團聚物在熱的作用下軟化或熔化?？闪鲃拥牟Ａ垠w圍繞含有金屬的異物并使它們具有惰性。在熔體固化后，形成玻璃狀結構，其中，含有金屬的異物永久地被封閉在過濾助劑中或被過濾助劑包圍。一旦形成可流動構型，金屬的單獨的自燃顆粒被過濾助劑結合(玻璃化)。處于玻璃化狀態(tài)，與氧化劑、特別是與氧(02)的反應很難或者根本不可能。特別地，所述類型的玻璃化過程發(fā)生在過濾助劑團聚物累積的那些位置。特別地，當產生熱時(例如在著火的情況下),已經在過濾器表面上的原料氣體側上形成并且還完全地或以任何比率地主要由過濾助劑團聚物組成的濾餅可以呈現(xiàn)出從粉末狀或顆粒狀構型到可流動的并且最終到玻璃狀構型的這樣一種相變。這種玻璃化過程也可以在操作過程中在團聚物收集區(qū)域中形成的本體圓錐體表面發(fā)生，導致包含在團聚物收集區(qū)域中的物質的有效惰性化?？梢酝ㄟ^不時地用過濾助劑層涂覆在團聚物收集區(qū)域中形成的本體物質錐體的表面來輔助這種玻璃化過程。[0050]形成的團聚物可在著火的情況下，即在氧化劑(通常為氧氣)存在下，在高達650℃的溫度下，特別是在高達750℃的溫度下，特別是在高達850℃的溫度下，特別是在高達1000℃的溫度下，特別是在高達1250℃的溫度下，特別是在高達1500℃的溫度下保持化學穩(wěn)定。[0051]過濾助劑還可以具有氣態(tài)構型。在這種情況下，過濾助劑還可以在異物和/或從過濾器表面清除的物質的氧化發(fā)生之后用作傳熱流體。[0052]在過濾器元件已經被清除并且從過濾器表面清除的物質已經沉積在團聚物收集區(qū)域和/或排放區(qū)域和/或反應區(qū)域中時，可以利用過濾助劑和/或氧化劑作用在團聚物收集區(qū)域和/或排放區(qū)域和/或反應區(qū)域。[0053]將氧化劑施加至團聚物收集區(qū)域和/或排放區(qū)域和/或反應區(qū)域可以與將過濾助劑施加至團聚物收集區(qū)域和/或排放區(qū)域，特別是在將過濾助劑施加至團聚物收集區(qū)域和/或排放區(qū)域和/或反應區(qū)域之前，或在將過濾助劑施加至團聚物收集區(qū)域和/或排放區(qū)域和/或反應區(qū)域之后成定時關系進行。[0054]根據本發(fā)明的用于清潔攜帶異物的原料氣體的過濾器裝置包括在原料氣體空間中具有至少一個過濾器表面的至少一個過濾器元件，含有異物的原料氣體流可以被供應到至少一個過濾器元件。此外，設置氧化劑供應裝置，其適于將氧化劑供應到位于過濾器表面下游的過濾器表面的原料氣體側上的反應區(qū)域。氧化劑供給設施被設計成使得包含在從過濾器表面清除的物質中和/或原料氣體流中的異物與反應區(qū)域中的氧化劑反應，以形成含有氧化物的異物。[0055]上文參照根據本發(fā)明的方法給出的解釋也類似地適用于根據本發(fā)明的過濾器裝[0056]特別地，氧化劑可以是空氣或含氧氣體。特別地，反應區(qū)域可以位于原料氣體空間的下游。特別地，反應區(qū)域可以被適配成當供應氧化劑時相對于原料氣體空間被切斷。這些措施有助于確保原料氣體空間保持基本不含氧化劑。[0057]過濾器裝置可以被設計成使得，在從過濾器表面清除的物質與氧化劑的反應過程中，可以從反應區(qū)域移除未消耗的氧化劑。這可以實現(xiàn)對在反應區(qū)域中發(fā)生的反應的特別好的控制。[0058]過濾器裝置可以具有氧化劑入口和氧化劑出口，氧化劑入口被設計為將氧化劑供應至反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域，氧化劑出口被設計為將氧化劑從反應區(qū)域或從反應區(qū)域的部分區(qū)域排出，氧化劑出口特別地不同于氧化劑入口。