游戲原畫師三維模型設(shè)計(jì)評(píng)估試題及真題考試時(shí)長：120分鐘滿分：100分試卷名稱：游戲原畫師三維模型設(shè)計(jì)評(píng)估試題及真題考核對(duì)象：游戲原畫師、三維模型設(shè)計(jì)師、相關(guān)專業(yè)學(xué)生題型分值分布：-判斷題（10題，每題2分）總分20分-單選題（10題，每題2分）總分20分-多選題（10題，每題2分）總分20分-案例分析（3題，每題6分）總分18分-論述題（2題，每題11分）總分22分總分：100分---一、判斷題（每題2分，共20分）1.三維模型設(shè)計(jì)中的UV展開直接影響貼圖質(zhì)量，但與模型拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)無關(guān)。2.高模（HighPoly）模型可以直接用于游戲引擎，無需烘焙低模（LowPoly）。3.ZBrush中的Dynamesh功能可以實(shí)時(shí)調(diào)整模型細(xì)分級(jí)別，無需預(yù)設(shè)置。4.游戲中的法線貼圖（NormalMap）可以增加模型表面細(xì)節(jié)，但不會(huì)影響面數(shù)。5.模型拓?fù)洌═opology）設(shè)計(jì)時(shí)，四邊面（Quads）優(yōu)于三角面（Tris）結(jié)構(gòu)。6.硬表面模型（HardSurface）設(shè)計(jì)時(shí)，建議使用NURBS曲面而非多邊形建模。7.游戲引擎中的烘焙貼圖（BakedMap）會(huì)占用更多內(nèi)存，但加載速度更快。8.模型UV接縫（Seam）應(yīng)盡量隱藏在模型不顯眼的位置，如關(guān)節(jié)處。9.PBR（PhysicallyBasedRendering）材質(zhì)需要高精度貼圖才能表現(xiàn)真實(shí)效果。10.三維模型的光照貼圖（Lightmap）可以替代實(shí)時(shí)光照，適用于所有游戲場(chǎng)景。二、單選題（每題2分，共20分）1.以下哪種工具最適合高精度雕刻（High-PolySculpting）？（）A.MayaB.3dsMaxC.ZBrushD.Blender2.游戲模型面數(shù)優(yōu)化時(shí)，優(yōu)先減少哪種面類型？（）A.四邊面B.三角面C.NURBS曲面D.雙面面3.ZBrush中，用于快速調(diào)整模型形態(tài)的功能是？（）A.DynameshB.RetopologyC.SubdivisionD.DecimationMaster4.法線貼圖（NormalMap）主要解決什么問題？（）A.減少模型面數(shù)B.增加表面細(xì)節(jié)C.調(diào)整模型顏色D.優(yōu)化UV布局5.游戲引擎中，以下哪種貼圖用于模擬粗糙度？（）A.MetallicMapB.RoughnessMapC.AmbientOcclusionMapD.DisplacementMap6.模型拓?fù)湓O(shè)計(jì)時(shí)，以下哪種結(jié)構(gòu)最不利于動(dòng)畫？（）A.四邊面為主B.三角面為主C.網(wǎng)格孔洞（Hole）較多D.邊界線（Border）清晰7.PBR材質(zhì)中，以下哪個(gè)參數(shù)影響金屬光澤？（）A.RoughnessB.MetallicC.AmbientOcclusionD.Emission8.UV展開時(shí)，以下哪種方法會(huì)導(dǎo)致貼圖拉伸？（）A.使用四邊面為主B.避免長條形UVC.將UV接縫放在高光區(qū)域D.保持UV均勻分布9.游戲引擎中，以下哪種貼圖用于模擬凹凸效果？（）A.BumpMapB.NormalMapC.DisplacementMapD.AmbientOcclusionMap10.三維模型烘焙時(shí)，以下哪種設(shè)置會(huì)導(dǎo)致光照過暗？（）A.HighResolutionB.LowResolutionC.LowQualityD.NormalMap三、多選題（每題2分，共20分）1.ZBrush中，以下哪些功能可用于模型雕刻？（）A.DynameshB.ZModelerC.UVMasterD.DecimationMaster2.游戲模型優(yōu)化時(shí)，以下哪些方法有效？（）A.減少四邊面數(shù)量B.使用LOD（LevelofDetail）技術(shù)C.優(yōu)化UV布局D.烘焙所有貼圖3.PBR材質(zhì)中，以下哪些貼圖是必需的？（）A.AlbedoMapB.MetallicMapC.RoughnessMapD.NormalMap4.模型拓?fù)湓O(shè)計(jì)時(shí)，以下哪些原則需要遵循？（）A.四邊面為主B.避免三角面交叉C.保持邊流（Flow）均勻D.盡量減少網(wǎng)格孔洞5.UV展開時(shí)，以下哪些情況會(huì)導(dǎo)致貼圖變形？（）A.UV接縫在高光區(qū)域B.UV拉伸超過100%C.UV重疊（Overlap）嚴(yán)重D.UV分布不均勻6.游戲引擎中，以下哪些貼圖可以模擬表面細(xì)節(jié)？（）A.NormalMapB.BumpMapC.DisplacementMapD.AmbientOcclusionMap7.三維模型雕刻時(shí)，以下哪些工具常用？（）A.ClayBuildupB.DamStandardC.PolypaintD.ZRemover8.模型烘焙時(shí)，以下哪些參數(shù)會(huì)影響烘焙質(zhì)量？（）A.ResolutionB.QualityC.LightmapResolutionD.BakedMapFormat9.游戲模型設(shè)計(jì)時(shí)，以下哪些因素需要考慮？（）A.