太陽能電池氧化層去除工藝考核試卷一、單項選擇題（每題1分，共30題）1.太陽能電池氧化層去除工藝中，常用的化學(xué)方法是？A.熱氧化B.濕法刻蝕C.干法刻蝕D.離子注入2.在太陽能電池氧化層去除工藝中，硫酸通常與哪種物質(zhì)混合使用？A.氫氟酸B.鹽酸C.硝酸D.氫氧化鈉3.濕法刻蝕中，常用的刻蝕液成分不包括？A.硫酸B.過氧化氫C.氫氟酸D.氨水4.太陽能電池氧化層去除后，表面處理通常采用？A.離子清洗B.超聲波清洗C.熱氧化D.氣相沉積5.氧化層去除工藝中，溫度控制的主要目的是？A.提高刻蝕速率B.避免過度刻蝕C.增強電池性能D.減少缺陷產(chǎn)生6.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的主要影響因素是？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是7.太陽能電池氧化層去除后，表面粗糙度的主要控制因素是？A.刻蝕液成分B.刻蝕時間C.溫度D.以上都是8.氧化層去除工藝中，常用的刻蝕設(shè)備是？A.光刻機B.腐蝕槽C.離子注入機D.PVD設(shè)備9.氧化層去除工藝中，刻蝕液pH值的主要控制因素是？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是10.太陽能電池氧化層去除后，表面處理的主要目的是？A.提高電池效率B.減少缺陷產(chǎn)生C.增強電池穩(wěn)定性D.以上都是11.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的控制主要依賴于？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是12.氧化層去除工藝中，常用的刻蝕液成分不包括？A.硫酸B.過氧化氫C.氫氟酸D.氨水13.太陽能電池氧化層去除后，表面處理通常采用？A.離子清洗B.超聲波清洗C.熱氧化D.氣相沉積14.氧化層去除工藝中，溫度控制的主要目的是？A.提高刻蝕速率B.避免過度刻蝕C.增強電池性能D.減少缺陷產(chǎn)生15.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的主要影響因素是？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是16.太陽能電池氧化層去除后，表面粗糙度的主要控制因素是？A.刻蝕液成分B.刻蝕時間C.溫度D.以上都是17.氧化層去除工藝中，常用的刻蝕設(shè)備是？A.光刻機B.腐蝕槽C.離子注入機D.PVD設(shè)備18.氧化層去除工藝中，刻蝕液pH值的主要控制因素是？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是19.太陽能電池氧化層去除后，表面處理的主要目的是？A.提高電池效率B.減少缺陷產(chǎn)生C.增強電池穩(wěn)定性D.以上都是20.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的控制主要依賴于？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是21.氧化層去除工藝中，常用的刻蝕液成分不包括？A.硫酸B.過氧化氫C.氫氟酸D.氨水22.太陽能電池氧化層去除后，表面處理通常采用？A.離子清洗B.超聲波清洗C.熱氧化D.氣相沉積23.氧化層去除工藝中，溫度控制的主要目的是？A.提高刻蝕速率B.避免過度刻蝕C.增強電池性能D.減少缺陷產(chǎn)生24.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的主要影響因素是？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是25.太陽能電池氧化層去除后，表面粗糙度的主要控制因素是？A.刻蝕液成分B.刻蝕時間C.溫度D.以上都是26.氧化層去除工藝中，常用的刻蝕設(shè)備是？A.光刻機B.腐蝕槽C.離子注入機D.PVD設(shè)備27.氧化層去除工藝中，刻蝕液pH值的主要控制因素是？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是28.太陽能電池氧化層去除后，表面處理的主要目的是？A.提高電池效率B.減少缺陷產(chǎn)生C.增強電池穩(wěn)定性D.以上都是29.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的控制主要依賴于？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是30.氧化層去除工藝中，常用的刻蝕液成分不包括？A.硫酸B.過氧化氫C.氫氟酸D.氨水二、多項選擇題（每題2分，共20題）1.太陽能電池氧化層去除工藝中，常用的化學(xué)方法包括？A.熱氧化B.濕法刻蝕C.干法刻蝕D.離子注入2.在太陽能電池氧化層去除工藝中，常用的刻蝕液成分包括？A.硫酸B.過氧化氫C.氫氟酸D.氨水3.濕法刻蝕中，常用的刻蝕液成分包括？A.硫酸B.過氧化氫C.氫氟酸D.氨水4.太陽能電池氧化層去除后，表面處理方法包括？A.離子清洗B.超聲波清洗C.熱氧化D.氣相沉積5.氧化層去除工藝中，溫度控制的主要目的是？