[0059]過濾器裝置可以進一步被配置成通過與在反應過程中形成的含有氧化物的異物(并且如果適用的話，尚未反應的異物)相同的氧化劑出口排出、特別是吸走未消耗的氧化[0060]反應區(qū)域可以包括氧化劑出口下游的區(qū)域，特別是下游管線、運送裝置和/或容[0061]當氧化劑出口連接至氣動運送裝置時，尤其是連接至作為固體注射器或噴射泵操作的運送裝置和/或連接至抽風機時，其是特別合適的。過濾器裝置還可具有氣動運送裝置，特別是作為固體注射器或噴射泵操作的運送裝置，氣動運送裝置被設置用于排出在反應過程中形成的含有氧化物的異物和任何尚未反應的異物。氣動運送裝置還可用于從反應區(qū)域或從反應區(qū)域的部分區(qū)域移除氧化劑或其他氣態(tài)物質。[0062]過濾器裝置可以被設計為將負壓施加至反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域，特別是在從過濾器表面清除的物質與氧化劑的反應過程中和/或之后。另外地或可替代地，過濾器裝置可被配置為利用惰性流體，特別地，利用惰性氣體作用在反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域上。[0063]過濾器裝置還可以具有控制系統(tǒng)，該控制系統(tǒng)被布置成使得從過濾器表面清除的物質與氧化劑的反應在反應階段發(fā)生，其中，在反應階段過程中設置成將氧氣施加至反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域，和/或在相應的反應階段之后，將未添加氧化劑的惰性流體施加至反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域。[0064]過濾器裝置可以具有不同于氧化劑入口的進入反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域的另外的流體入口，以用于引入惰性流體。[0065]過濾器裝置可以包括除了氧化劑出口之外的另外的出口，以用于從反應區(qū)域和/或從反應區(qū)域的部分區(qū)域排出惰性流體和/或氧化劑。[0066]在任何情況下，在從過濾器表面清除的物質與氧化劑的反應已經發(fā)生之后，反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域可以受到惰性流體、特別是惰性氣體，和/或負壓作用。在這種情況下，惰性流體從反應區(qū)域或從反應區(qū)域的部分區(qū)域置換氧化劑，使得不受控的氧化不再發(fā)生。該效果也可以通過向反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域施加負壓來實現(xiàn)，即，從反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域吸走或抽出氧化劑。在此方面，兩個措施也可以結合并且彼此[0067]過濾器裝置可以進一步包括氧化劑入口，經由氧化劑入口可以將氧化劑供應至反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域。氧化劑入口可以設置有切斷裝置，以允許氧化劑以受控方式進入反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域。過濾器裝置還可以具有出口，特別地不同于氧化劑入口的出口，在從過濾器表面清除的物質與氧化劑的反應已經發(fā)生之后，通過該出口可以排出仍然存在于反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域中的氧化劑。