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文檔簡(jiǎn)介
ICS
CCS
團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)
T/CESAXXXX—202X
汽車(chē)用集成電路應(yīng)力測(cè)試規(guī)范
Automotiveintegratedcircuits–Stresstestspecification
征求意見(jiàn)稿
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號(hào)和申請(qǐng)日期。
202X-XX-XX發(fā)布202X-XX-XX實(shí)施
中國(guó)電子工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)協(xié)會(huì)發(fā)布
T/CESAXXXX—202X
汽車(chē)用集成電路應(yīng)力測(cè)試規(guī)范
1范圍
本文件規(guī)定了汽車(chē)用集成電路加速環(huán)境應(yīng)力試驗(yàn)、加速壽命模擬試驗(yàn)、封裝完整性試驗(yàn)、晶圓可靠
性試驗(yàn)、電氣特性試驗(yàn)、缺陷篩選監(jiān)測(cè)、氣密性封裝完整性試驗(yàn)要求,以及為保證汽車(chē)用集成電路滿足
預(yù)定用途所要求的質(zhì)量和可靠性而必須的控制措施和限制條件。
本文件適用于汽車(chē)用集成電路可靠性試驗(yàn)和質(zhì)量要求。
注:本文中“用戶”是指使用那些通過(guò)鑒定器件的所有客戶。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,僅所注日期的版本適用于本文
件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本文件。
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的。凡是注明日期的引用文件,僅所注日期的版本適用于本
文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的更改單)適用于本文件。
GB/T4937半導(dǎo)體器件機(jī)械和氣候試驗(yàn)方法
GB/T9178集成電路術(shù)語(yǔ)
GB/T14113半導(dǎo)體集成電路封裝術(shù)語(yǔ)
GB/T35005集成電路倒裝焊試驗(yàn)方法
GJB548微電子器件試驗(yàn)方法和程序
GJB7677球柵陣列(BGA)試驗(yàn)方法
SJ21147.2集成電路電磁發(fā)射測(cè)量方法第2部分輻射發(fā)射測(cè)量—TEM小室和寬帶TEM小室法
3術(shù)語(yǔ)和縮略語(yǔ)
下列術(shù)語(yǔ)和縮略語(yǔ)適用于本文件。
3.1術(shù)語(yǔ)和定義
3.1.1
鑒定qualification
產(chǎn)品按規(guī)定的標(biāo)準(zhǔn)、程序和條件下所作的全部測(cè)試試驗(yàn),來(lái)評(píng)估是否滿足質(zhì)量可靠性要求。
3.1.2
封裝形式packagetype
具有特定的外殼外形、結(jié)構(gòu)、材料及組裝工藝的封裝類(lèi)型。
3.1.3
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供應(yīng)商supplier
集器件設(shè)計(jì)、制造和封裝等環(huán)節(jié)于一身的廠商或只負(fù)責(zé)設(shè)計(jì)與銷(xiāo)售的廠商。
3.1.4
靜電放電敏感度分級(jí)electrostaticdischarge/ESD
指一個(gè)器件易受靜電損傷的程度。
3.1.5
任務(wù)剖面missionprofile
任務(wù)剖面是器件在汽車(chē)某一應(yīng)用的全生命周期,完成某個(gè)特定任務(wù)時(shí),基于時(shí)間所經(jīng)歷的事件和環(huán)
