2025年光氣化工藝考試題及答案一、單項(xiàng)選擇題（每題1分，共30分。每題只有一個(gè)正確答案，請(qǐng)將正確選項(xiàng)字母填入括號(hào)內(nèi)）1.光氣化反應(yīng)中，CO與Cl?生成光氣的最適宜溫度范圍是（）。A.200～250℃?B.300～350℃?C.400～450℃?D.500～550℃答案：B2.工業(yè)光氣合成塔最常用的材質(zhì)為（）。A.304不銹鋼?B.316L不銹鋼?C.鎳基合金C276?D.碳鋼襯玻璃答案：C3.光氣在空氣中的嗅閾濃度約為（）。A.0.1ppm?B.0.5ppm?C.1.0ppm?D.5.0ppm答案：B4.光氣水解生成鹽酸與CO?的反應(yīng)屬于（）。A.親核取代?B.自由基鏈?zhǔn)?C.親電加成?D.不可逆放熱答案：D5.光氣裝置緊急停車后，系統(tǒng)氮?dú)庵脫Q的合格指標(biāo)為（）。A.O?≤0.5%?B.O?≤1.0%?C.CO≤10ppm?D.Cl?≤5ppm答案：A6.光氣壓縮機(jī)出口設(shè)置冷卻器的主要目的是（）。A.提高光氣收率?B.防止光氣高溫分解?C.降低系統(tǒng)含水量?D.回收反應(yīng)熱答案：B7.光氣與苯胺反應(yīng)生成異氰酸酯的反應(yīng)類型為（）。A.酰氯化?B.羰基化?C.親核加成消除?D.自由基偶聯(lián)答案：C8.光氣儲(chǔ)罐氣相空間強(qiáng)制通風(fēng)的換氣次數(shù)應(yīng)不低于（）。A.3次/h?B.6次/h?C.10次/h?D.15次/h答案：C9.光氣裝置DCS系統(tǒng)冗余I/O卡件的切換時(shí)間應(yīng)小于（）。A.50ms?B.100ms?C.200ms?D.500ms答案：B10.光氣泄漏應(yīng)急處理中，噴灑霧狀NaOH溶液的濃度宜為（）。A.2%?B.5%?C.10%?D.15%答案：C11.光氣合成反應(yīng)器催化劑失活的最主要原因是（）。A.硫中毒?B.氯離子流失?C.積碳覆蓋?D.活性組分揮發(fā)答案：A12.光氣裝置安全閥整定壓力通常取設(shè)計(jì)壓力的（）。A.1.05倍?B.1.10倍?C.1.15倍?D.1.20倍答案：B13.光氣管道法蘭密封面型式優(yōu)先選用（）。A.突面RF?B.凹凸面MFM?C.榫槽面TG?D.環(huán)連接面RTJ答案：C14.光氣裝置區(qū)域設(shè)置的紅外氣體檢測(cè)儀響應(yīng)時(shí)間T??應(yīng)≤（）。A.5s?B.10s?C.20s?D.30s答案：B15.光氣合成反應(yīng)CO與Cl?摩爾比控制在（）時(shí)光氣選擇性最高。A.1.0∶1?B.1.05∶1?C.1.10∶1?D.1.20∶1答案：B16.光氣裝置使用的正壓空氣呼吸器氣瓶公稱壓力為（）。A.15MPa?B.20MPa?C.30MPa?D.40MPa答案：C17.光氣裝置消防噴淋水強(qiáng)度設(shè)計(jì)值不應(yīng)低于（）。A.3L/(min·m2)?B.6L/(min·m2)?C.10L/(min·m2)?D.15L/(min·m2)答案：B18.光氣裝置廢氣堿洗塔循環(huán)液pH值應(yīng)維持在（）。A.7～8?B.8～9?C.9～10?D.10～11答案：D19.光氣裝置中，CO原料氣總硫含量要求≤（）。A.0.1ppm?B.0.5ppm?C.1.0ppm?D.5.0ppm答案：A20.