標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 2831-1981 光學(xué)零件的面形偏差 檢驗(yàn)方法(光圈識(shí)別)》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，該標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用光圈法檢測(cè)光學(xué)零件表面形狀偏差的具體步驟和技術(shù)要求。標(biāo)準(zhǔn)中定義了術(shù)語“光圈”，指的是在特定條件下通過觀察或測(cè)量干涉條紋來評(píng)估光學(xué)元件表面質(zhì)量的一種方法。它適用于平面、球面以及非球面等不同類型的光學(xué)表面。

根據(jù)這一標(biāo)準(zhǔn)，檢驗(yàn)過程主要包括以下幾個(gè)方面：

  • 準(zhǔn)備工作：選擇合適的光源和參考面，并確保測(cè)試環(huán)境滿足要求。
  • 安裝與調(diào)整：將待測(cè)光學(xué)零件固定于適當(dāng)位置，并調(diào)整至最佳狀態(tài)以便進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量。
  • 光圈識(shí)別：利用干涉現(xiàn)象形成光圈圖案，通過肉眼觀察或者借助儀器記錄下這些圖案。
  • 數(shù)據(jù)記錄與處理：對(duì)獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行記錄，并按照規(guī)定的方法進(jìn)行分析計(jì)算，以確定被測(cè)表面的實(shí)際偏差值是否符合預(yù)設(shè)的技術(shù)指標(biāo)。


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  • 1981-12-25 頒布
  • 1982-10-01 實(shí)施
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GB/T 2831-1981光學(xué)零件的面形偏差檢驗(yàn)方法(光圈識(shí)別)_第1頁
GB/T 2831-1981光學(xué)零件的面形偏差檢驗(yàn)方法(光圈識(shí)別)_第2頁
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文檔簡(jiǎn)介

UDC681.4.084:621.753.1中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB2831－81光學(xué)零件的面形偏差檢驗(yàn)方法光圈識(shí)別)Surfaceformdeyationofopticalelements-Inspectionmethods1981-12-25發(fā)布1982-10-01實(shí)施家標(biāo)準(zhǔn)·總局國(guó)批準(zhǔn)

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)UDC：681.4.084光學(xué)零件的面形偏差檢驗(yàn)方法：621.753.1GB2831一81（光圈識(shí)別Surfaceformdeviationofopticalelements-Inspectionmethods本標(biāo)準(zhǔn)適用于以等厚光波干涉原理檢驗(yàn)球面（包括平面）光學(xué)零部件的面形偏差。名詞術(shù)語、符號(hào)、代號(hào)1.1面形偏差被被檢光學(xué)表面相對(duì)于參考光學(xué)表面的偏差稱面形偏差面形偏差是在圓形檢驗(yàn)范圍內(nèi)，通過垂直位置所觀察到的干涉條紋（通稱光圈）的數(shù)目、形狀、變化和顏色來確定的。面形偏差包括下列三項(xiàng)：被被檢光學(xué)表面的曲率半徑相對(duì)于參考光學(xué)表面曲率半徑的偏差稱半徑偏差。此偏差所對(duì)應(yīng)的光圈數(shù)用M表示。。被檢光學(xué)表面與參考光學(xué)表面在二個(gè)相互垂直方向上產(chǎn)生的光圈數(shù)不等所對(duì)應(yīng)的偏差稱象散偏差，此偏差所對(duì)應(yīng)的光圈數(shù)用I表示。。被檢光學(xué)表面與參考光學(xué)表面在任一方向上產(chǎn)生的干涉條紋的局部不規(guī)則程度稱局部偏差，此偏差所對(duì)應(yīng)的光圈數(shù)用八表示。1.2光圈正負(fù)號(hào)規(guī)定：高光圈（凸）為正（相應(yīng)于中間接觸）；低光圈（凹）為負(fù)（相應(yīng)于邊緣接觸）。：高低光圈的識(shí)別22.1一般情況下高低光圈的識(shí)別低光圈：當(dāng)空氣隙縮小時(shí)，條紋從邊緣向中心移動(dòng)如圖1“。高光圈：：當(dāng)空氣隙縮小時(shí)，條紋從中心向邊緣移

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