[0068]優(yōu)選地，氧化劑入口可以布置在反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域的頂端，該頂端布置在反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域的面向原料氣體空間的一側。特別地，出口可布置在反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域的底端處，該底端布置在反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域的背對原料氣體空間的一側上。這種布置允許氧化劑高效且可靠地供應到反應區(qū)域，并且還允許從過濾器表面清除的物質與氧化劑流一起通過該出口被可靠地從反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域清空。[0069]過濾器裝置還可以設置有共用出口，通過該共用出口，從過濾器表面清除的物質與氧化劑反應的殘渣，特別是形成的含有氧化物的異物、完全或部分未反應的物質和過量氧化劑可以從反應區(qū)域或從反應區(qū)域的部分區(qū)域移除。這導致過濾器裝置的簡單結構，特別是反應區(qū)域的簡單結構。反應區(qū)域或反應區(qū)域的部分區(qū)域可具有流過其中的傳熱流體，以用于移除在反應過程中產生的熱。[0070]反應區(qū)域還可包含團聚物收集區(qū)域，其被設計成接收從過濾器表面清除的物質，由此，在清除之后已積聚在過濾器表面上的異物或含有異物的團聚物可被收集并存儲在團[0071]團聚物收集區(qū)域可以具有與其聯(lián)接的第一封閉裝置，該第一封閉裝置具有第一切斷構件并且被設計為使得它能夠在清除過程中從過濾器表面脫落的物質，特別是僅短暫地，被收集在團聚物收集區(qū)域中，并且將清除的物質收集在團聚物收集區(qū)域中之后，在任何情況下切斷反應區(qū)域與原料氣體空間，至少直到反應區(qū)域中的氧化劑的濃度已經下降到足夠的程度。[0072]此外，過濾器裝置可以具有在團聚物收集區(qū)域下游的排放區(qū)域，從過濾器表面清除的物質可以被運送到該排放區(qū)域中，特別地，反應區(qū)域包括該排放區(qū)域的至少一部分，并且具體地，可以將氧化劑供給至團聚物收集區(qū)域和/或排放區(qū)域中。[0073]排放區(qū)域可以具有第二封閉裝置，其中特別地，反應區(qū)域布置在第一封閉裝置與第二封閉裝置之間。[0074]在反應區(qū)域中，可以設置運送構件，該運送構件被配置成輸送從過濾器表面清除的物質，其中具體地，該運送構件包括運送流體。例如，當固體注射器被設置成用于將物質從團聚物收集容器排放到排放管線中時，用于在固體注射器的運送端口處產生負壓的流體可充當運送流體，以用于進一步輸送從固體注射器下游的團聚物收集容器運送的物質。[0075]關于單獨特征的優(yōu)點和益處，參考根據本發(fā)明的方法和其他特征的描述。[0076]氧化劑可以是空氣或含氧氣體，特別是氧含量為1-21體積%的含氧氣體。在從反應區(qū)域中，氧化劑能夠使從過濾器表面清除的異物和/或物質自發(fā)反應。反應區(qū)域可位于原料氣體空間的下游。[0077]過濾器裝置可以設置成用于將傳熱流體供應到反應區(qū)域并在流動通過反應區(qū)域或反應區(qū)域的一部分之后排出傳熱流體，以移除在氧化過程中產生的熱以及含有氧化物的異物和過量氧化劑的布置。