1、1、掃描概述當(dāng)使用“掃描”工具創(chuàng)建掃描時(shí)，可以創(chuàng)建實(shí)體或曲面特征?？稍谘匾粋€(gè)或多個(gè)選定軌跡掃描截面時(shí)通過控制截面的方向、旋轉(zhuǎn)和幾何來添加或移除材料?？墒褂煤愣ń孛婊蚩勺兘孛鎰?chuàng)建掃描。掃描工具的主元件是截面軌跡。草繪截面定位于附加至原點(diǎn)軌跡的框架上，并沿軌跡長(zhǎng)度方向移動(dòng)以創(chuàng)建幾何。原點(diǎn)軌跡以及其他軌跡和其他參考 (如平面、軸、邊或坐標(biāo)系的軸) 定義截面沿掃描的方向。創(chuàng)建掃描時(shí)，根據(jù)所選軌跡數(shù)量，掃描截面類型會(huì)自動(dòng)設(shè)置為恒定或可變。單一軌跡設(shè)置恒定掃描，多個(gè)軌跡設(shè)置為可變截面掃描。如果向掃描特征添加或從中移除軌跡，掃描類型會(huì)相應(yīng)調(diào)整。但是，可以覆蓋默認(rèn)設(shè)置，也可以通過單擊 或 手動(dòng)設(shè)置掃描類型。

2、“恒定截面”(constant section) - 在沿軌跡掃描的過程中，草繪的形狀不變。僅截面所在框架的方向發(fā)生變化?！翱勺兘孛妗?variable section) - 將草繪圖元約束到其他軌跡 (中心平面或現(xiàn)有幾何)，或使用由 trajpar 參數(shù)設(shè)置的截面關(guān)系來使草繪可變。草繪所約束到的參考可更改截面形狀。另外，以關(guān)系 (由 trajpar 設(shè)置) 定義標(biāo)注形式也能使草繪可變。草繪在軌跡點(diǎn)處重新生成，并相應(yīng)更新其形狀。2、掃描特征用戶界面單擊“模型”(Model) “掃描” (Sweep)?！皰呙琛?Sweep) 選項(xiàng)卡隨即打開。3、創(chuàng)建掃描特征的一般過程單擊“模型”(Mo

3、del) “掃描” (Sweep)?！皰呙琛?Sweep) 選項(xiàng)卡隨即打開。3.2要選擇一條或多條軌跡，單擊“參考”(References) 選項(xiàng)卡，單擊“軌跡”(Trajectories) 收集器，然后選擇現(xiàn)有曲線鏈或邊鏈。按住 CTRL 鍵以選擇多個(gè)軌跡。按住 SHIFT 鍵以選擇形成鏈的多個(gè)圖元。如果需要，請(qǐng)單擊“細(xì)節(jié)”(Details) 打開“鏈”(Chain) 對(duì)話框來選擇軌跡段。選擇的第一個(gè)鏈隨即變成原始軌跡。一個(gè)箭頭出現(xiàn)在原始軌跡上，從軌跡的起點(diǎn)指向掃描將要跟隨的路徑。單擊該箭頭，將軌跡的起點(diǎn)更改到軌跡的另一個(gè)端點(diǎn)。要移除軌跡，右鍵單擊并選取“移除”(Remove)。這

4、對(duì)除原點(diǎn)軌跡外的所有軌跡均有效。要移除 x 軌跡或法向軌跡，清除 X 或 N 復(fù)選框以移除屬性，然后移除軌跡。不能替換或移除存在相切參考的軌跡。3.3要更改截面類型，在“掃描”(Sweep) 選項(xiàng)卡上，單擊 創(chuàng)建大小和形狀保持不變的截面，或單擊 創(chuàng)建大小和形狀可以沿掃描變化的截面。除非指定了截面類型，否則開始選擇軌跡時(shí)會(huì)自動(dòng)設(shè)置。如果選擇了一條軌跡，截面類型會(huì)被設(shè)置為恒定。如果選擇了多條軌跡，它會(huì)被設(shè)置為可變。單擊截面類型命令可覆蓋自動(dòng)設(shè)置。3.4單擊 創(chuàng)建實(shí)體掃描，或單擊 創(chuàng)建曲面掃描。3.5要沿著掃描移除材料，可單擊 。單擊 反向從中移除材料的草繪側(cè)。3.6要給出掃描厚度，請(qǐng)單擊 ，然后鍵