視覺風(fēng)格B.動(dòng)畫需求C.面數(shù)限制D.貼圖分辨率10.高模轉(zhuǎn)低模時(shí)，以下哪些方法常用？（）A.RetopologyB.DisplacementMapC.ZBrushDecimationD.MayaQuadDraw四、案例分析（每題6分，共18分）案例1：某游戲項(xiàng)目需要設(shè)計(jì)一把古代劍，要求高精度模型（高模）用于展示，低精度模型（低模）用于游戲運(yùn)行。請(qǐng)回答以下問題：（1）高模和低模的設(shè)計(jì)要點(diǎn)有何不同？（2）如何通過烘焙貼圖實(shí)現(xiàn)高模細(xì)節(jié)到低模的過渡？（3）在ZBrush中，如何高效完成高模雕刻和低模拓?fù)?？案?：某游戲場(chǎng)景需要設(shè)計(jì)一座古代城堡，模型面數(shù)需控制在10萬以內(nèi)，同時(shí)要求表面細(xì)節(jié)豐富。請(qǐng)回答以下問題：（1）如何優(yōu)化城堡模型的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)？（2）哪些貼圖技術(shù)可以增加模型細(xì)節(jié)？（3）在游戲引擎中，如何設(shè)置LOD（LevelofDetail）以提高性能？案例3：某游戲角色需要使用PBR材質(zhì)，材質(zhì)要求金屬質(zhì)感且表面粗糙。請(qǐng)回答以下問題：（1）PBR材質(zhì)的貼圖有哪些種類？（2）如何通過貼圖調(diào)整金屬的粗糙度？（3）在游戲引擎中，如何設(shè)置光照貼圖（Lightmap）以避免陰影過暗？五、論述題（每題11分，共22分）論述1：論述三維模型拓?fù)湓O(shè)計(jì)的重要性，并說明如何設(shè)計(jì)高效且適合動(dòng)畫的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)。論述2：結(jié)合實(shí)際案例，說明PBR材質(zhì)在游戲中的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)，并分析如何通過貼圖技術(shù)優(yōu)化模型表現(xiàn)。---標(biāo)準(zhǔn)答案及解析一、判斷題1.×（UV展開直接影響貼圖質(zhì)量，且與模型拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)密切相關(guān)）2.×（高模需烘焙成低模貼圖才能用于游戲）3.√4.√5.√6.×（硬表面模型常用多邊形建模）7.√8.√9.√10.×（光照貼圖無法替代實(shí)時(shí)光照，僅用于靜態(tài)場(chǎng)景）二、單選題1.C（ZBrush專為高精度雕刻設(shè)計(jì)）2.B（三角面需優(yōu)化，四邊面為主結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定）3.A（Dynamesh可實(shí)時(shí)調(diào)整細(xì)分級(jí)別）4.B（法線貼圖模擬表面細(xì)節(jié)）5.B（Roughness控制表面粗糙度）6.C（網(wǎng)格孔洞影響動(dòng)畫）7.B（Metallic控制金屬屬性）8.C（UV接縫在高光區(qū)域會(huì)導(dǎo)致拉伸）9.C（DisplacementMap模擬凹凸效果）10.C（LowQuality設(shè)置會(huì)導(dǎo)致烘焙質(zhì)量差）三、多選題1.AB（Dynamesh和ZModeler用于雕刻）2.ABC（減少面數(shù)、LOD技術(shù)、優(yōu)化UV）3.ABCD（Albedo、Metallic、Roughness、Normal）4.ABCD（四邊面、避免交叉、邊流均勻、減少孔洞）5.ABC（接縫高光、拉伸過度、重疊嚴(yán)重）6.ABCD（Normal、Bump、Displacement、AmbientOcclusion）7.ABCD（ClayBuildup、DamStandard、Polypaint、ZRemover）8.ABCD（Resolution、Quality、LightmapResolution、Format）9.ABCD（風(fēng)格、動(dòng)畫、面數(shù)、分辨率）10.ABC（Retopology、Displacement、ZBrushDecimation）四、案例分析案例1：（1）高模需精細(xì)雕刻細(xì)節(jié)，低模需優(yōu)化拓?fù)湟詼p少面數(shù)。（2）通過烘焙法線貼圖、置換貼圖實(shí)現(xiàn)細(xì)節(jié)過渡。（3）高模用ZBrush雕刻，低模用Retopology工具或MayaQuadDraw。案例2：（1）拓?fù)湫杷倪吤鏋橹?，避免三角面交叉，邊流均勻。?）法線貼圖、置換貼圖、AO貼圖增加細(xì)節(jié)。（3）設(shè)置LOD分級(jí)模型，烘焙光照貼圖避免陰影過暗。案例3：（1）PBR貼圖包括Albedo、Metallic、Roughness、Normal等。（2）通過Roughness貼圖調(diào)整金屬粗糙度。（3）烘焙光照貼圖時(shí)設(shè)置高Resolution和Quality。五、論述題論述1：三維模型拓?fù)湓O(shè)計(jì)的重要性體現(xiàn)在：1.影響模型動(dòng)畫性能（四邊面結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定）2.決定貼圖質(zhì)量（UV展開需合理）3.優(yōu)化模型面數(shù)（減少冗余面）高效拓?fù)湓O(shè)計(jì)需遵循：-四邊面為主，避免三角面交叉-邊流均勻，減少