[0078]用于輸送從過濾器表面清除的物質的運送構件，特別是螺旋運送機、旋轉閥、斜度或斜面和/或流化裝置可設置在反應區(qū)域中。特別地，運送構件可以被設計成使得從過濾器表面清除的物質的傳輸方向是可逆的。特別地，輸送構件可以是氣動輸送設施，諸如固體注射器。[0079]排放區(qū)域可以包括廢液出口區(qū)域，在穿過該過程之后產生的流體物質可以通過該廢液出口區(qū)域被排放。如果如本文所述的借助氣態(tài)流體，尤其是借助氣態(tài)氧化劑、傳熱流體、清洗流體和/或運送流體對從過濾器表面清除的物質進行氧化處理，則氣態(tài)流出物(廢化而使用的，不管在過程結束時積聚的流體主要是氣態(tài)還是液態(tài)。廢氣出口區(qū)域可以具有帶有至少一個過濾器元件的過濾器單元和廢氣出口。特別地，廢氣出口區(qū)域可以包括加壓氣體清除裝置。該加壓氣體清除裝置可以被配置成向至少一個過濾器元件施加壓力脈沖?？商娲兀^濾器單元可以具有帶有儲存過濾器的至少一個過濾器元件。廢氣出口區(qū)域可以被設計成使得特別是在反應過程中形成的殘渣與過量氧化劑的混合物可以在其中被過濾并且通過廢氣出口從過濾器裝置中排出。[0080]特別地，過濾器裝置可以具有流體再循環(huán)單元，該流體再循環(huán)單元被設計成使得在離開反應區(qū)域之后，在該反應區(qū)域中的未消耗的氧化劑以及，如果適用的話，作為廢液或廢氣積聚的另外的流體完全地或部分地返回到反應區(qū)域中。特別地，可以設置控制/調節(jié)系統(tǒng)，該控制/調節(jié)系統(tǒng)被設計成使得由此產生的回路內，特別是反應區(qū)域中的流體壓力不超過預定上限值和/或不低于預定下限值，特別地保持在預定范圍內。[0081]排放區(qū)域可以包括用于含有固體的物質的收集容器，其中，可以收集含有固體的物質，特別是含有氧化物的異物。收集容器一旦被填充，收集容器可由操作者移除并用空的收集容器替換。因此，可以避免過濾過程的中斷。特別地，排放區(qū)域可以包括用于隔離含有固體的物質的收集容器，收集容器具有用于流體、特別是氣態(tài)物質的出口(廢氣出口)。在這種情況下，該出口可以具有與其聯(lián)接的過濾器單元，以用于從上述類型的異物清潔流體物[0082]用于溫度控制，特別是用于加熱和/或冷卻反應區(qū)域或反應區(qū)域的一部分的布置可以與反應區(qū)域或反應區(qū)域的一部分聯(lián)接。在可替代性實施例中，反應區(qū)域或反應區(qū)域的一部分可以包括點火裝置和/或加熱裝置，以用于主動啟動異物與氧化劑的反應。[0083]此外，過濾器裝置可以包括過濾助劑供給布置，該過濾助劑供給布置具有過濾助劑供給管線，該過濾助劑供給管線通向原料氣體空間中、通向原料氣體空間上游和/或下游的原料氣體流中、和/或通向反應區(qū)域中和/或通向排放區(qū)域中、特別地通向收集容器中，以用于供給過濾助劑。由此，,過濾助劑可以被配置成，一旦從過濾器表面清除的物質的第一次氧化已經發(fā)生，就抑制異物與氧化劑(特別是與氧氣)的進一步反應。附圖說明[0084]下文將通過示例性實施例更詳細地解釋本發(fā)明和本發(fā)明的特定實施例。[0085]圖1示出了根據本發(fā)明的過濾器裝置的側視圖。[0086]圖2以相對于圖1的視圖旋轉了90度的側視圖示出了圖1的過濾器。[0087]圖3示出了反應區(qū)域的實施例的示意圖。[0088]圖4示出了反應區(qū)域的另一實施例的示意圖。[0089]圖5示出了反應區(qū)域的另一實施例的示意圖。[0090]圖6示出了示例性排放區(qū)域、特別是用于含有固體的物質的收集容器的示意圖。