2025年光氣及光氣工藝資格考試模擬試題帶答案一、單項(xiàng)選擇題（每題1分，共30分。每題只有一個(gè)正確答案，請(qǐng)將正確選項(xiàng)的字母填入括號(hào)內(nèi)）1.光氣（COCl?）在常溫常壓下的物理狀態(tài)是（）。A.無色無味氣體B.無色有刺激性氣味氣體C.淡黃色液體D.白色固體【答案】B2.光氣合成反應(yīng)中，活性炭的主要作用是（）。A.吸附雜質(zhì)B.提高反應(yīng)溫度C.作為催化劑D.作為反應(yīng)物【答案】C3.光氣工藝中，最常用的原料氣配比為（）。A.CO:Cl?=1:1（摩爾比）B.CO:Cl?=1:1.1（摩爾比）C.CO:Cl?=1:0.9（摩爾比）D.CO:Cl?=2:1（摩爾比）【答案】B4.光氣在空氣中的嗅閾濃度約為（）。A.0.01ppmB.0.5ppmC.5ppmD.50ppm【答案】B5.光氣水解生成的主要產(chǎn)物是（）。A.CO?+HClB.CO+HClC.CO?+Cl?D.CO+Cl?【答案】A6.光氣工藝中，反應(yīng)器材質(zhì)通常選用（）。A.碳鋼B.不銹鋼316LC.鈦合金D.鎳基合金【答案】D7.光氣裝置緊急停車后，系統(tǒng)內(nèi)殘留光氣的首選處理方式是（）。A.直接排放至大氣B.通入堿液吸收塔C.冷凝回收D.燃燒分解【答案】B8.光氣工藝中，最常用的在線監(jiān)測(cè)手段是（）。A.紅外光譜法B.電化學(xué)傳感器C.質(zhì)譜法D.紫外吸收法【答案】A9.光氣與苯胺反應(yīng)生成的產(chǎn)物是（）。A.苯基異氰酸酯B.二苯基脲C.苯甲酰氯D.苯胺鹽酸鹽【答案】B10.光氣工藝中，氯氣含水量要求一般低于（）。A.10ppmB.50ppmC.100ppmD.500ppm【答案】B11.光氣在25℃、1atm下的密度約為（）。A.1.2kg·m?3B.2.5kg·m?3C.4.0kg·m?3D.6.3kg·m?3【答案】C12.光氣工藝中，CO原料氣中氧含量需控制在（）以下。A.0.1%（體積分?jǐn)?shù)）B.0.5%C.1.0%D.2.0%【答案】A13.光氣裝置中，最常用的個(gè)人防護(hù)裝備是（）。A.防塵口罩B.半面罩防毒面具C.正壓式空氣呼吸器D.普通眼鏡【答案】C14.光氣工藝中，反應(yīng)熱主要通過（）移出。A.反應(yīng)器夾套冷卻B.外循環(huán)冷卻器C.冷激式急冷塔D.自然散熱【答案】B15.光氣在管道中的最大安全流速一般限制在（）以內(nèi)。A.5m·s?1B.10m·s?1C.15m·s?1D.20m·s?1【答案】A16.光氣工藝中，最常用的尾氣處理吸收液是（）。A.5%NaOHB.10%Na?CO?C.15%Na?S?O?D.20%NH?OH【答案】A17.光氣與醇類反應(yīng)生成的主要產(chǎn)物是（）。A.氯甲酸酯B.碳酸酯C.酰氯D.醚【答案】A18.光氣工藝中，反應(yīng)器出口氣體中光氣含量一般控制在（）以上。A.5%（體積分?jǐn)?shù)）B.10%C.15%D.20%【答案】B19.光氣裝置中，最常用的泄漏檢測(cè)試劑是（）。A.碘化鉀淀粉試紙B.酚酞試紙C.石蕊試紙D.硝酸銀試紙【答案】A20.光氣工藝中，活性炭催化劑失活的主要原因是（）。A.積碳覆蓋B.氯氣中毒C.金屬離子污染D.水蒸氣鈍化【答案】A21.