A.提高刻蝕速率B.避免過度刻蝕C.增強電池性能D.減少缺陷產(chǎn)生6.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的主要影響因素包括？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是7.太陽能電池氧化層去除后，表面粗糙度的主要控制因素包括？A.刻蝕液成分B.刻蝕時間C.溫度D.以上都是8.氧化層去除工藝中，常用的刻蝕設(shè)備包括？A.光刻機B.腐蝕槽C.離子注入機D.PVD設(shè)備9.氧化層去除工藝中，刻蝕液pH值的主要控制因素包括？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是10.太陽能電池氧化層去除后，表面處理的主要目的是？A.提高電池效率B.減少缺陷產(chǎn)生C.增強電池穩(wěn)定性D.以上都是11.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的控制主要依賴于？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是12.氧化層去除工藝中，常用的刻蝕液成分不包括？A.硫酸B.過氧化氫C.氫氟酸D.氨水13.太陽能電池氧化層去除后，表面處理通常采用？A.離子清洗B.超聲波清洗C.熱氧化D.氣相沉積14.氧化層去除工藝中，溫度控制的主要目的是？A.提高刻蝕速率B.避免過度刻蝕C.增強電池性能D.減少缺陷產(chǎn)生15.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的主要影響因素是？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是16.太陽能電池氧化層去除后，表面粗糙度的主要控制因素是？A.刻蝕液成分B.刻蝕時間C.溫度D.以上都是17.氧化層去除工藝中，常用的刻蝕設(shè)備是？A.光刻機B.腐蝕槽C.離子注入機D.PVD設(shè)備18.氧化層去除工藝中，刻蝕液pH值的主要控制因素是？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是19.太陽能電池氧化層去除后，表面處理的主要目的是？A.提高電池效率B.減少缺陷產(chǎn)生C.增強電池穩(wěn)定性D.以上都是20.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的控制主要依賴于？A.刻蝕液濃度B.溫度C.時間D.以上都是三、判斷題（每題1分，共20題）1.太陽能電池氧化層去除工藝中，常用的化學(xué)方法是熱氧化。2.在太陽能電池氧化層去除工藝中，硫酸通常與過氧化氫混合使用。3.濕法刻蝕中，常用的刻蝕液成分不包括氫氟酸。4.太陽能電池氧化層去除后，表面處理通常采用超聲波清洗。5.氧化層去除工藝中，溫度控制的主要目的是提高刻蝕速率。6.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的主要影響因素是刻蝕液濃度。7.太陽能電池氧化層去除后，表面粗糙度的主要控制因素是刻蝕時間。8.氧化層去除工藝中，常用的刻蝕設(shè)備是腐蝕槽。9.氧化層去除工藝中，刻蝕液pH值的主要控制因素是溫度。10.太陽能電池氧化層去除后，表面處理的主要目的是提高電池效率。11.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的控制主要依賴于刻蝕液濃度。12.氧化層去除工藝中，常用的刻蝕液成分不包括氨水。13.太陽能電池氧化層去除后，表面處理通常采用熱氧化。14.氧化層去除工藝中，溫度控制的主要目的是避免過度刻蝕。15.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的主要影響因素是時間。16.太陽能電池氧化層去除后，表面粗糙度的主要控制因素是溫度。17.氧化層去除工藝中，常用的刻蝕設(shè)備是離子注入機。18.氧化層去除工藝中，刻蝕液pH值的主要控制因素是時間。19.太陽能電池氧化層去除后，表面處理的主要目的是減少缺陷產(chǎn)生。20.氧化層去除工藝中，刻蝕速率的控制主要依賴于溫度。四、簡答題（每題5分，共2題）1.簡述太陽能電池氧化層去除工藝的主要步驟和注意事項。2.分析氧化層去除工藝對太陽能電池性能的影響及其控制方法。附標(biāo)準(zhǔn)答案：一、單項選擇題1.B2.A3.D4.B5.B6.D7.D8.B9.D10.D11.D12.D13.B14.B15.D16.D17.B18.D19.D20.D21.D22.B23.B24.D25.D26.B27.D28.D29.D30.D二、多項選擇題1.A,B,C,D2.A,B,C,D3.A,B,C,D4.A,B,C,D5.A,B,C,D6.A,B,C,D7.A,B,C,D8.A,B,C,D9.A,B,C,D10.A,B,C,D11.A,B,C,D12.A,B,C,D13.A,B,C,D14.A,B,C,D15.A,B,C,D16.A,B,C,D17.A,B,C,D18.A,B,C,D19.A,B,C,D20.A,B,C,D三、判斷題1.×2.×3.×4.×5.×6.×7.×8.×9.×10.×11.×12.×13.×14.×