具體實施方式[0091]圖1和圖2以相對于彼此旋轉90度的側視圖示出了根據本發(fā)明實施例的用于清潔攜帶異物的原料氣體的過濾器裝置10。過濾器裝置10包括具有至少一個過濾器元件14的過濾器單元12(在圖1中未示出，在圖2中示出了過濾器單元12的過濾器元件14中的一個)。過濾器單元12安裝在殼體18的上部中的原料氣體流入開口16的上方，為了清楚起見，原料氣體流入開口16被部分地省略。過濾器單元12包括干式過濾器形式的多個過濾器元件14,過濾器元件14中的每一個均被配置成剛體過濾器。這旨在表明，過濾器元件14的壁具有足夠的剛性，以在沒有其他支撐結構的幫助的情況下保持過濾器元件14直立。在這個意義上，過濾器元件14是固有穩(wěn)定的。過濾器元件14懸掛在水平延伸的共用保持器上并且在豎直方向上彼此平行地延伸。這在圖2中示意性地示出，圖2示出了大致處于其安裝位置的過濾器元件14中的一個。應當注意的是，過濾器元件14在殼體18中的不同安裝也是可能的，例如水平安裝，其中，過濾器元件在水平方向上延伸并且附接到豎直保持器。過濾器元件14中的每一個均具有原料氣體作用在其上的至少一個過濾器表面。在圖1和圖2中，原料氣體作用在其上的過濾器表面位于相應的過濾器元件14中的一個的外側(原料氣體側)。凈化的氣體在穿過過濾器元件14的壁之后，從原始氣體側流到清潔氣體側，凈化的氣體面向由過濾器元件14的壁圍繞的內部空間。過濾器元件14朝向頂部敞開，使得清潔氣體空間17從內部空間延伸到過濾器單元12上方的區(qū)域。[0092]在圖1和圖2中所示的下部區(qū)域18b中，殼體18采取具有向下漸縮的側壁的漏斗的形式。與下部區(qū)域18b相鄰的是反應區(qū)域24,已積聚在原料氣體側的過濾器元件處的含有異物的物質在過濾器元件14中的相應的一個的清除(例如，通過向相應的過濾器元件14施加壓力脈沖，參見圖2中示意性示出的加壓氣體清除單元58)之后落入反應區(qū)域24中。特別地，進入反應區(qū)域24的物質含有來自原料氣體流和/或來自從過濾器表面清除的物質的含有異物的物質。反應區(qū)域24位于殼體18的下游并且經由通道28連接至圍繞原料氣體空間15的殼體18的下部區(qū)域18b。具有第一切斷構件30的第一封閉裝置布置在通道28中。第一切斷構件[0093]在所示示例中，反應區(qū)域24具有漏斗形容器32,漏斗形容器32形成團聚物收集區(qū)域33。在所示示例中，容器32具有遠離原料氣體空間15向下漸縮的側壁。容器32還可以采取另一種形狀，諸如圓柱形形狀或矩形形狀。容器32在其頂端34處(即，容器32的面向原料氣體空間15的端部)具有可選的另外的流體入口3以及另外的流體出口40,過量流體(諸如過量氧化劑、過量清洗流體、用于去除在反應過程中產生的熱的傳熱流體、或上述流體的混合物)可以通過另外的流體出口40離開容器32。應當注意的是，如果需要，可以設置多個附加流體入口38和多個附加流體出口40,并且可根據需要選擇容器32上的這些另外的入口或另外的出口的布置。[0094]容器32在其下部區(qū)域中或在其底端42處(即，在容器32的遠離原料氣體空間15的末端處)具有氧化劑入口36。氧化劑入口36被配置成允許氧化劑流被引入團聚物收集區(qū)域33中。除諸如氧氣的氧化劑外，其他流體(例如惰性流體，尤其是諸如氮氣的惰性氣體)也可以通過氧化劑入口36被引入圍繞團聚物收集區(qū)域33的容器32中。另外的流體與氧化劑的混合物可用于調節(jié)氧化劑的合適濃度，以用于清洗目的和/或用于移除熱。