境。
3.1.6
過(guò)程能力指數(shù)processcapabilityindex
過(guò)程能力指數(shù)表示過(guò)程能力滿足技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(例如規(guī)格、公差)的程度,一般記為CPK。
3.1.7
晶粒die
晶粒是指從硅晶圓上切割而成,還未封裝前具有獨(dú)立功能的一小塊集成電路本體。
3.2縮略語(yǔ)
ADC(Analog-to-DigitalConverter)模數(shù)轉(zhuǎn)換器
CMOS(ComplementaryMetalOxideSemiconductor)互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體
DRAM(DynamicRandomAccessMemory)動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器
FIT(FailureInTime)時(shí)間故障率
NMOS(N-Metal-Oxide-Semiconductor)N型金屬-氧化物-半導(dǎo)體
SRAM(StaticRandom-AccessMemory)靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器
UBM(UnderBumpMetallurgy)凸點(diǎn)下金屬層
4要求
4.1總則
汽車(chē)用集成電路通過(guò)本文件規(guī)定的應(yīng)力測(cè)試能夠指示在應(yīng)用中能夠提供一定水平的質(zhì)量可靠性,用
戶也有責(zé)任核實(shí)所有的測(cè)試試驗(yàn)數(shù)據(jù)與本文件相一致。供應(yīng)商應(yīng)在產(chǎn)品規(guī)格說(shuō)明書(shū)中盡量采用本文件所
規(guī)定的工作溫度等級(jí)。不同工作溫度等級(jí)的集成電路應(yīng)滿足本文件所規(guī)定的各項(xiàng)應(yīng)力測(cè)試的最低要求。
為實(shí)現(xiàn)器件零缺陷的目標(biāo),汽車(chē)用集成電路產(chǎn)品工藝設(shè)計(jì)、產(chǎn)品設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造、和產(chǎn)品改進(jìn)階段,應(yīng)
該按零缺陷的策略。只有當(dāng)通過(guò)本文件規(guī)定的全部測(cè)試試驗(yàn)項(xiàng)目后,供應(yīng)商方可聲明集成電路產(chǎn)品滿足
本文件規(guī)定的要求。供應(yīng)商可以根據(jù)用戶的要求,遵循本文件進(jìn)行測(cè)試試驗(yàn),可結(jié)合產(chǎn)線管控等系統(tǒng)級(jí)
可靠性措施,向用戶提供試驗(yàn)數(shù)據(jù)證明集成電路產(chǎn)品滿足系統(tǒng)級(jí)可靠性要求。對(duì)于器件通過(guò)ESDHBM和
ESDCDM,強(qiáng)烈推薦供應(yīng)商將通過(guò)ESD電壓級(jí)別在數(shù)據(jù)手冊(cè)中標(biāo)注,并將未通過(guò)的個(gè)別管腳列出,對(duì)于先
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進(jìn)CMOS工藝節(jié)點(diǎn)(28nm及以下)和射頻器件,尤其是ESDHBM水平低于2kV和ESDCDM水平低于750/500V
的情況應(yīng)予以標(biāo)注。
為確保能夠有效激發(fā)和加速器件的失效,試驗(yàn)條件選擇應(yīng)充分考慮以下因素:
a)各類(lèi)失效機(jī)理;
b)實(shí)際使用無(wú)法暴露,但在某些應(yīng)力試驗(yàn)條件下可能會(huì)誘發(fā)的失效;
c)任何超出常規(guī)的應(yīng)用或使用條件,會(huì)對(duì)加速失效造成不利影響。