光氣裝置采用的雙截止閥排放系統(tǒng)中，兩閥間設(shè)置的壓力表作用是（）。A.檢測(cè)一次閥內(nèi)漏?B.檢測(cè)二次閥內(nèi)漏?C.檢測(cè)管道堵塞?D.檢測(cè)外漏答案：A21.光氣裝置檢修前，設(shè)備內(nèi)壁鈍化常用試劑為（）。A.5%NaOH?B.10%NH?·H?O?C.15%Na?CO??D.20%乙醇胺答案：B22.光氣裝置中，Cl?干燥塔出口含水量應(yīng)≤（）。A.10ppm?B.50ppm?C.100ppm?D.200ppm答案：B23.光氣合成反應(yīng)熱為（）kJ/mol。A.?107.6?B.?207.6?C.?307.6?D.?407.6答案：B24.光氣裝置設(shè)置爆破片的容器，其爆破壓力允差為±（）。A.3%?B.5%?C.7%?D.10%答案：B25.光氣裝置DCS系統(tǒng)SOE分辨率應(yīng)≤（）。A.1ms?B.2ms?C.5ms?D.10ms答案：A26.光氣裝置中，CO壓縮機(jī)出口設(shè)置活性炭過(guò)濾器主要去除（）。A.水分?B.鐵銹?C.有機(jī)硫?D.潤(rùn)滑油霧答案：D27.光氣裝置區(qū)域防爆電器最低防護(hù)等級(jí)為（）。A.IP54?B.IP55?C.IP65?D.IP66答案：C28.光氣裝置中，光氣冷凝器冷卻介質(zhì)溫度不得低于（）以防光氣液化困難。A.?5℃?B.0℃?C.5℃?D.10℃答案：C29.光氣裝置設(shè)置的安全儀表系統(tǒng)SIL等級(jí)整體不低于（）。A.SIL1?B.SIL2?C.SIL3?D.SIL4答案：B30.光氣裝置中，光氣產(chǎn)品儲(chǔ)罐氣相平衡管接入（）系統(tǒng)。A.尾氣吸收?B.氮?dú)饷芊?C.真空?D.壓縮空氣答案：A二、多項(xiàng)選擇題（每題2分，共20分。每題有兩個(gè)或兩個(gè)以上正確答案，錯(cuò)選、多選、漏選均不得分）31.下列屬于光氣物理性質(zhì)的有（）。A.沸點(diǎn)8.2℃?B.相對(duì)密度3.5（空氣=1）?C.無(wú)色無(wú)味?D.易溶于水?E.易液化答案：ABE32.光氣裝置緊急停車觸發(fā)條件包括（）。A.反應(yīng)器溫度高高?B.冷卻水壓力低低?C.氯氣流量異常低?D.裝置區(qū)火災(zāi)信號(hào)?E.停電答案：ABCDE33.光氣裝置中，下列設(shè)備必須設(shè)置爆破片的有（）。A.光氣合成塔?B.光氣儲(chǔ)罐?C.氯氣緩沖罐?D.CO緩沖罐?E.堿洗塔答案：ABC34.光氣裝置個(gè)人防護(hù)裝備PPE包括（）。A.防化服?B.正壓呼吸器?C.防氰手套?D.防氰面屏?E.防靜電鞋答案：ABCE35.光氣裝置區(qū)域氣體檢測(cè)系統(tǒng)需檢測(cè)（）。A.CO?B.Cl??C.光氣?D.HCl?E.O?答案：ABCD36.光氣裝置中，下列操作會(huì)產(chǎn)生光氣暴露風(fēng)險(xiǎn)的有（）。A.更換光氣過(guò)濾器濾芯?B.采樣?C.儲(chǔ)罐液位計(jì)校驗(yàn)?D.反應(yīng)器催化劑裝填?E.尾氣堿洗塔排污答案：ABCD37.光氣裝置中，下列屬于重大危險(xiǎn)源的有（）。A.光氣儲(chǔ)罐≥5t?B.液氯儲(chǔ)罐≥10t?C.CO儲(chǔ)罐≥50t?D.光氣合成塔≥1t?E.堿洗塔答案：ABC38.