如果另外的流體用作傳熱流體和/或清洗流體，則該另外的流體可以可替代地或另外地經由一個或更多個另外的流體入口(諸如上述另外的流體入口38)被引入容器32中。特別地，氧化劑入口36可被配置為諸如具有流化盤的流化裝置，使得在引入氧化劑流時，也可實現(xiàn)團聚物收集區(qū)域33中的含有固體的物質的松散或流化。[0095]容器32進一步包括用于排出含有固體的物質的出口39,出口39在所示實施例中位于容器32的下部區(qū)域中。優(yōu)選地，這種含有固體的物質將包括在氧化過程中形成的含有氧化物的異物。然而，從過濾器表面清除的已進入團聚物收集區(qū)域33的所有異物和/或物質在經由出口39從容器32中移除時已經被完全氧化是沒有必要的。還可能的是，可氧化的異物的氧化仍可以在出口39的下游發(fā)生。[0096]生產可氧化或可燃殘渣的增材制造工序中的工藝環(huán)境通常應為惰性的且不改變或至少不過度改變。這也適用于在該工序中產生的廢氣的處理，特別是如果清潔的廢氣在環(huán)路或回路中再循環(huán)到該工序中。如果廢氣中的可燃異物可以通過干式過濾器清除，惰性載氣和顆粒異物的惰性混合物通常將進入原料氣體空間，其中，氧氣和其他可以充當氧化劑的物質的比例低于預定閾值。因此，承載可燃異物的原料氣體的過濾在惰性條件下進行，且不希望向原料氣體空間加入氧氣或其他具有氧化效果的物質。這使得通過氧化使得積聚在過濾器表面上的含有固體的物質變得無害的可能性變得復雜。[0097]在圖1中用箭頭44示意性表示并且攜帶待由裝置10分離的異物的原料氣體流通過原料氣體流入開口16經由原料氣體供給管線54進入由殼體18包圍的原料氣體空間15。在進入原料氣體空間15之后，原料氣體流44被輸送到過濾器單元12。在殼體18的與原料氣體流入開口16相對的一側上具有過濾助劑供給開口20,通過過濾助劑供給開口20可將過濾助劑(例如具有阻燃特性的諸如CaCO?或基于SiO?的固體)從儲存容器供給至原料氣體空間15中。可以在將原料氣體流44充入原料氣體空間15之前，將過濾助劑引入原料氣體空間15中。然后，引入的過濾助劑特別地積聚在過濾器元件14的過濾器表面上和/或原料氣體空間15的壁上，其中，過濾助劑各自均形成過濾助劑層(預涂覆層)。通過過濾助劑供給開口20進入原料氣體空間15的過濾助劑流通過圖1中的箭頭45表示。[0098]可替代地或另外地，過濾助劑供給開口52可以布置在原料氣體供給管線54中。原料氣體供給管線54連接至原料氣體流入開口16。這允許在原料氣體流44進入過濾器裝置10的原料氣體空間15之前將過濾助劑引入原料氣體流44中。這導致包含在原料氣體流44中的異物與過濾助劑的有利混合，以便提高該原料氣體的自燃閾值。可選地，擋板或分配器板56可設置在過濾助劑供給開口52附近，使得過濾助劑均勻分布在原料氣體流44中。[0099]在圖2中示意性地示出的，加壓氣體清除單元58與過濾器單元12聯(lián)接，加壓氣體清除單元58位于過濾器元件14上方的過濾器單元12的清潔氣體空間17中。在一定的時間間隔，加壓氣體清除單元58對相應的過濾器元件14加壓，使得過濾器元件14經受來自清潔氣體空間17的壓力沖擊。壓力沖擊引起諸如容易自燃的異物異物，并且在一些情況下還有過濾助劑，積聚在相應的過濾器元件14的原料氣體側上的過濾器表面上，以從過濾器元件14脫落并且由于它們的重力而向下落下。從過濾器表面清除的物質然后與異物以及過濾助劑一起通過通道28落入反應區(qū)域24中的團聚物收集區(qū)域33中。[0100]第一切斷構件30是常開的，使得在原料氣體空間15與反應區(qū)域24之間存在流體連通。這尤其在過濾器元件14的清除循環(huán)的開始時和過程中保持。