4.2工作溫度等級(jí)
工作溫度等級(jí)的規(guī)定如表1所示:
表1工作溫度等級(jí)
等級(jí)工作環(huán)境溫度范圍
0-40℃至+150℃
1-40℃至+125℃
2-40℃至+105℃
3-40℃至+85℃
如果應(yīng)力試驗(yàn)前后要求進(jìn)行高低溫終點(diǎn)測(cè)試,其溫度應(yīng)等于工作溫度等級(jí)規(guī)定的溫度范圍的最高或
最低值。
由于加電測(cè)試時(shí)器件結(jié)點(diǎn)存在加熱效應(yīng),高溫測(cè)試時(shí)的溫度可能會(huì)高于工作溫度等級(jí)的規(guī)定。例如
加速壽命模擬試驗(yàn)(B組試驗(yàn)),包括:高溫工作壽命、壽命早期失效率和非易失性存儲(chǔ)器的耐久性(NVM)、
數(shù)據(jù)保持工作壽命,試驗(yàn)過(guò)程中的器件結(jié)點(diǎn)溫度會(huì)等于或高于工作溫度等級(jí)的最高溫度上限。
4.3文件適用優(yōu)先順序
當(dāng)本文件中的要求與其他文件規(guī)定有沖突時(shí),適用以下優(yōu)先順序:
a)用戶采購(gòu)訂單(或者主要采購(gòu)協(xié)議條款與條件);
b)集成電路(IC)技術(shù)規(guī)范(經(jīng)用研雙方商定的);
c)本文件;
d)本文件第6章中的引用文件;
e)供應(yīng)商提供的數(shù)據(jù)手冊(cè)。
供應(yīng)商即使聲明其產(chǎn)品符合本文件要求,也不能免除實(shí)際執(zhí)行時(shí)應(yīng)至少滿足采購(gòu)訂單以及技術(shù)規(guī)范
的有關(guān)規(guī)定。
4.4用戶指定的壽命要求(任務(wù)剖面)
如果用戶要求的鑒定覆蓋指定任務(wù)剖面,可以使用附錄G中的流程圖來(lái)確定鑒定策略,使用表2的標(biāo)
準(zhǔn)測(cè)試計(jì)劃或修改的測(cè)試計(jì)劃。附錄G的使用是基于知識(shí)的測(cè)試方法(KBTM),并且哪些元素應(yīng)該被使
用提供了指導(dǎo)。當(dāng)供應(yīng)商和用戶充分溝通后,可以在某些項(xiàng)目上使用KBTM。
4.5通用數(shù)據(jù)的采用
4.5.1通用數(shù)據(jù)的定義
鼓勵(lì)采用合適的通用數(shù)據(jù)供用戶參考,以便簡(jiǎn)化鑒定過(guò)程。為慎重起見(jiàn),應(yīng)采用如附錄A與表3中示
例表格,清楚地說(shuō)明每個(gè)集成電路參數(shù)與其制造過(guò)程的工藝要求。如果發(fā)現(xiàn)通用數(shù)據(jù)中包含任何失效,
則該數(shù)據(jù)就不能作為通用數(shù)據(jù),除非供應(yīng)商已經(jīng)證明和針對(duì)用戶可接受的失效條件進(jìn)行了糾正措施。
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附錄A定義了相似性的系列產(chǎn)品的鑒定要求。表3描述了技術(shù)狀態(tài)變更時(shí)的重新鑒定要求,其中的矩
陣圖描述了與技術(shù)變更相關(guān)的新工藝制造過(guò)程及其對(duì)應(yīng)的重新鑒定要求和鑒定項(xiàng)目,若裁剪需說(shuō)明理
由。
4.5.2通用數(shù)據(jù)的有效期
通用數(shù)據(jù)的可接受性不存在時(shí)間上的限制。下圖給出了可使用的可靠性數(shù)據(jù)的合適來(lái)源。此數(shù)據(jù)必
須取自按照附錄A定義的特殊器件或同系列鑒定的器件。潛在數(shù)據(jù)來(lái)源還可以包括任何用戶特殊數(shù)據(jù)(注
明用戶名稱(chēng))、工藝更改時(shí)鑒定或周期可靠性監(jiān)控?cái)?shù)據(jù)。
注:一些工藝變更(如制程縮減)將會(huì)影響通用數(shù)據(jù)的使用,以至于這些改變之前得到的數(shù)據(jù)就不能作為通用數(shù)據(jù)接
受使用。
圖1通用數(shù)據(jù)來(lái)源的歷程