光氣與二甲胺反應(yīng)生成的產(chǎn)物是（）。A.二甲基甲酰胺B.二甲基碳酰氯C.二甲基脲D.二甲胺鹽酸鹽【答案】C22.光氣工藝中，最常用的反應(yīng)溫度范圍為（）。A.30～50℃B.50～80℃C.80～120℃D.120～150℃【答案】B23.光氣裝置中，安全閥整定壓力一般為設(shè)計(jì)壓力的（）。A.1.05倍B.1.10倍C.1.20倍D.1.50倍【答案】B24.光氣工藝中，CO原料氣中硫含量需控制在（）以下。A.0.1ppmB.1ppmC.10ppmD.50ppm【答案】B25.光氣與氨氣反應(yīng)生成的主要產(chǎn)物是（）。A.尿素B.氨基甲酰氯C.氰酸D.氯化銨【答案】A26.光氣工藝中，最常用的在線水分分析儀原理是（）。A.電容法B.電解法C.冷鏡法D.紅外法【答案】C27.光氣裝置中，設(shè)備氣密性試驗(yàn)通常采用（）。A.水壓試驗(yàn)B.氣壓試驗(yàn)C.氦質(zhì)譜檢漏D.肥皂泡法【答案】C28.光氣工藝中，反應(yīng)器壓降突然升高的可能原因是（）。A.催化劑破碎B.冷卻水溫度升高C.氯氣過量D.CO純度下降【答案】A29.光氣在紫外線照射下主要發(fā)生（）。A.聚合反應(yīng)B.水解反應(yīng)C.光解反應(yīng)D.氧化反應(yīng)【答案】C30.光氣工藝中，最常用的DCS聯(lián)鎖動(dòng)作是（）。A.關(guān)閉原料氣切斷閥B.啟動(dòng)備用泵C.打開排空閥D.降低反應(yīng)溫度【答案】A二、多項(xiàng)選擇題（每題2分，共20分。每題有兩個(gè)或兩個(gè)以上正確答案，請(qǐng)將所有正確選項(xiàng)的字母填入括號(hào)內(nèi)，漏選、錯(cuò)選均不得分）31.下列屬于光氣工藝關(guān)鍵安全控制點(diǎn)的是（）。A.反應(yīng)器溫度B.氯氣流量C.冷卻水pHD.尾氣光氣含量【答案】A、B、D32.光氣裝置常用的防腐蝕措施包括（）。A.內(nèi)襯PTFEB.采用哈氏合金C.外壁涂刷環(huán)氧漆D.陰極保護(hù)【答案】A、B、C33.光氣工藝中，可能導(dǎo)致催化劑失活的因素有（）。A.原料氣含硫B.反應(yīng)溫度波動(dòng)C.水蒸氣帶入D.高線速?zèng)_刷【答案】A、C、D34.光氣泄漏現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)急處置包括（）。A.立即啟動(dòng)噴淋系統(tǒng)B.疏散下風(fēng)向人員C.佩戴正壓呼吸器進(jìn)入查漏D.用直流水直接噴射泄漏點(diǎn)【答案】A、B、C35.光氣工藝中，需要設(shè)置在線分析儀檢測(cè)的項(xiàng)目有（）。A.CO純度B.氯氣含水量C.反應(yīng)器出口光氣濃度D.冷卻水電導(dǎo)率【答案】A、B、C36.光氣裝置常用的個(gè)體防護(hù)裝備有（）。A.防化服B.防酸手套C.正壓式空氣呼吸器D.防靜電鞋【答案】A、B、C、D37.光氣工藝中，屬于高毒物質(zhì)的有（）。A.光氣B.氯氣C.一氧化碳D.氯甲酸甲酯【答案】A、B、D38.光氣裝置常用的安全附件包括（）。A.爆破片B.安全閥C.阻火器D.單向閥【答案】A、B、C、D39.光氣工藝中，可能引起反應(yīng)器飛溫的原因有（）。A.冷卻水中斷B.