以這種方式，在清除期間從過濾器表面落下的物質可以不受阻礙地或者至少基本上不受阻礙地落入反應區(qū)域24的團聚物收集區(qū)域33中并且不會顯著地沉積在圍繞原料氣體空間15的殼體18的底板或壁上。一旦清除已經完成并在反應區(qū)域24中開始氧化循環(huán)，就關閉第一切斷構件30,使得反應區(qū)域24的團聚物收集區(qū)域33以流體密封的方式與原料氣體空間15隔開至少一段時間，在這段時間內，含有氧化劑的環(huán)境在團聚物收集區(qū)域33中占優(yōu)勢。然后，氧化劑經由氧化劑入口36被引入團聚物收集區(qū)域33中，以引起進入團聚物收集區(qū)域33的物質的自發(fā)氧化。氧化劑入口36被設計成使得氧化劑流經團聚物收集區(qū)域33中的含有固體的物質(特別是從過濾器表面上清除的可氧化的物質)或將其混合，并且因此自發(fā)地引發(fā)這種物質的氧化，即，無需通過加熱裝置、點火裝置等額外輸入能量。然后，通過氧化形成的含氧化物(現(xiàn)在為惰性異物)、過量氧化劑和其他物質可經由出口39沿排放管線60運送到團聚物收集區(qū)域33下游的排放區(qū)域62中。在該排出工序完成之后，團聚物收集區(qū)域33中的氧化劑的濃度已經下降到不再擔心原料氣體空間15的污染的程度，于是可以再次打開切斷構件30。為了幫助從圍繞團聚物收集區(qū)域33的容器32中排出氧化劑，可以經由可選的另外的流體入口38將氮氣、稀有氣體或另一惰性氣體形式的清除流體引入容器32中。這允許仍存在于容器32中的殘存氧化劑經由另外的流體出口40從容器32移除，并因此從團聚物收集區(qū)域33移除，以在容器32中或在團聚物收集區(qū)域33中產生惰性環(huán)境。當切斷構件30打開時，來自原料氣體流44的異物和從過濾器表面清除的物質可以再次進入反應區(qū)域24而無需中間儲存。通過不在殼體18的下部區(qū)域18b中收集異物，有效地避免了塵橋，否則塵橋將強烈地削弱異物隨后滑動到反應區(qū)域24中。[0101]作為變型，可以想到的是，經由氧化劑入口36和/或經由另外的流體入口38,惰性流體(例如氮氣或稀有氣體)的連續(xù)流至少暫時地穿過容器32,該連續(xù)流通過反應區(qū)域24的團聚物收集區(qū)域33,流到出口39并且再次通過出口39離開容器32。一旦過濾器元件14或多個過濾器元件的清除已經發(fā)生并且切斷構件30被關閉，就可以將足夠量的氧化劑添加到該流體流，使得位于團聚物收集區(qū)域33中的物質可以通過氧化進行反應或轉化。一旦轉化已經發(fā)生到所希望的程度，就可以停止向該流體流供應氧化劑，并且含有氧化物的異物或再反應的異物可以隨著該流體流從團聚物收集區(qū)域33或者從容器32經由排放管線60輸送到排放區(qū)域62。[0102]加壓氣體清除單元58的啟動之間的協(xié)調，即，一個或更多個相應的過濾器元件14對粘附到過濾器表面的物質的清除，以及切斷構件30的打開和關閉是由控制單元59執(zhí)行的?？刂茊卧?9可被配置成使得切斷構件30作為默認設置是打開的，由此使得原料氣體中的未到達過濾器元件14或在清除循環(huán)之外從過濾器元件表面脫落的異物直接落入反應區(qū)域24的團聚物收集區(qū)域33中。即使在過濾器元件14的清除過程中，切斷構件30保持打開，以允許從過濾器表面清除的物質排出到反應區(qū)域24中，而不進行中間儲存。清除一完成，控制單元59就短時間的關閉切斷構件30,使得可準許氧化劑進入反應區(qū)域24中，特別地，進入圍繞團聚物收集區(qū)域33的容器32中，反應區(qū)域24現(xiàn)在與原料氣體空間15隔開。