4.6被測(cè)樣品
4.6.1批次要求
被測(cè)樣品應(yīng)該由同系列中有代表性的器件構(gòu)成,若缺少通用數(shù)據(jù)則需要選擇多批次器件進(jìn)行鑒定,
表2中列出的被測(cè)樣品必須是由非連續(xù)晶圓批次中近似均等的數(shù)量組成,并在非連續(xù)的裝配批次中封裝。
即樣品必須是均勻隨機(jī)抽取的,或者裝配加工線至少有一個(gè)非鑒定批次。若不能滿足以上技術(shù)要求需說(shuō)
明。
4.6.2生產(chǎn)要求
所有器件都應(yīng)在制造廠量產(chǎn)生產(chǎn)線上加工生產(chǎn),電測(cè)試可以在具備能力的其他場(chǎng)所進(jìn)行。
4.6.3被測(cè)樣品的再利用
非破壞性試驗(yàn)后的樣品可以用于其他試驗(yàn),破壞性試驗(yàn)后的樣品則僅可用于工程分析。
4.6.4樣品數(shù)量要求
用于鑒定的樣品數(shù)量與(或)提交的通用數(shù)據(jù)必須與表2中指定的最小樣品數(shù)量和接受數(shù)的要求一
致。如果供應(yīng)商選擇提供通用數(shù)據(jù)來(lái)進(jìn)行試驗(yàn),除了應(yīng)滿足以上要求外,其他指定試驗(yàn)條件和試驗(yàn)結(jié)果
必須記錄并提供給用戶(記錄格式可見(jiàn)附錄D)。如果通用數(shù)據(jù)不能滿足以上要求,則應(yīng)進(jìn)行指定試驗(yàn)。
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4.6.5試驗(yàn)后測(cè)試要求
按表2中規(guī)定進(jìn)行試驗(yàn)前后終點(diǎn)室溫測(cè)試、高溫和低溫測(cè)試。
4.7應(yīng)力試驗(yàn)后的失效定義
測(cè)試結(jié)果不符合技術(shù)規(guī)范或供應(yīng)商的數(shù)據(jù)手冊(cè)的,判為失效,其嚴(yán)重程度按4.3中順序判定。由于
環(huán)境試驗(yàn)導(dǎo)致的任何外部物理?yè)p壞也要被判定為失效。如果失效原因被確認(rèn)是由于環(huán)境試驗(yàn)、電氣過(guò)應(yīng)
力試驗(yàn)或靜電放電敏感度測(cè)試的操作錯(cuò)誤所導(dǎo)致的,或由于一些其它與集成電路可靠性無(wú)關(guān)的原因?qū)е?/p>
的,則不判定為失效,但必須將該測(cè)試數(shù)據(jù)和試驗(yàn)情況一并上報(bào)。必要時(shí),對(duì)失效器件進(jìn)行失效分析。
5鑒定和重新鑒定
5.1新產(chǎn)品的鑒定
新產(chǎn)品的鑒定流程如圖2所示,表2中給出了相關(guān)的應(yīng)力試驗(yàn)條件。對(duì)于每個(gè)新產(chǎn)品的鑒定,供應(yīng)商
須提供包括鑒定產(chǎn)品的應(yīng)力試驗(yàn)結(jié)果或可接受的足夠通用數(shù)據(jù)。鑒定資格復(fù)審時(shí)則應(yīng)由同系列的集成電
路構(gòu)成,以確保該系列中沒(méi)有存在共性的失效機(jī)理。只有在通過(guò)了供應(yīng)商論證和用戶同意的情況下,才
能采用通用數(shù)據(jù)替代鑒定。
對(duì)于每個(gè)新產(chǎn)品的鑒定,供應(yīng)商必須提供附錄B及以下資料:
?產(chǎn)品相關(guān)信息(見(jiàn)附錄B);
?應(yīng)力試驗(yàn)數(shù)據(jù)(見(jiàn)表2和附錄D);
?如用戶要求,能提供用于鑒定的測(cè)試軟件覆蓋率水平評(píng)測(cè)數(shù)據(jù)。
5.2產(chǎn)品更改后的重新鑒定
當(dāng)供應(yīng)商對(duì)器件或(和)工藝進(jìn)行更改,以致影響(或潛在影響)器件的外形、安裝、功能、質(zhì)量
和(或)可靠性時(shí),該器件需要重新鑒定。
5.2.1工藝更改通知
供應(yīng)商對(duì)產(chǎn)品工藝進(jìn)行更改時(shí),應(yīng)滿足用戶關(guān)于產(chǎn)品/工藝變更的要求。