光氣裝置中，下列屬于防止光氣泄漏的被動(dòng)防護(hù)措施有（）。A.雙截止閥?B.焊接閥門?C.密閉采樣器?D.圍堰?E.防爆墻答案：BCD39.光氣裝置中，下列屬于光氣分解產(chǎn)物的是（）。A.CO?B.Cl??C.HCl?D.CO??E.光氣二聚體答案：ABCD40.光氣裝置中，下列屬于光氣泄漏應(yīng)急處置步驟的有（）。A.立即啟動(dòng)噴淋?B.疏散下風(fēng)向人員?C.佩戴PPE關(guān)閥斷料?D.用NaOH溶液吸收?E.用砂土覆蓋答案：ABCD三、判斷題（每題1分，共10分。正確打“√”，錯(cuò)誤打“×”）41.光氣在干燥狀態(tài)下對(duì)碳鋼腐蝕極微。（）答案：√42.光氣裝置區(qū)域可使用普通照明燈具。（）答案：×43.光氣合成反應(yīng)為放熱反應(yīng)，需及時(shí)移熱。（）答案：√44.光氣裝置中，CO與Cl?混合前必須分別預(yù)熱至相同溫度以防局部過(guò)熱。（）答案：√45.光氣裝置檢修時(shí)，只要檢測(cè)光氣濃度為零即可動(dòng)火。（）答案：×46.光氣裝置中，光氣儲(chǔ)罐可采用浮頂罐以減少蒸發(fā)損失。（）答案：×47.光氣裝置中，光氣管道必須采用焊接連接，禁止法蘭連接。（）答案：×48.光氣裝置中，光氣泄漏報(bào)警設(shè)定值通常設(shè)為0.3ppm。（）答案：√49.光氣裝置中，光氣合成塔催化劑床層熱點(diǎn)溫度不得超過(guò)400℃。（）答案：√50.光氣裝置中，光氣尾氣可直接排入大氣。（）答案：×四、填空題（每空1分，共20分）51.光氣化學(xué)式為________，分子量________。答案：COCl?，98.9252.光氣合成反應(yīng)方程式：CO+Cl?→COCl?，該反應(yīng)平衡常數(shù)隨溫度升高而________。答案：減小53.光氣在常溫常壓下為________色氣體，具有________氣味。答案：無(wú)，霉草54.光氣裝置中，CO原料氣純度要求≥________%（vol）。答案：98.555.光氣裝置中，Cl?原料氣含水≤________ppm（wt）。答案：5056.光氣裝置中，光氣合成塔催化劑為________形狀，主要活性組分為________。答案：圓柱形，活性炭載氯化銅57.光氣裝置中，光氣冷凝器出口溫度控制在________℃。答案：0～558.光氣裝置中，光氣儲(chǔ)罐壓力維持在________kPa（G）。答案：50～10059.光氣裝置中，光氣泄漏應(yīng)急噴灑NaOH溶液濃度為________%。答案：1060.光氣裝置中，光氣合成塔空速通常取________h?1。答案：500～80061.光氣裝置中，光氣尾氣堿洗塔填料為________材質(zhì)。答案：聚丙烯鮑爾環(huán)62.光氣裝置中，光氣管道設(shè)計(jì)流速≤________m/s。答案：563.光氣裝置中，光氣儲(chǔ)罐氣相空間設(shè)置________呼吸閥。答案：冷凍鹽水冷凝+活性炭吸附64.光氣裝置中，光氣合成反應(yīng)器出口光氣含量≥________%（vol）。答案：9065.光氣裝置中，光氣產(chǎn)品儲(chǔ)罐采用________結(jié)構(gòu)，材質(zhì)為________。答案：臥式雙層罐，316L+鎳基復(fù)合板66.光氣裝置中，光氣裝置區(qū)域設(shè)置________級(jí)重大危險(xiǎn)源監(jiān)控。