5、入或選擇厚度值。使用 在草繪的一側(cè)、另一側(cè)或兩側(cè)之間切換加厚方向。3.7對(duì)于移除材料的曲面掃描，單擊“面組”(Quilts) 收集器，然后選擇要修剪的面組。3.8單擊“參考”(References) 選項(xiàng)卡，然后按下列要求選擇相應(yīng)的項(xiàng)：A、在“截平面控制”(Section plane control) 列表中，選擇一個(gè)選項(xiàng)來確定如何定向截平面 (掃描坐標(biāo)系的 z 方向)：“垂直于軌跡”(Normal To Trajectory)。如果也需要在水平/豎直控制下選擇“自動(dòng)”(Automatic)，可單擊“起點(diǎn)的 X 方向參考”(X direction reference at start) 收集器

6、，并選擇基準(zhǔn)平面或基準(zhǔn)曲線、線性邊或坐標(biāo)系的一個(gè)獨(dú)立軸?！按怪庇谕队啊?Normal To Projection)。單擊“方向參考”(Direction reference) 收集器并選擇用于投影的參考。單擊“反向”(Flip) 反轉(zhuǎn)方向?！昂愣ǚㄏ颉?Constant Normal Direction)。單擊“方向參考”(Direction reference) 收集器并選擇用于投影的參考。如果也需要在水平/豎直控制下選擇“自動(dòng)”(Automatic)，可單擊“起點(diǎn)的 X 方向參考”(X direction reference at start) 收集器，并選擇基準(zhǔn)平面或基準(zhǔn)曲線、線性邊或坐

7、標(biāo)系的一個(gè)獨(dú)立軸。 B、在“水平/豎直控制”(Horizontal/Vertical control) 列表中，選擇一個(gè)選項(xiàng)來確定繞草繪平面法向的框架旋轉(zhuǎn)沿掃描如何定向 (掃描坐標(biāo)系的 xy 軸)：“自動(dòng)”(Automatic) - 截平面由 xy 方向自動(dòng)定向。計(jì)算 x 矢量的方向，以使掃描幾何扭轉(zhuǎn)程度最低。對(duì)于沒有任何參考曲面的原點(diǎn)軌跡，“自動(dòng)”(Automatic) 為默認(rèn)選項(xiàng)?！按怪庇谇妗?Normal to Surface) - 截平面 y 軸垂直于原點(diǎn)軌跡所在的曲面。如果原點(diǎn)軌跡參考為曲面上的曲線、曲面的單側(cè)邊、曲面的雙側(cè)邊或?qū)嶓w邊、由曲面相交創(chuàng)建的曲線或兩條投影曲線，則此為默認(rèn)

8、選項(xiàng)?！癤 軌跡”(X-Trajectory) - 截平面的 x 軸通過指定的 x 軌跡和沿掃描的截平面的交點(diǎn)。3.9要設(shè)置相切：?jiǎn)螕簟跋嗲小?Tangency) 選項(xiàng)卡。在“軌跡”(Trajectories) 框中，從列表中選擇一條軌跡。在“參考”(References) 下，選擇一個(gè)選項(xiàng)將掃描截面設(shè)置為包含一條中心線，該中心線在選定軌跡的“側(cè) 1”(Side 1) 或“側(cè) 2”(Side 2) 與曲面相切，或與“選定”(Selected) 曲面相切。3.10通過選取下列選項(xiàng)之一，創(chuàng)建或檢索沿軌跡掃描的截面：要?jiǎng)?chuàng)建截面，請(qǐng)單擊 打開草繪器。在軌跡起點(diǎn)的十字叉絲處草繪截面，然后單擊 “確定”(

9、OK) 關(guān)閉“草繪器”。檢索用作截面的草繪。3.11單擊“選項(xiàng)”(Options) 選項(xiàng)卡，然后按下列要求選擇選項(xiàng)：要封閉曲面掃描的端點(diǎn)，選擇“封閉端”(Capped ends) 復(fù)選框。要消除掃描端點(diǎn)合并到鄰近實(shí)體處的間隙，選擇“合并端”(Merge ends) 復(fù)選框。要沿軌跡選擇位置來草繪截面，單擊“草繪放置點(diǎn)”(Sketch placement point) 框，然后單擊原點(diǎn)軌跡上的某點(diǎn)。不影響掃描的起始點(diǎn)。如果“草繪放置點(diǎn)”(Sketch placement point) 為空，則將掃描的起始點(diǎn)用作草繪截面的默認(rèn)位置。3.12單擊 。4、掃描特征控制詳解掃描特征控制主要為控制截平面的