5.2.2需要重新鑒定的變更
產(chǎn)品上任何變更,都需要根據(jù)附錄A、表2和表3來(lái)確定是否需要重新鑒定,以及重新鑒定的試驗(yàn)項(xiàng)
目和計(jì)劃。表3給出了重新鑒定時(shí)的試驗(yàn)項(xiàng)目選擇指南或是否可采用通用數(shù)據(jù)來(lái)替代。
5.3通過(guò)鑒定和重新鑒定的要求
重新鑒定出現(xiàn)不合格時(shí),應(yīng)分析其根本原因,只有當(dāng)糾正和預(yù)防措施驗(yàn)證后,被證明對(duì)特定失效是
有效的,并且完成8D解決法,產(chǎn)品通才能重新鑒定。供應(yīng)商負(fù)責(zé)證明8D的有效性。
5.4無(wú)鉛工藝產(chǎn)品的鑒定
當(dāng)無(wú)鉛工藝的使用會(huì)導(dǎo)致特殊的質(zhì)量和可靠性問(wèn)題時(shí),需要按照無(wú)鉛要求增加相應(yīng)的鑒定試驗(yàn)。無(wú)
鉛工藝使用的材料包括電鍍層和電路板焊劑。為了達(dá)到可接受的焊接點(diǎn)質(zhì)量和可靠性,這些新材料往往
要求更高的電路板焊接溫度,這將可能對(duì)塑封集成電路由于水汽產(chǎn)生的不利影響。因此,可能需要使用
新的或具有更高強(qiáng)度的的集成電路封裝材料。如果為了滿足無(wú)鉛工藝的強(qiáng)化要求,需要更改集成電路的
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封裝材料時(shí),供應(yīng)商需要參考本文件有關(guān)工藝變更的鑒定要求進(jìn)行考核。在進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)之前,應(yīng)參考
GB/T4937.20中規(guī)定預(yù)先進(jìn)行無(wú)鉛回流溫度分類(lèi)。
5.5對(duì)器件使用銅線互聯(lián)的鑒定
器件使用銅線互聯(lián),參照附錄P要求進(jìn)行鑒定,并提供相應(yīng)數(shù)據(jù)做支撐。
6鑒定試驗(yàn)
6.1通用試驗(yàn)
通用的鑒定試驗(yàn)流程如圖2所示,鑒定試驗(yàn)項(xiàng)目及方法如表2和附錄D所示。表2的備注欄中規(guī)定了鑒
定適用的特殊集成電路類(lèi)型,如陶瓷封裝集成電路、非易失性存儲(chǔ)器等。6.4部分給出了試驗(yàn)項(xiàng)目的重
點(diǎn)要求。
任何用戶要求的而未列入本文件的特別測(cè)試和試驗(yàn)項(xiàng)目及條件,由供應(yīng)商與用戶協(xié)商。
6.2器件的特定試驗(yàn)
特定試驗(yàn)是對(duì)所有塑料封裝和密封器件都必須進(jìn)行的試驗(yàn)。通用的鑒定試驗(yàn)數(shù)據(jù)對(duì)于這些特定試驗(yàn)
不適用。器件若已開(kāi)展了特定試驗(yàn)的數(shù)據(jù)可以采用。
a)靜電放電敏感度的分級(jí),適用所有集成電路;
b)閂鎖試驗(yàn),適用所有集成電路;
c)電氣分布,適用所有集成電路;由供應(yīng)商提供報(bào)告以證明在工作溫度等級(jí)、電壓和頻率范圍內(nèi),
電參數(shù)能夠滿足其規(guī)格說(shuō)明的參數(shù)范圍。測(cè)試數(shù)據(jù)必須來(lái)自至少三個(gè)生產(chǎn)批次,或矩陣式(或斜式)生
產(chǎn)批次,且必須保證有足夠的樣品進(jìn)行有效的統(tǒng)計(jì)。
6.3損耗可靠性試驗(yàn)
一般來(lái)說(shuō),一個(gè)產(chǎn)品按照本文件考核不足以說(shuō)明一個(gè)使用新技術(shù)的汽車(chē)電子產(chǎn)品生產(chǎn)可以被發(fā)布。
強(qiáng)烈推薦使用基于知識(shí)的考核方法作為產(chǎn)品考核的先決條件。
在損耗失效機(jī)理相關(guān)的新技術(shù)和新材料進(jìn)行鑒定時(shí),必須進(jìn)行下列的失效機(jī)理相關(guān)試驗(yàn)。如用戶要
