《GB/T25934.2-2010高純金化學(xué)分析方法第2部分：ICP-MS-標(biāo)準(zhǔn)加入校正-內(nèi)標(biāo)法測定雜質(zhì)元素的含量》專題研究報告解讀目錄破譯高純金的“元素指紋

”:深度剖析GB/T25934.2-2010如何以ICP-MS技術(shù)實現(xiàn)雜質(zhì)元素的極致精準(zhǔn)測定迎戰(zhàn)基體效應(yīng)的“

隱形干擾

”:深度探索標(biāo)準(zhǔn)校正策略如何破解高純金復(fù)雜基體對痕量雜質(zhì)分析的精準(zhǔn)度挑戰(zhàn)樣品前處理的“精微手術(shù)

”:剖析高純金溶解、制備過程中的污染控制與損失規(guī)避關(guān)鍵操作要點與陷阱規(guī)避質(zhì)量保證與控制的完整閉環(huán):構(gòu)建從空白實驗、質(zhì)量控制樣到不確定度評定的全流程數(shù)據(jù)可靠性保障體系面向未來的趨勢前瞻:探討單顆粒ICP-MS、激光剝蝕與色譜聯(lián)用技術(shù)在高純金雜質(zhì)分析領(lǐng)域的潛在融合路徑從原理到實踐的全景透視:專家視角解構(gòu)標(biāo)準(zhǔn)加入校正與內(nèi)標(biāo)法在高純金分析中的協(xié)同作戰(zhàn)機(jī)制與深層邏輯內(nèi)標(biāo)元素選擇的“藝術(shù)與科學(xué)

”:深入解讀標(biāo)準(zhǔn)如何指導(dǎo)選擇理想內(nèi)標(biāo)以監(jiān)控與校正儀器漂移與信號抑制儀器操作的條件優(yōu)化密碼:詳解標(biāo)準(zhǔn)中射頻功率、載氣流速、采樣深度等關(guān)鍵參數(shù)設(shè)置的原理與優(yōu)化策略跨越標(biāo)準(zhǔn)文本的實戰(zhàn)應(yīng)用指南:針對高純金錠、靶材、鍵合絲等不同形態(tài)樣品的專項分析策略與疑難解答從合規(guī)到卓越:以GB/T25934.2-2010為基石,構(gòu)建支撐高端半導(dǎo)體與精密電子產(chǎn)業(yè)發(fā)展的超痕量分析核心競爭譯高純金的“元素指紋”：深度剖析GB/T25934.2-2010如何以ICP-MS技術(shù)實現(xiàn)雜質(zhì)元素的極致精準(zhǔn)測定為何高純金分析是“微量元素探測的巔峰挑戰(zhàn)”？——闡明高純度基體下痕量雜質(zhì)分析的極端難度與產(chǎn)業(yè)核心需求1高純金作為半導(dǎo)體鍵合、高端觸點和精密電子器件的關(guān)鍵材料，其性能極度敏感于ppb（十億分之一）乃至更低級別的雜質(zhì)含量。這些微量雜質(zhì)如同材料的“指紋”，直接影響其電導(dǎo)率、延展性及長期可靠性。因此，分析技術(shù)必須能在近乎純凈的金基體背景下，精準(zhǔn)識別并量化極其微量的“信號”，這對方法的檢出限、精密度和抗干擾能力提出了近乎苛刻的要求，是本標(biāo)準(zhǔn)制定的根本出發(fā)點。2ICP-MS技術(shù)何以成為破解難題的“終極利器”？——解析電感耦合等離子體質(zhì)譜法在高純金分析中的獨特優(yōu)勢與核心地位電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）技術(shù)以其極高的靈敏度（可達(dá)ppt級）、寬廣的線性動態(tài)范圍、多元素同時測定能力以及出色的元素特異性（通過質(zhì)荷比區(qū)分），成為應(yīng)對高純金分析挑戰(zhàn)的首選。它能將樣品溶液高效離子化，并通過質(zhì)譜儀分離檢測，有效克服傳統(tǒng)原子光譜法在超高純基體下可能遇到的背景干擾和靈敏度不足問題，為標(biāo)準(zhǔn)方法奠定了堅實的技術(shù)基礎(chǔ)。