10、定向，即截平面的X、Y、Z軸的方向。當(dāng)確定了兩個(gè)坐標(biāo)軸的方向后，第三個(gè)坐標(biāo)軸的方向由右手定則確定。拇指，食指和中指，按圖示方向伸出，當(dāng)其中兩個(gè)手指指向空間坐標(biāo)系任意兩個(gè)軸的正方向時(shí)，第三個(gè)手指的方向即是第三個(gè)坐標(biāo)軸的正方向。曲線投影掃描特征控制方式垂直于軌跡自動(dòng)默認(rèn)垂直于軌跡自動(dòng)起始X方向參考開始時(shí)可選擇 x 方向來在所希望的方向上草繪截面。對(duì)于一些軌跡，例如一些直線 (或非草繪線) 不存在固有默認(rèn)方向。因此，開始時(shí)必須選擇一個(gè) x 方向。Creo Parametric 不能自動(dòng)設(shè)置 x 軸初始位置。當(dāng)重新指定起始X方向參考時(shí)，截平面的原X方向會(huì)指向新指定的X參考方向。起始X方向參考可以是基準(zhǔn)

11、平面或基準(zhǔn)曲線、線性邊或坐標(biāo)系的一個(gè)獨(dú)立軸。當(dāng)以基準(zhǔn)平面作為起始X方向參考時(shí)，基準(zhǔn)平面的方向即為X方向。當(dāng)以坐標(biāo)系的一個(gè)獨(dú)立軸作為起始X方向參考時(shí)，坐標(biāo)軸的方向即為X方向。當(dāng)以線性邊或基準(zhǔn)曲線為起始X方向參考時(shí)，線性邊或基準(zhǔn)曲線在截平面上的投影的方向即為X方向。A、以曲線作為X起始方向參考時(shí)，截平面X、Y、Z軸的確定B、以基準(zhǔn)平面作為X起始方向參考時(shí)，截平面X、Y、Z軸的確定C、以坐標(biāo)軸單軸作為X起始方向參考時(shí)，截平面X、Y、Z軸的確定垂直于軌跡X軌跡x 軸正向穿過截平面 (垂直于此點(diǎn)的切線) 與 x 軌跡的交點(diǎn)。垂直于軌跡相切軌跡將軌跡分配為相切軌跡時(shí)，會(huì)向掃描截面的草繪添加一條中心線。此中

12、心線在該軌跡與草繪平面的交點(diǎn)處與相鄰曲面相切。掃描截面時(shí)將保持此相切狀態(tài)。因此，該中心線的角度將根據(jù)截面和相鄰曲面的位置相應(yīng)地進(jìn)行更改。當(dāng)選擇一個(gè)要與此中心線相切的草繪圖元時(shí)，可使生成的掃描幾何與該軌跡的相鄰曲面相切。垂直于軌跡垂直于曲面垂直于投影恒定法向5、掃描特征注意事項(xiàng)原因軌跡與自身相交將截面對(duì)齊或標(biāo)注到固定圖元，但在沿三維軌跡掃描時(shí)，截面定向?qū)l(fā)生變化。相對(duì)于該截面，弧或樣條半徑太小，并且該特征通過該弧與自身相交。選擇的第一條軌跡只能是原點(diǎn)軌跡，原點(diǎn)軌跡只能有且只能有一條。如果軌跡存在一個(gè)或多個(gè)相切曲面， T 復(fù)選框可用除了原點(diǎn)軌跡外的所有其他軌跡，在單擊 X、N 或 T 復(fù)選框前，默認(rèn)情況下都是輔助軌跡。只有一個(gè)軌跡可以是 x 軌跡。只有一個(gè)軌跡可以是法向軌跡。同一軌跡可同時(shí)為法向和 x 軌跡。任何具有相鄰曲面的軌跡都可以是相切軌跡。不能移除原點(diǎn)軌跡。但可以替換原點(diǎn)軌跡。6、使用Traj