求,應(yīng)能提供每種新器件的鑒定試驗(yàn)數(shù)據(jù)、試驗(yàn)方法、計(jì)算方法和內(nèi)控標(biāo)準(zhǔn):
a)電遷移;
b)柵介質(zhì)層經(jīng)時(shí)擊穿,針對(duì)所有金屬氧化物半導(dǎo)體技術(shù);
c)熱載流子注入效應(yīng),針對(duì)1微米以下所有MOS技術(shù);
d)偏壓溫度不穩(wěn)定性,對(duì)于所有CMOS低于1微米以下產(chǎn)品,NBTI和PBTI如適用;
e)應(yīng)力遷移。
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圖2鑒定試驗(yàn)流程
表2鑒定試驗(yàn)
A組—加速環(huán)境應(yīng)力試驗(yàn)
單批抽樣數(shù)
項(xiàng)目名稱(chēng)簡(jiǎn)寫(xiě)分組批數(shù)備注
(允許失效數(shù))
預(yù)處理PCA1組別A2、A3、A4和A5樣品P,B,S,G,C,F(xiàn)
THB或
穩(wěn)態(tài)溫濕度偏置壽命或強(qiáng)加速穩(wěn)態(tài)濕熱試驗(yàn)A277(0)3P,B,D,G,C,F(xiàn)
HAST
AC或
加速耐濕-無(wú)偏置高壓蒸煮或加速耐濕-無(wú)偏
UHSTA377(0)3P,B,D,G,F(xiàn)
置強(qiáng)加速應(yīng)力試驗(yàn)或溫度和濕度貯存試驗(yàn)
或TH
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H,P,B,D,G,C,
溫度循環(huán)TCA477(0)3
F
H,P,B,D,G,C,
功率溫度循環(huán)PTCA545(0)1
F
H,P,B,D,G,K,
高溫貯存壽命HTSLA645(0)1
C,F(xiàn)
B組—加速壽命模擬試驗(yàn)
單批抽樣數(shù)
項(xiàng)目名稱(chēng)簡(jiǎn)寫(xiě)分組批數(shù)備注
(允許失效數(shù))
H,P,B,D,G,K,
高溫工作壽命HTOLB177(0)3
F
早期壽命失效率ELFRB2800(0)3H,P,B,N,G,F(xiàn)
非易失性存儲(chǔ)器耐久性、數(shù)據(jù)保持和工作壽H,P,B,D,G,K,
EDRB3參見(jiàn)附錄H
命F
C組—封裝完整性試驗(yàn)
單批抽樣數(shù)
項(xiàng)目名稱(chēng)簡(jiǎn)寫(xiě)分組批數(shù)備注
(允許失效數(shù))
內(nèi)引線鍵合剪切WBSC1H,P,B,D,G,C
最少5個(gè)器件的30個(gè)鍵合絲
內(nèi)引線鍵合拉力WBPC2H,P,B,D,G,C
可焊性SDC315(0)1H,P,B,D,G,F(xiàn)
物理尺寸PDC410(0)3H,P,B,G,F(xiàn)
10(0)個(gè)器件,每個(gè)器
焊球剪切SBSC53B,D,G,F(xiàn)
件至少5個(gè)焊球
5(0)個(gè)器件,每個(gè)器
引線完整性LIC61H,P,D,G
件至少2個(gè)個(gè)引腳
至少5個(gè)器件的20個(gè)凸
凸點(diǎn)剪切BSC75D,F(xiàn)
點(diǎn)/銅柱
D組—晶圓可靠性試驗(yàn)
單批抽樣數(shù)
項(xiàng)目名稱(chēng)簡(jiǎn)寫(xiě)分組批數(shù)備注
(允許失效數(shù))
電遷移EMD1———
絕緣層經(jīng)時(shí)擊穿TDDBD2———
熱載流子注入效應(yīng)HCID3———
偏壓溫度不穩(wěn)定性NBTID4———
應(yīng)力遷移SMD5———
E組—電氣特性試驗(yàn)
單批抽樣數(shù)
項(xiàng)目名稱(chēng)簡(jiǎn)寫(xiě)分組批數(shù)備注
(允許失效數(shù))
參數(shù)/功能測(cè)試TESTE1全部(0)全部H,P,B,N,G,F(xiàn)
靜電放電-人體模型HBME2按產(chǎn)品要求(0)1H,P,B,D,F(xiàn)