答案：一67.光氣裝置中，光氣裝置DCS系統(tǒng)掃描周期≤________ms。答案：10068.光氣裝置中，光氣裝置安全儀表系統(tǒng)SIL等級(jí)整體為________。答案：SIL269.光氣裝置中，光氣裝置消防水幕噴水強(qiáng)度≥________L/(s·m)。答案：270.光氣裝置中，光氣裝置區(qū)域邊界設(shè)置________米高實(shí)體圍墻。答案：2.5五、簡(jiǎn)答題（每題6分，共30分）71.簡(jiǎn)述光氣合成反應(yīng)機(jī)理及催化劑作用。答案：CO與Cl?在活性炭載CuCl?催化劑表面發(fā)生吸附，Cl?解離為Cl·自由基，與CO形成中間體COCl·，再與Cl·結(jié)合生成COCl?并脫附；催化劑降低活化能，提高選擇性，抑制副反應(yīng)。72.列出光氣裝置運(yùn)行期間需定期分析的六項(xiàng)關(guān)鍵指標(biāo)并給出控制范圍。答案：①合成塔出口光氣含量≥90%；②CO/Cl?摩爾比1.05±0.02；③反應(yīng)器熱點(diǎn)溫度≤380℃；④光氣冷凝器出口溫度0～5℃；⑤尾氣光氣≤1ppm；⑥循環(huán)NaOH濃度10～15%。73.說(shuō)明光氣儲(chǔ)罐氮封系統(tǒng)的作用及控制邏輯。答案：氮封防止空氣進(jìn)入形成爆炸性混合氣，同時(shí)減少光氣蒸發(fā)；罐頂設(shè)自力式調(diào)節(jié)閥，壓力≤50kPa時(shí)補(bǔ)氮，≥100kPa時(shí)排至尾氣吸收，設(shè)高低壓報(bào)警聯(lián)鎖切斷進(jìn)出料。74.描述光氣泄漏現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)急處置“十步法”。答案：①發(fā)現(xiàn)報(bào)警立即確認(rèn)；②啟動(dòng)聲光報(bào)警疏散；③佩戴PTE關(guān)閉上風(fēng)向雨屏；④啟動(dòng)噴淋水幕；⑤切斷泄漏源前后閥門；⑥用10%NaOH霧狀吸收；⑦檢測(cè)邊界濃度；⑧設(shè)立隔離區(qū)；⑨醫(yī)療救護(hù)暴露人員；⑩事后評(píng)估恢復(fù)。75.解釋光氣裝置采用雙截止閥+盲板排放的設(shè)計(jì)理由。答案：光氣劇毒，單閥內(nèi)漏風(fēng)險(xiǎn)高；雙截止閥可在線檢測(cè)一次閥內(nèi)漏，二次閥提供冗余；盲板實(shí)現(xiàn)物理隔離，確保檢修零泄漏，滿足GB/T50493要求。六、計(jì)算題（每題10分，共20分）76.某光氣裝置合成塔進(jìn)料CO1000kg/h，Cl?1200kg/h，反應(yīng)器出口光氣流量為1900kg/h，求CO轉(zhuǎn)化率、光氣選擇性及過(guò)量Cl?比例。答案：n(CO)=1000/28=35.71kmol/hn(Cl?)=1200/71=16.90kmol/hn(光氣)=1900/98.92=19.21kmol/hCO轉(zhuǎn)化率=19.21/35.71=53.8%理論需Cl?=19.21kmol/h選擇性=19.21/16.90=113.7%（Cl?不足，實(shí)際CO過(guò)量）過(guò)量CO比例=(35.71?19.21)/19.21=86%77.光氣儲(chǔ)罐容積50m3，儲(chǔ)存溫度?5℃，充裝系數(shù)0.8，求最大儲(chǔ)存光氣質(zhì)量；若泄