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真空罐膜技新塑膠外觀金屬仁制程簡介蒸鍍(Evaporation)8濺鍍(Sputter)FilmDepositionnnnnMaterial4Sputteringσ]Substrate薄膜沈積〔ThinFilmDeposition)在機械工業(yè)丶電子工業(yè)或半導(dǎo)體工業(yè)領(lǐng)域為了對所使用的材料賦與某種特性在材料表面上以各種方法形成被膜(一層薄膜)而加以使用,假如此被膜經(jīng)由原子層的過程所形成時’一般將此等薄膜沈積稱為蒸鍍(蒸著)處理。采用蒸鍍處理時,以原子或分子的層次挫制蒸鍍粒子使其形成被膜,因此可以得到以熱平衡狀態(tài)無法得到的具有特殊構(gòu)造及功能的被膜。薄膜沈積的兩種常見的制程物理氣相沈積-PVDPhysicalVaporDeposition仁學(xué)氣相沈積CVDChemicalVaporDeposition薄膜沈積機制的說明圖化學(xué)吸解反移成核aon基板
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