氯氣過量C.催化劑活性突增D.CO流量驟降【答案】A、B、C40.光氣裝置常用的尾氣處理工藝有（）。A.堿液吸收B.活性炭吸附C.催化水解D.熱力燃燒【答案】A、C、D三、判斷題（每題1分，共10分。請(qǐng)判斷下列說法是否正確，正確的填“√”，錯(cuò)誤的填“×”）41.光氣比空氣輕，泄漏后會(huì)向上擴(kuò)散。（）【答案】×42.光氣工藝中，氯氣含水量越高越好，可防止設(shè)備腐蝕。（）【答案】×43.光氣與醇反應(yīng)生成氯甲酸酯屬于?；磻?yīng)。（）【答案】√44.光氣裝置可以使用銅制閥門，因?yàn)殂~耐氯氣腐蝕。（）【答案】×45.光氣在干燥狀態(tài)下對(duì)碳鋼腐蝕極微。（）【答案】√46.光氣工藝中，反應(yīng)器出口氣體可直接排放至大氣。（）【答案】×47.光氣裝置必須設(shè)置雙電源供電，確保冷卻系統(tǒng)連續(xù)運(yùn)行。（）【答案】√48.光氣泄漏時(shí)，可用氨水噴灑中和，形成尿素。（）【答案】√49.光氣工藝中，活性炭催化劑可無限次再生使用。（）【答案】×50.光氣裝置的安全色標(biāo)為黃色，表示有毒氣體。（）【答案】√四、填空題（每空1分，共20分）51.光氣的化學(xué)式為________，分子量為________?！敬鸢浮緾OCl?，98.9252.光氣合成反應(yīng)方程式為CO＋Cl??COCl?，該反應(yīng)為________熱反應(yīng)，平衡常數(shù)隨溫度升高而________?！敬鸢浮糠?，減小53.光氣在空氣中的最高允許濃度（MAC）為________mg·m?3。【答案】0.554.光氣工藝中，原料CO的純度要求≥________%，O?≤________%?！敬鸢浮?8，0.155.光氣裝置常用的緊急停車信號(hào)包括________、________、________三種。【答案】反應(yīng)器超溫，冷卻水中斷，光氣泄漏報(bào)警56.光氣與氨氣反應(yīng)生成尿素，反應(yīng)方程式為________?！敬鸢浮緾OCl?＋2NH?→(NH?)?CO＋2HCl57.光氣水解反應(yīng)為________級(jí)反應(yīng)，溫度每升高10℃，速率常數(shù)約增大________倍。【答案】一，2～358.光氣裝置中，設(shè)備氣密性試驗(yàn)壓力為設(shè)計(jì)壓力的________倍，保壓時(shí)間不少于________分鐘?！敬鸢浮?.1，3059.光氣工藝中，活性炭催化劑比表面積一般為________m2·g?1，使用壽命約________月。【答案】800～1200，6～1260.光氣泄漏現(xiàn)場(chǎng)，人員應(yīng)向上風(fēng)向撤離至少________米，并立即佩戴________防護(hù)裝備?！敬鸢浮?00，正壓式空氣呼吸器五、簡(jiǎn)答題（每題5分，共30分）61.簡(jiǎn)述光氣工藝中反應(yīng)器溫度失控的主要原因及處理措施。【答案】原因：①冷卻水中斷或流量不足；②氯氣過量導(dǎo)致反應(yīng)劇烈；③催化劑活性突增；④儀表失靈誤顯示。處理：①立即啟動(dòng)緊急冷卻系統(tǒng)；②切斷氯氣進(jìn)料，保持CO吹掃；③開啟反應(yīng)器應(yīng)急放空閥，排至吸收塔；④啟動(dòng)聯(lián)鎖停車，人員撤離至安全區(qū)。