靜電放電-帶電器件模型CDME3按產(chǎn)品要求(0)1H,P,B,D,F(xiàn)
閂鎖試驗(yàn)LUE46(0)1H,P,B,D,F(xiàn)
電氣分布EDE530(0)3H,P,B,F(xiàn)
故障等級(jí)FGE6———
特性描述CHARE7———
電磁兼容EMCE91(0)1—
短路特性SERE1010(0)3D,G
軟錯(cuò)誤率LFE113(0)1H,P,D,G
無(wú)鉛FGE12參見(jiàn)附錄LL
F組—缺陷篩選監(jiān)測(cè)
單批抽樣數(shù)
項(xiàng)目名稱(chēng)簡(jiǎn)寫(xiě)分組批數(shù)備注
(允許失效數(shù))
參數(shù)分布測(cè)試PATF1———
良率統(tǒng)計(jì)分析SBAF2———
8
T/CESAXXXX—202X
G組—?dú)饷苄苑庋b完整性試驗(yàn)
單批抽樣數(shù)
項(xiàng)目名稱(chēng)簡(jiǎn)寫(xiě)分組批數(shù)備注
(允許失效數(shù))
機(jī)械沖擊MSG115(0)1H,D,G,W
掃頻振動(dòng)VFVG215(0)1H,D,G,W
恒定加速度CAG315(0)1H,D,G,W
粗/細(xì)檢漏GFLG415(0)1H,D,G
跌落DROPG55(0)1H,D,G,W
蓋板扭矩LTG65(0)1H,D,G
芯片剪切DSG75(0)1H,D,G,W
內(nèi)部水汽含量IWVG85(0)1H,D,G
注:B-針對(duì)焊球表面貼裝集成電路,C-對(duì)于使用銅線互聯(lián)的器件測(cè)試條件和樣品數(shù)量應(yīng)按照銅線互聯(lián)鑒定要求,D-
破壞性試驗(yàn),試驗(yàn)后集成電路不能重新用于鑒定和生產(chǎn),F(xiàn)-對(duì)于球柵陣列倒裝焊(基于基板的)封裝器件有要求,
G-認(rèn)可的通用數(shù)據(jù),H-針對(duì)密封集成電路,K-使用附錄方法來(lái)對(duì)獨(dú)立非易失性存儲(chǔ)器集成電路或帶有非易失性存儲(chǔ)
器單元的集成電路進(jìn)行預(yù)處理,L-針對(duì)無(wú)鉛器件,N-非破壞性試驗(yàn),試驗(yàn)后集成電路可以用于其它鑒定試驗(yàn)或者生
產(chǎn)中,P-針對(duì)塑封集成電路,S-針對(duì)表面貼裝塑封集成電路,W-對(duì)于使用鍵合工藝,且沒(méi)有對(duì)鍵合線有注塑覆蓋的
封裝。。
#特殊試驗(yàn)的參考數(shù)據(jù)。鑒定試驗(yàn)前后的所有電測(cè)試應(yīng)在溫度等級(jí)限定范圍內(nèi)進(jìn)行。
9
T/CESAXXXX—202X
表3工藝變更鑒定的試驗(yàn)項(xiàng)目選擇要求
鑒定項(xiàng)目A2A3A4A5A6B1B2B3C1C2C3C4C5C6C7D1D2
設(shè)計(jì)
有源元件設(shè)計(jì)●M●●DJDD
電路設(shè)計(jì)變更AM
晶圓尺寸/厚度EM●●EE
晶圓制造
光刻●●M●G●●
芯片縮小化●●M●●DJ●●
離子注入/摻雜M●G
多晶硅●M●DJ
金屬化/通孔/接觸●●●M●●●●
鈍化/氧化物/夾層電介質(zhì)KK●M●GNDJK●●
背面工藝●M●
制造場(chǎng)所轉(zhuǎn)移●●●M●●J●●●●
晶圓凸點(diǎn)
再分布層●●●M●●
凸點(diǎn)下金屬●●●M●●
凸點(diǎn)材料●●●M●●
凸點(diǎn)地點(diǎn)轉(zhuǎn)移●●●M●●
封裝
芯片模套/底部填充膠●●●M●●
引線框電鍍●●●M●C●●
凹凸材質(zhì)/金屬化系統(tǒng)●●●M●●●●
引線框材料●●M●●●●●
引線框尺寸●●M●●●
鍵合絲●●Q●●●
芯片劃片/分離●●●M
芯片清潔準(zhǔn)備●●M●●●
封裝打碼●B
固晶●●●M●
塑封料●●●M●●●●●●
塑封工藝●●●M●●●●●
氣密封裝HHHHH
新式封裝●●●M●●●●●●●T●
基板/中介層●●●M●●●●T
封裝場(chǎng)所轉(zhuǎn)移●●●M●●●●●●T●