GB/T25934.2-2010標(biāo)準(zhǔn)方法學(xué)的整體框架與戰(zhàn)略定位——勾勒“樣品制備-校準(zhǔn)策略-儀器測定-質(zhì)量評估”的全鏈條技術(shù)藍(lán)圖01本標(biāo)準(zhǔn)并非簡單的操作步驟清單，而是一個系統(tǒng)性的方法學(xué)框架。它系統(tǒng)規(guī)定了從高純金樣品的溶解（如王水溶解）與適當(dāng)稀釋開始，到采用標(biāo)準(zhǔn)加入校正結(jié)合內(nèi)標(biāo)法的校準(zhǔn)策略，再到ICP-MS儀器的最佳化條件設(shè)置，最后通過嚴(yán)格的質(zhì)量控制措施確保數(shù)據(jù)可靠性的完整流程。這份藍(lán)圖確保了不同實驗室間分析結(jié)果的可比性與權(quán)威性。02從原理到實踐的全景透視：專家視角解構(gòu)標(biāo)準(zhǔn)加入校正與內(nèi)標(biāo)法在高純金分析中的協(xié)同作戰(zhàn)機(jī)制與深層邏輯標(biāo)準(zhǔn)加入校正法的本質(zhì)：為何它是克服“基體效應(yīng)”的黃金法則？——深入闡述其數(shù)學(xué)原理與在消除復(fù)雜基體干擾中的不可替代性標(biāo)準(zhǔn)加入法通過向樣品溶液中直接加入已知量的待測元素標(biāo)準(zhǔn)溶液，構(gòu)建校準(zhǔn)曲線。由于加標(biāo)樣品與原始樣品共享完全相同的基體成分，因此由基體引起的信號抑制或增強(qiáng)效應(yīng)在校準(zhǔn)過程中被自動抵消。這對于高純金（Au基體濃度極高）這類存在顯著且難以完全模擬的基體效應(yīng)的樣品而言，是獲得準(zhǔn)確定量結(jié)果的關(guān)鍵，優(yōu)于使用純?nèi)軇┡渲频暮唵瓮鈽?biāo)法。12內(nèi)標(biāo)法的核心角色：如何實時“監(jiān)控”與“修正”儀器的不穩(wěn)定信號？——揭示內(nèi)標(biāo)元素作為“參比燈塔”對長期漂移與短期波動的補(bǔ)償機(jī)制在樣品引入、等離子體激發(fā)、離子傳輸?shù)冗^程中，儀器信號會隨時間發(fā)生漂移或受瞬時基體效應(yīng)影響。內(nèi)標(biāo)法通過在樣品和標(biāo)準(zhǔn)溶液中均加入固定濃度的、樣品中不存在的特定元素（內(nèi)標(biāo)），將待測元素的信號強(qiáng)度與內(nèi)標(biāo)元素的信號強(qiáng)度比值（信號比）用于定量。這個比值能有效補(bǔ)償因進(jìn)樣效率、等離子體條件波動等因素引起的信號變化，顯著提高分析的精密度和長期穩(wěn)定性。12“標(biāo)準(zhǔn)加入”與“內(nèi)標(biāo)法”的聯(lián)用：如何實現(xiàn)“1+1>2”的協(xié)同校準(zhǔn)效果？——剖析兩種方法聯(lián)用如何構(gòu)建雙重保險，確保從樣品到數(shù)據(jù)的全程可靠性本標(biāo)準(zhǔn)的核心創(chuàng)新與優(yōu)勢在于將兩種強(qiáng)大的校正技術(shù)聯(lián)用。具體操作是：在制備標(biāo)準(zhǔn)加入系列溶液時，每一份溶液（包括樣品原液和各加標(biāo)點）中都加入相同濃度的內(nèi)標(biāo)元素。首先，標(biāo)準(zhǔn)加入法校正了基體效應(yīng)帶來的定量偏差；其次，內(nèi)標(biāo)法則校正了儀器信號的不穩(wěn)定性。兩者結(jié)合，形成了一套魯棒性極強(qiáng)的校準(zhǔn)體系，特別適合高純材料這種對準(zhǔn)確度和精密度要求都達(dá)到極致的分析場景。