在預定時間之后，可假定團聚物收集區(qū)域33中的從過濾器表面清除的物質已經被氧化至足以形成含有氧化物的異物的程度。在反應中所加入的氧化劑沒有被消耗的程度上，然后過量氧化劑從團聚物收集區(qū)域33中移除，使得在反應區(qū)域24中再次出現(xiàn)惰性環(huán)境，即，氧化劑濃度低至即使從過濾器表面清除的異物或物質進入團聚物收集區(qū)域33,也不再發(fā)生氧化。然后，控制單元59可使切斷構件30重新打開，以再次允許從過濾器表面清除的異物和物質進入團聚物收集區(qū)域33。[0103]在某些實施例中，容器32可設置成是可移動的或被攪拌裝置和/或敲擊裝置作用，以產生容器32的相應的搖擺運動、振動、搖動運動等，以便于含有固體的物質的隨后或繼續(xù)向下滑動通過出口39.以這種方式，可以實現(xiàn)盡可能完全地排空團聚物收集區(qū)域33。[0104]除排放管線60之外，排放區(qū)域62優(yōu)選地還包括收集容器64,含有氧化物的異物被收集在收集容器64中。經由排放管線60到達收集容器64的流體物質，特別是氣體物質經由廢氣出口130再次從收集容器64排出。[0105]可選地，具有第二切斷構件66的第二封閉裝置可設置在例如收集容器64附近的區(qū)域中的排放管線60中。因此，第二封閉裝置也與排放區(qū)域62聯(lián)接。第二封閉裝置被設計為將排放區(qū)域62的上游部分與下游部分隔開，該上游部分仍屬于反應區(qū)域24并且仍發(fā)生含有異物的物質的氧化，該下游部分不再發(fā)生該氧化。然而，并不重要地需要設置第二封閉裝置并不是必需的。已經發(fā)現(xiàn)的是，所希望的氧化反應可以完全在排放區(qū)域62中，特別是在排放管線60中發(fā)生，并且特別是可以在通過排放管線60運送的物質到達排放管線60的下游端之前完成，在排放管線60的下游端，排放管線60例如通向收集容器64中。[0106]排放管線60的下游端通向收集容器64。當?shù)竭_收集容器64時別是在氧化期間形成的含有氧化物的異物，落入排放區(qū)域62的收集容器64中，并因此可以被處理掉。在頂部，廢氣出口區(qū)域120(見圖6)通向收集容器64。在廢氣出廢氣出口130,過量的流體物質、特別是氧化劑、清洗流體、運送流體、傳熱流體以及其他流體可以通過廢氣出口130從排放區(qū)域62排出。如果需要，過量的流體物質(下文也簡稱為廢氣)可經由切斷閥78排放到環(huán)境或排氣系統(tǒng)?？商娲?，如圖2所示，過量的流體物質的全部或一部分可以返回至反應區(qū)域24,特別地返回至氧化劑入口36。同樣在這種情況下，可選地，可以設置切斷閥78。下面將更詳細地描述圖2所示的布置。[0107]圖3示出了容器32的另外的實施例。下面將僅更詳細地描述與圖1和圖2的容器32不同的特征。對于圖3中的附加特征的描述，參照圖1和圖2的記表示相同或相應的特征。在圖3的實施例中，氣動運送裝置(在這種情況下被配置為固體注射器80)設置成從容器32運送物質。在該實施例中，中空噴管68從容器32的頂端34延伸到容器32的內部中。中空噴管68的尖端延伸至容器32的根部或底端42附近的位置。中空噴管68在與其尖端相鄰的區(qū)域中包括一個或更多個開口，物質可以通過一個或更多個開口從容器32中排出，并且該中空噴管68連接至固體注射器80的運送端口74。[0108]可替代地或除了固體注射器之外，還可以設置吸風機，以從容器32運送物質、特別是氣態(tài)物質。像固體注射器一樣，吸風機可以經由中空噴管68連接到容器32并且可以特別地設置成用于從團聚物收集區(qū)域33抽出或吸走氧化