10
T/CESAXXXX—202X
表3(續(xù))
鑒定項(xiàng)目D3D4D5E2E3E4E5E7E9E10E11E12G1-4G5G6G7G8
設(shè)計(jì)
有源元件設(shè)計(jì)DDD●●●●●●●●F
電路設(shè)計(jì)變更●●●●●●●
晶圓尺寸/厚度●EEE●
晶圓制造
光刻●
芯片縮小化●●●●●●●●●●●
離子注入/摻雜●●●●●●
多晶硅●●●●●●
金屬化/通孔/接觸●●●●
鈍化/氧化物/夾層電介
●●●●●●●●
質(zhì)
背面工藝●●HH
制造場(chǎng)所轉(zhuǎn)移●●●●●●●HH
晶圓凸點(diǎn)
再分布層
凸點(diǎn)下金屬
凸點(diǎn)材料
凸點(diǎn)地點(diǎn)轉(zhuǎn)移
封裝
芯片模套/底部填充膠●H
引線框電鍍LH
凹凸材質(zhì)/金屬化系統(tǒng)●L
引線框材料●LHH
引線框尺寸●LH
鍵合絲M●H
芯片劃片/分離
芯片清潔準(zhǔn)備H
封裝打碼
固晶●LHHH
塑封料●L
塑封工藝L
氣密封裝HHH
新式封裝●●●●LHHH
基板/中介層LHHH
封裝場(chǎng)所轉(zhuǎn)移●LHHH
注:一個(gè)字母或“●”表明對(duì)于適當(dāng)?shù)墓に囎兏?,其測(cè)試試驗(yàn)方面的性能應(yīng)受到考慮。A:僅適用于外圍布線更改;
B:打標(biāo)返工、新的處理時(shí)間或溫度;C:如果引線鍵合到引腿;D:設(shè)計(jì)規(guī)則改變;E:僅適用于厚度改變;F:僅
適用于MEMS的單元改變;G:僅適用于來(lái)自非100%老化的器件;H:僅適用于陶瓷材料;J:EPROM或E2PROM;K:僅
適用于鈍化;L:僅適用于無(wú)鉛器件;M:需要進(jìn)行功率溫度循環(huán)的器件;N:鈍化或柵氧;Q:引線直徑變??;T:
僅適用于表面貼裝焊球。
11
T/CESAXXXX—202X
6.4試驗(yàn)方法
6.4.1預(yù)處理
試驗(yàn)方法采用GB/T4937.20和GB/T4937.30。
預(yù)處理僅適用于表面貼裝器件。預(yù)處理在A2、A3、A4和A5項(xiàng)之前進(jìn)行,最低可接受的潮濕敏感度等
級(jí)為MSL3。對(duì)于部分使用先進(jìn)封裝,潮濕敏感度無(wú)法達(dá)到MSL3的汽車(chē)用集成電路產(chǎn)品,應(yīng)在產(chǎn)品數(shù)據(jù)手
冊(cè)中予以說(shuō)明,提前征得用戶同意。當(dāng)實(shí)施預(yù)處理和(或)潮濕敏感度等級(jí)時(shí),潮濕敏感度等級(jí)和回流
焊峰值溫度必須提供報(bào)告。預(yù)處理試驗(yàn)后,3個(gè)批次,每個(gè)批次取3只,通過(guò)超聲掃描檢查是否有分層,
芯片結(jié)合面積有超過(guò)50%分層或鍵合線表面的分層必須在報(bào)告中體現(xiàn)。如果預(yù)處理后的樣品均能通過(guò)后
續(xù)的應(yīng)力試驗(yàn),芯片表面的分層是允許的。任何樣品的替換應(yīng)在報(bào)告中體現(xiàn)。試驗(yàn)前后的電測(cè)試在室溫
下進(jìn)行。
6.4.2穩(wěn)態(tài)溫濕度偏置壽命試驗(yàn)或強(qiáng)加速穩(wěn)態(tài)濕熱試驗(yàn)
試驗(yàn)方法采用GB/T4937.4或GB/T4937.5。
對(duì)于表面貼裝器件,應(yīng)在本試驗(yàn)前進(jìn)行A1項(xiàng)預(yù)處理。穩(wěn)態(tài)溫濕度偏置壽命試驗(yàn)條件為85℃/85%RH,
試驗(yàn)時(shí)間1000小時(shí)。強(qiáng)加速穩(wěn)態(tài)濕熱試驗(yàn)試驗(yàn)條件為130℃/85%RH,試驗(yàn)時(shí)間96小時(shí);或110℃/85%RH,
試驗(yàn)時(shí)間264小時(shí)。THB和HAST,
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