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RCA培R&DAprilPAGEPAGE8RENA酸制擴RENA酸制擴SP-燒RIE制從相圖分析際實驗中，我們也發(fā)現醋酸稀釋的藥液相對baseline相同時間刻蝕量要穩(wěn)定。因此選擇HNO3K3F含量有偏高趨勢，與廠商一起檢查0#槽，在循環(huán)管 有不耐HN3的一般硅膠密封墊片，廠商已聯系原廠寄耐HNO的氟硅膠墊片,(實驗測試氟硅膠墊片泡在HNO沒有發(fā)現腐蝕現象，一般硅膠浸泡h有發(fā)現腐蝕現象)。測試溶有硅膠的HNO3溶液，與我們正常的HNO3溶液相比，Ca/Fe/Zn/Mg嚴重劣化，與硅片面金屬含量一致，證明目前我們使用的一般硅膠的Fe離子，需更換更好材質的墊片目前驗證下來，刻蝕不均勻主要受流量影響很大，有酸流動的區(qū)域刻蝕速率較流速小的區(qū)域要快，如果藥液活性較弱且需較長刻蝕時間這種不均勻現特別明顯，要達到刻蝕重量在10-15mg幾乎50%的片子都是這種缺陷，改善這種缺陷主要2個動作:1.減少流量刻蝕時不做往返動作HF濃度太高也容易導致刻蝕不均勻，實際試驗中發(fā)現兩次HFHNO<1就有刻蝕不均勻現象，改善方法降低HF濃度，提高HNO濃度。目前也反射率的均勻性。1.中途補液量的確定，目前有一個初始的補液量，

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