標(biāo)準(zhǔn)解讀
GB/T 33236-2016《多晶硅 痕量元素化學(xué)分析 輝光放電質(zhì)譜法》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),主要規(guī)定了使用輝光放電質(zhì)譜(Glow Discharge Mass Spectrometry, GDMS)技術(shù)測(cè)定多晶硅材料中痕量雜質(zhì)元素的方法。該標(biāo)準(zhǔn)適用于太陽(yáng)能級(jí)及電子級(jí)多晶硅中多種痕量元素的定量分析,這些元素包括但不限于鋰、鈉、鎂、鋁等輕金屬以及鐵、鎳、鉻等重金屬。
標(biāo)準(zhǔn)首先定義了適用范圍,并概述了方法原理:通過(guò)將樣品置于特定條件下激發(fā)產(chǎn)生輝光放電,然后利用質(zhì)譜儀檢測(cè)由此產(chǎn)生的離子流來(lái)確定樣品中的元素組成及其濃度。接下來(lái)詳細(xì)描述了所需儀器設(shè)備的要求,如GDMS系統(tǒng)的配置、工作參數(shù)設(shè)置等;還列舉了實(shí)驗(yàn)過(guò)程中可能用到的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)與試劑規(guī)格,強(qiáng)調(diào)了選擇高純度材料的重要性以減少背景干擾。
在操作步驟部分,GB/T 33236-2016給出了從樣品制備到數(shù)據(jù)分析的具體指導(dǎo),包括如何正確地裝載樣品、設(shè)定合理的測(cè)量條件以及數(shù)據(jù)處理方法等內(nèi)容。此外,對(duì)于不同類型的多晶硅產(chǎn)品,標(biāo)準(zhǔn)也提供了相應(yīng)的推薦測(cè)試條件,確保結(jié)果準(zhǔn)確可靠。
關(guān)于結(jié)果表示與質(zhì)量控制方面,文件明確了報(bào)告格式要求,建議采用適當(dāng)?shù)膯挝槐磉_(dá)檢測(cè)值,并且指出應(yīng)定期進(jìn)行校準(zhǔn)和比對(duì)實(shí)驗(yàn),保證分析過(guò)程的有效性。同時(shí),針對(duì)可能出現(xiàn)的問(wèn)題或異常情況,給出了一些建議措施,幫助實(shí)驗(yàn)室提高測(cè)試精度。
最后,附錄部分補(bǔ)充了一些輔助信息,比如典型元素的靈敏度曲線圖例、常見(jiàn)基體效應(yīng)校正因子表等,為實(shí)際應(yīng)用提供更多參考依據(jù)。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2016-12-13 頒布
- 2017-11-01 實(shí)施
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GB/T 33236-2016多晶硅痕量元素化學(xué)分析輝光放電質(zhì)譜法-免費(fèi)下載試讀頁(yè)文檔簡(jiǎn)介
ICS7104040
G04..
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T33236—2016
多晶硅痕量元素化學(xué)分析
輝光放電質(zhì)譜法
Polycrystallinesilicon—Determinationoftraceelements—
Glowdischargemassspectrometrymethod
2016-12-13發(fā)布2017-11-01實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T33236—2016
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口
(SAC/TC38)。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所
:。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人卓尚軍錢榮董疆麗申如香盛成高捷鄭文平
:、、、、、、。
Ⅰ
GB/T33236—2016
多晶硅痕量元素化學(xué)分析
輝光放電質(zhì)譜法
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用輝光放電質(zhì)譜法測(cè)量多晶硅中雜質(zhì)元素的測(cè)試方法
(GD-MS)。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于多晶硅材料中除氫和惰性氣體元素以外的其他雜質(zhì)元素含量的測(cè)定測(cè)量范圍是本
,
方法的檢出限至質(zhì)量分?jǐn)?shù)檢出限根據(jù)所用儀器及測(cè)量條件確定通過(guò)合適的標(biāo)準(zhǔn)樣品校正
0.1%(),。,
也可以測(cè)量質(zhì)量分?jǐn)?shù)大于的雜質(zhì)元素含量單晶硅材料中痕量雜質(zhì)元素也可參照本標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量
0.1%。。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
分析實(shí)驗(yàn)室用水規(guī)格和試驗(yàn)方法
GB/T6682
表面化學(xué)分析輝光放電質(zhì)譜使用介紹
ISO/TS15338:2009(Surfacechemicalanalysis—
Glowdischargemassspectrometry(GD-MS)—Introductiontouse)
3術(shù)語(yǔ)和定義
下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件
。
31
.
離子強(qiáng)度ionintensity
儀器記錄到的指定元素的離子流總量
。
32
.
針狀試樣pinsample
橫截面為圓形或方形的針狀棒狀或線狀試樣通常長(zhǎng)度為截面的直徑圓形或?qū)蔷€
、,20mm、()
方形不超過(guò)
()10mm。
33
.
片狀試樣flatsample
薄片狀或塊狀試樣通常為圓形或方形并至少有一面是光滑的光滑面能形成直徑大于的
,,,10mm
圓形測(cè)量面
。
34
.
針狀放電池pincell
用于分析針狀試樣的樣品池
。
35
.
溫馨提示
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