迎戰(zhàn)基體效應(yīng)的“隱形干擾”：深度探索標(biāo)準(zhǔn)校正策略如何破解高純金復(fù)雜基體對痕量雜質(zhì)分析的精準(zhǔn)度挑戰(zhàn)高純金基體干擾的“多副面孔”：物理效應(yīng)、光譜干擾與質(zhì)量數(shù)重疊的全面解析01高純金基體干擾并非單一現(xiàn)象。首先，高濃度的金溶液會產(chǎn)生顯著的物理效應(yīng)，如提升溶液粘度、影響霧化效率，并可能在采樣錐口沉積。其次，金元素本身及其形成的多原子離子（如AuAr+）可能對待測雜質(zhì)元素的質(zhì)譜峰產(chǎn)生光譜重疊干擾。此外，高基體濃度還會通過空間電荷效應(yīng)影響離子傳輸效率。這些干擾綜合作用，嚴(yán)重威脅痕量雜質(zhì)測定的準(zhǔn)確性。02標(biāo)準(zhǔn)加入法：從根源上“模擬”并抵消基體效應(yīng)的設(shè)計哲學(xué)與操作要點1標(biāo)準(zhǔn)加入法的設(shè)計哲學(xué)在于“同基體校準(zhǔn)”。通過將待測元素標(biāo)準(zhǔn)溶液直接加入至經(jīng)過適當(dāng)稀釋的樣品溶液本身中，所構(gòu)建的加標(biāo)系列與未知樣品具有完全一致的基體組成（包括金濃度、酸度等）。因此，任何由該特定基體引起的對被測元素信號的抑制或增強(qiáng)效應(yīng)，在校準(zhǔn)曲線各個點上是恒定或成比例存在的，從而在通過外推法計算原樣品濃度時被有效抵消，這是對抗難以精確建模的復(fù)雜基體效應(yīng)的最有效策略之一。2實際操作中基體匹配的精細(xì)考量：稀釋倍數(shù)、酸介質(zhì)一致性等關(guān)鍵參數(shù)的優(yōu)化平衡實施標(biāo)準(zhǔn)加入法時，需精細(xì)優(yōu)化樣品稀釋倍數(shù)。過度稀釋會降低雜質(zhì)信號強(qiáng)度，可能接近檢出限；稀釋不足則基體效應(yīng)過強(qiáng)，且可能超出儀器線性范圍或?qū)е洛F孔堵塞。標(biāo)準(zhǔn)通常建議將金基體濃度控制在一定范圍內(nèi)（如100-500mg/L）。同時，必須確保樣品溶液與所有加標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)溶液的酸介質(zhì)（通常是王水或稀王水）類型和濃度嚴(yán)格一致，以消除酸效應(yīng)帶來的信號差異。內(nèi)標(biāo)元素選擇的“藝術(shù)與科學(xué)”：深入解讀標(biāo)準(zhǔn)如何指導(dǎo)選擇理想內(nèi)標(biāo)以監(jiān)控與校正儀器漂移與信號抑制理想內(nèi)標(biāo)元素的“四大黃金準(zhǔn)則”：質(zhì)量數(shù)鄰近性、化學(xué)行為相似性、樣品中不存在性與信號穩(wěn)定性選擇內(nèi)標(biāo)元素是一項嚴(yán)謹(jǐn)?shù)目茖W(xué)決策。首要準(zhǔn)則是其質(zhì)量數(shù)應(yīng)盡可能靠近待測元素的質(zhì)量數(shù)，以確保在質(zhì)譜儀中經(jīng)歷相似的傳輸與檢測行為。其次，其電離電位、化學(xué)性質(zhì)（在溶液中的形態(tài)）應(yīng)接近待測元素，以對等離子體條件變化做出相似響應(yīng)。第三，必須確保待測樣品中完全不含有該內(nèi)標(biāo)元素。最后，內(nèi)標(biāo)元素本身應(yīng)信號穩(wěn)定、無同質(zhì)異位素或多原子離子干擾。12針對高純金分析的特化內(nèi)標(biāo)推薦列表及其適用場景深度剖析——以Rh、Re、Ir等為例針對高純金基體，標(biāo)準(zhǔn)常推薦使用Rh（銠）、Re（錸）、Ir（銥）等元素作為內(nèi)標(biāo)。