-1-上海電機(jī)學(xué)院畢業(yè)設(shè)計(jì)任務(wù)書課題4.4米環(huán)拋機(jī)工件環(huán)上下料系統(tǒng)的設(shè)計(jì)專業(yè)機(jī)械電子工程年級(jí)姓名學(xué)號(hào)指導(dǎo)教師（簽字）學(xué)院（系）院長(zhǎng)（簽字）年月日-2-課題來(lái)源國(guó)家級(jí)省部級(jí)教師科研企業(yè)項(xiàng)目自選項(xiàng)目課題的目的、意義目的：為了滿足大型光學(xué)系統(tǒng)對(duì)大口徑高精度平面光學(xué)元部件的需要，環(huán)行拋光技術(shù)越來(lái)越廣泛地應(yīng)用到實(shí)際光學(xué)元部件的生產(chǎn)中。采用環(huán)行拋光技術(shù)加工的光學(xué)元部件可以獲得較高的面形精度。傳統(tǒng)的但校正盤和工件的調(diào)整比較煩瑣，在調(diào)整過(guò)程中臟東西容易掉在拋光膠盤上，使被加工件出現(xiàn)劃痕。在光學(xué)加工中尤其是精拋光時(shí)最忌諱被加工件出現(xiàn)劃痕，這將直接影響加工質(zhì)量、效率及產(chǎn)品的成品率。該大型環(huán)拋機(jī)采用大型機(jī)械臂上下和調(diào)整校正盤，避免了傳統(tǒng)橫梁支撐結(jié)構(gòu)的缺點(diǎn)。意義：1m、2m、2.5m的環(huán)形平面拋光機(jī),技術(shù)已經(jīng)比較成熟，以上設(shè)備主要加工800mm以內(nèi)平面光學(xué)元件，800mm以上的光學(xué)元部件目前國(guó)內(nèi)還不能加工，該課題設(shè)計(jì)的大型環(huán)拋機(jī)直徑為4.4m，能夠加工1600mm以內(nèi)的平面光學(xué)元件，大大提高了國(guó)內(nèi)可加工的光學(xué)元件的尺寸。要求課題的主要技術(shù)要求：1、環(huán)拋機(jī)蠟盤直徑4.4m，高度1.5m，蠟盤轉(zhuǎn)速04r/min；2、工件環(huán)內(nèi)徑1.8m，外徑2m，材質(zhì)大理石，工件環(huán)轉(zhuǎn)速08r/min；3、上下料機(jī)械臂旋轉(zhuǎn)角度0-120；4、上下料小車高度1.5m。5、完成工件的半自動(dòng)上下料工作。課題工作量要求：1、機(jī)器總裝配圖、部件裝配圖不少于A02張，1張電氣控制圖；2、設(shè)計(jì)說(shuō)明書1份，設(shè)計(jì)說(shuō)明書2萬(wàn)字以上，分析、計(jì)算準(zhǔn)確詳盡，格式符合“畢業(yè)設(shè)計(jì)撰寫規(guī)范”；3、參考文獻(xiàn)（不包括教科書）15篇以上，含一篇外文文獻(xiàn)并譯成中文（3千字）。課題主要內(nèi)容及進(jìn)度2012.11.30-2012.12.31：查找文獻(xiàn)、翻譯英文文獻(xiàn)，了解技術(shù)的國(guó)內(nèi)外現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢(shì)并閱讀相關(guān)資料；2013.01.01-2013.01.31：完成4.4米環(huán)拋機(jī)工件環(huán)上下料系統(tǒng)的設(shè)計(jì)的設(shè)計(jì)，根據(jù)要求提出設(shè)計(jì)方案，完成開(kāi)題；2013.02.01-2013.02.28：力分析、主要傳動(dòng)參數(shù)確定、總體結(jié)構(gòu)的初步確定，完成三維造型的設(shè)計(jì)、完成各部件參數(shù)的計(jì)算；2013.03.01-2013.04.30完成機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)，繪制裝配、零件圖，完成電氣控制圖的設(shè)計(jì)；2013.05.01-2013.05