62.說明光氣裝置設(shè)置雙塔串聯(lián)吸收的目的及運(yùn)行要點(diǎn)?！敬鸢浮磕康模捍_保尾氣光氣濃度<0.5ppm，滿足環(huán)保排放。要點(diǎn)：①一級(jí)塔用5%NaOH，二級(jí)塔用10%NaOH；②控制吸收液溫度<30℃，防止光氣逸出；③定期檢測(cè)吸收液pH，及時(shí)補(bǔ)堿；④設(shè)置在線光氣報(bào)警儀，超標(biāo)聯(lián)鎖停車。63.列舉光氣工藝中三種常見的在線分析儀及其測(cè)量原理。【答案】①紅外光譜法：利用光氣在4.7μm特征吸收峰，測(cè)濃度；②冷鏡式露點(diǎn)儀：降溫至鏡面結(jié)露，測(cè)水分；③電化學(xué)傳感器：Cl?在電極上還原產(chǎn)生電流，測(cè)氯氣含量。64.闡述光氣裝置檢修前隔離置換的步驟及合格標(biāo)準(zhǔn)。【答案】步驟：①關(guān)閉進(jìn)出料閥，加盲板；②通入氮?dú)庵脫Q，壓力0.2MPa，泄壓至0.02MPa，反復(fù)3次；③取樣分析，O?<0.5%，光氣<0.1ppm；④打開人孔，強(qiáng)制通風(fēng)24h，再次檢測(cè)合格；⑤辦理受限空間作業(yè)票。65.說明光氣與苯胺反應(yīng)制備二苯基脲的工藝流程及關(guān)鍵控制點(diǎn)?！敬鸢浮苛鞒蹋罕桨啡苡诩妆?，0～5℃下通入光氣，生成苯基異氰酸酯，再與過量苯胺縮合得二苯基脲。控制點(diǎn)：①溫度0～5℃，防止副反應(yīng)；②光氣微過量，摩爾比1.05:1；③終點(diǎn)pH6～7；④氮?dú)獯祾呙摮龤堄喙鈿猓虎蓦x心洗滌至無氯離子。66.分析光氣裝置冷卻水突然中斷的應(yīng)急聯(lián)鎖邏輯及動(dòng)作順序?！敬鸢浮窟壿嫞毫髁块_關(guān)信號(hào)<設(shè)定值→延時(shí)2s→觸發(fā)聯(lián)鎖。動(dòng)作：①聲光報(bào)警；②切斷氯氣調(diào)節(jié)閥，關(guān)閉CO切斷閥；③啟動(dòng)備用冷卻水泵；④開啟反應(yīng)器緊急放空閥，尾氣排至吸收塔；⑤啟動(dòng)噴淋水系統(tǒng)，降低裝置區(qū)濃度；⑥D(zhuǎn)CS記錄事件，通知調(diào)度。六、計(jì)算題（每題10分，共20分）67.某光氣裝置設(shè)計(jì)產(chǎn)能為1000kg·h?1，原料CO純度98%，氯氣純度99%，反應(yīng)選擇性99%，求理論所需原料氣體積流量（Nm3·h?1，標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)）?！敬鸢浮抗鈿饽柫髁浚?000/98.92=10.11kmol·h?1需CO：10.11/0.99=10.21kmol·h?1需Cl?：10.21kmol·h?1CO體積：10.21×22.4/0.98=233.5Nm3·h?1Cl?體積：10.21×22.4/0.99=231.0Nm3·h?1答：CO233.5Nm3·h?1，Cl?231.0Nm3·h?1。68.光氣泄漏槽罐直徑2m，長(zhǎng)度6m，內(nèi)裝液態(tài)光氣80%，溫度15℃，密度1370kg·m?3，若發(fā)生全破裂，求蒸發(fā)量及下風(fēng)向3km地面最大濃度（穩(wěn)定度D