例如，Rh質(zhì)量數(shù)為103，適用于質(zhì)量數(shù)在90-120范圍內(nèi)的雜質(zhì)元素校正；Re質(zhì)量數(shù)為185/187，適用于質(zhì)量數(shù)較高的重金屬雜質(zhì)。這些元素在自然界和常規(guī)高純金中含量極微，能滿足“不存在性”要求。其化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，在酸性介質(zhì)中行為可預(yù)測，且信號響應(yīng)良好，是經(jīng)過實踐驗證的優(yōu)選。多內(nèi)標(biāo)策略的應(yīng)用：為何單一內(nèi)標(biāo)可能“力不從心”？以及如何為寬質(zhì)量數(shù)范圍的雜質(zhì)元素群組分配最佳內(nèi)標(biāo)當(dāng)需要同時測定從輕元素（如Na、Mg）到重元素（如Pb、Bi）的寬質(zhì)量數(shù)范圍雜質(zhì)時，單個內(nèi)標(biāo)元素難以對所有待測元素都實現(xiàn)有效校正。因為質(zhì)量數(shù)差異過大的離子在離子透鏡系統(tǒng)中的行為可能有別。因此，采用多內(nèi)標(biāo)策略是更科學(xué)的選擇。例如，可用Sc或Ge校正輕中質(zhì)量數(shù)元素，用In或Lu校正中質(zhì)量數(shù)元素，用Re或Bi校正重質(zhì)量數(shù)元素，從而為不同質(zhì)量段的雜質(zhì)元素提供更精準(zhǔn)、針對性的行為監(jiān)控。樣品前處理的“精微手術(shù)”：剖析高純金溶解、制備過程中的污染控制與損失規(guī)避關(guān)鍵操作要點與陷阱規(guī)避高純金溶解的“溫和”與“徹底”：王水溶解的化學(xué)機(jī)理、溫度控制與完全性判斷高純金通常采用王水（濃鹽酸與濃硝酸按特定體積比混合）進(jìn)行溶解，其原理是利用硝酸的氧化性和氯離子的絡(luò)合作用生成穩(wěn)定的氯金酸。操作需在通風(fēng)櫥內(nèi)于低溫（如80-90℃水浴）下進(jìn)行，避免劇烈反應(yīng)和酸液揮發(fā)。溶解完全性的判斷標(biāo)準(zhǔn)是樣品完全溶解，溶液清澈透明，無固體顆粒殘留。過度加熱可能導(dǎo)致酸過度蒸發(fā)或引入污染，需避免。12超凈實驗室環(huán)境、高純試劑與器皿的絕對要求：如何將背景污染降至亞ppb水平？前處理是引入污染的最大風(fēng)險點。必須在至少萬級潔凈度的超凈實驗室或潔凈工作臺內(nèi)操作。必須使用電子級或更高純度的酸和超純水（電阻率≥18.2MΩ·cm）。所有接觸樣品的器皿（燒杯、容量瓶、移液槍頭等）必須由低吸附性材料（如PFA、PTFE）制成，并經(jīng)過嚴(yán)格的酸浸泡（如50%硝酸）和超純水沖洗流程，以洗脫可能沾污的痕量金屬。定容、稀釋與分樣的精準(zhǔn)操作：避免吸附、揮發(fā)損失與交叉污染的細(xì)節(jié)控制溶解后的樣品溶液需準(zhǔn)確轉(zhuǎn)移并定容。由于雜質(zhì)處于痕量水平，可能吸附于容器壁。建議使用含酸（如1-2%王水）的稀釋液定容和保存，以減少吸附。稀釋過程需使用經(jīng)過校準(zhǔn)的A級容量器具和精密移液設(shè)備。分樣時，需確保溶液均勻，并避免使用可能引入污染的金屬工具。每一步操作都應(yīng)有詳細(xì)的記錄，確?？勺匪菪?。ICP-MS儀器操作的條件優(yōu)化密碼：詳解標(biāo)準(zhǔn)中射頻功率、載氣流速、采樣深度等關(guān)鍵參數(shù)設(shè)置的原理與優(yōu)化策略等離子體條件的“能量平衡”：射頻功率與載氣流速對靈敏度、氧化物產(chǎn)率與雙電荷離子產(chǎn)率的影響機(jī)制1射頻功率決定了等離子體的溫度和能量。功率過高可能增加背景噪聲和雙電荷離子產(chǎn)率；功率過低則可能導(dǎo)致樣品解離不完全，靈敏度下降。載氣流速（主要是霧化氣流量）直接影響樣品氣溶膠的傳輸效率和粒徑分布。優(yōu)化二者通常采用“調(diào)諧”方式：在一定的載氣流速下，掃描射頻功率，尋找待測元素信號強(qiáng)度最高、氧化物離子產(chǎn)率（如CeO+/Ce+）和雙電荷離子產(chǎn)率（如Ba2+/Ba+）最低的平衡點，以實現(xiàn)高靈敏度與低干擾。2接口區(qū)域的“精細(xì)調(diào)控”：采樣錐與截取錐的錐距、采樣深度對信號強(qiáng)度與穩(wěn)定性的決定性作用采樣錐和截取錐是等離子體（大氣壓）與質(zhì)譜儀（高真空）的接口。采樣深度（SamplingDepth）指采樣錐尖距線圈的距離，影響等離子體中心通道的取樣位置。錐距（兩個錐之間的間距）影響真空級差和離子傳輸。通常需要通過實驗優(yōu)化，在給定的功率和氣流下，尋找能獲得最強(qiáng)、最穩(wěn)定信號（特別是內(nèi)標(biāo)信號）的采樣深度和錐距組合。保持錐孔清潔對于長期穩(wěn)定性至關(guān)重要。碰撞/反應(yīng)池技術(shù)（CRC）在高純金分析中的針對性應(yīng)用：消除多原子離子干擾的進(jìn)階武器高純金基體可能產(chǎn)生如AuAr+、AuO+等多原子離子，干擾特定雜質(zhì)元素的測定（如AuAr+干擾硒的78Se）。碰撞/反應(yīng)池技術(shù)通過向池內(nèi)通入碰撞氣（如He）或反應(yīng)氣（如H2、O2、NH3），利用動能歧視或化學(xué)反應(yīng)選擇性地消除這些多原子離子干擾，而不顯著減弱待測analyte離子信號。本標(biāo)準(zhǔn)雖基于常規(guī)模式，但明確指出可采用CRC技術(shù)解決特定干擾，是方法的重要擴(kuò)展和性能提升途徑。質(zhì)量保證與控制的完整閉環(huán)：構(gòu)建從空白實驗、質(zhì)量控制樣到不確定度評定的全流程數(shù)據(jù)可靠性保障體系方法空白與過程空白的“照妖鏡”作用：如何通過空白實驗識別并扣除污染背景？01方法空白是指用與樣品處理完全相同的過程（包括試劑、器皿、程序）但不加入樣品所得到的溶液。過程空白則可能包含部分但不全部步驟。通過分析空白溶液，可以量化整個分析流程引入的污染水平。所有樣品中測得的雜質(zhì)含量必須經(jīng)過空白值校正（樣品測得值減去空白值）。定期且系統(tǒng)地分析空白是評估實驗室清潔度和數(shù)據(jù)有效性的基石。02質(zhì)量控制樣品的常態(tài)化運(yùn)行：標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)分析、加標(biāo)回收率試驗與控制圖監(jiān)控質(zhì)量控制樣包括有證標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)、實驗室自制控制樣或加標(biāo)回收樣。定期（如每批樣品）分析已知濃度的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，可以驗證方法的準(zhǔn)確度。對實際樣品進(jìn)行加標(biāo)回收率試驗，可以評估在真實基體中方法的可靠性。將質(zhì)量控制樣的分析結(jié)果繪制在控制圖上，可以直觀監(jiān)控分析過程的長期穩(wěn)定性，及時發(fā)現(xiàn)系統(tǒng)漂移或異常。測量不確定度的科學(xué)評定：從標(biāo)準(zhǔn)曲線擬合、重復(fù)性到標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)定值，量化結(jié)果的可信區(qū)間根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)獲得的測量結(jié)果不是單一確定值，而應(yīng)附有測量不確定度，表示合理賦予的被測量值之值的分散性。不確定度來源包括：標(biāo)準(zhǔn)溶液配制的不確定度、標(biāo)準(zhǔn)曲線擬合的不確定度、樣品稱量與定容的不確定度、儀器重復(fù)性（精密度）引入的不確定度等。通過建立數(shù)學(xué)模型，對各不確定度分量進(jìn)行評估與合成，最終給出包含因子為k=2的擴(kuò)展不確定度，使報告結(jié)果更具科學(xué)性和可比性。跨越標(biāo)準(zhǔn)文本的實戰(zhàn)應(yīng)用指南：針對高純金錠、靶材、鍵合絲等不同形態(tài)樣品的專項分析策略與疑難解答高純金錠/顆粒的取樣代表性與均勻性處理——鉆取、熔鑄均勻化等前處理技巧1對于金錠或顆粒，首要問題是確保所取小樣能代表整批材料的平均組成。標(biāo)準(zhǔn)操作包括在多個部位鉆取屑末并混合均勻，或采用火試金法將樣品熔鑄成成分均勻的小珠。取樣工具必須潔凈，避免引入Fe、Cr等污染。對于可能存在的表面污染，有時需先用稀酸清洗表面并棄去洗液，再取內(nèi)部樣品進(jìn)行分析。2金基薄膜、靶材等特殊形態(tài)樣品的非完全溶解或直接進(jìn)樣技術(shù)考量01對于鍍層、薄膜或濺射靶材，樣品量可能很少，且需進(jìn)行表面或深度分析。除了常規(guī)的酸溶解（可能需考慮基材影響），可結(jié)合激光剝蝕（LA）直接進(jìn)樣ICP-MS進(jìn)行微區(qū)分析，但需另行建立校準(zhǔn)方法。對于可完全溶解的靶材碎片，需注意其可能含有粘結(jié)相或其他合金元素，溶解方案和基體匹配需相應(yīng)調(diào)整。02鍵合絲等超細(xì)金材的樣品量限制與低體積前處理方法適配01金鍵合絲直徑極細(xì)（如25微米），單根樣品質(zhì)量極輕（微克級），直接溶解定容后雜質(zhì)濃度可能低于方法檢出限。實踐中常將多根（數(shù)十至上百根）鍵合絲合并作為一個樣品處理，以獲得足夠的待測物絕對量。清洗步驟（如有機(jī)溶劑除表面有機(jī)物）需謹(jǐn)慎，避免引入污染或造成損失。溶解時需確保所有絲材完全浸潤于酸中。02面向未來的趨勢前瞻：探討單顆粒ICP-MS、激光剝蝕與色譜聯(lián)用技術(shù)在高純金雜質(zhì)分析領(lǐng)域的潛在融合路徑單顆粒ICP-MS技術(shù)的引入：能否實現(xiàn)高純金中“殺手雜質(zhì)”顆粒的個體化統(tǒng)計與表征？01傳統(tǒng)溶液霧化ICP-MS得到的是整體元素的平均濃度。單顆粒ICP-MS技術(shù)將極稀的樣品溶液以單顆粒/液滴形式引入，可以檢測每個含有雜質(zhì)元素的納米或微米顆粒所產(chǎn)生的信號脈沖。未來或可應(yīng)用于高純金中不溶性夾雜物或“殺手”雜質(zhì)顆粒的計數(shù)、粒徑估算及成分分析，為工藝溯源提供更維度信息。02激光剝蝕固體直接進(jìn)樣ICP-MS：如何實現(xiàn)高純金材料表面分布與深度剖面的快速、無損篩查？激光剝蝕LA-ICP-MS無需復(fù)雜的濕法消解，可直接對固體金樣品表面進(jìn)行微區(qū)分析，獲得雜質(zhì)元素的空間二維分布圖，或進(jìn)行深度剖面分析以觀察表面污染與內(nèi)部本底的差異。這對于評估金材表面處理效果、研究雜質(zhì)偏析、快速篩查不合格品具有巨大潛力。挑戰(zhàn)在于固體標(biāo)樣的制備與校準(zhǔn)策略。聯(lián)用技術(shù)拓展：當(dāng)ICP-MS邂逅色譜分離——揭示雜質(zhì)元素的具體化學(xué)形態(tài)01對于某些特定應(yīng)用，不僅需要知道雜質(zhì)的總量，還需了解其化學(xué)形態(tài)（如有機(jī)物結(jié)合的金屬雜質(zhì)）。高效液相色譜或氣相色譜與ICP-MS聯(lián)