標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 5252-1985 鍺單晶位錯(cuò)腐蝕坑密度測(cè)量方法》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),主要規(guī)定了鍺單晶材料中位錯(cuò)腐蝕坑密度的測(cè)定方法。該標(biāo)準(zhǔn)適用于通過(guò)化學(xué)腐蝕手段,在特定條件下于鍺單晶表面形成與位錯(cuò)相關(guān)的蝕刻坑,并據(jù)此來(lái)計(jì)算單位面積上位錯(cuò)的數(shù)量。
根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容,首先需要準(zhǔn)備一定尺寸和形狀的鍺單晶樣品,然后采用適當(dāng)?shù)那逑磩┤コ砻嫖廴疚铩=酉聛?lái),將處理好的樣品放入預(yù)先配制好的腐蝕液中進(jìn)行腐蝕處理。腐蝕液的選擇及其濃度、溫度等條件對(duì)于正確顯示位錯(cuò)至關(guān)重要。完成腐蝕后,需使用顯微鏡觀察樣品表面形成的蝕刻坑形態(tài)特征,并統(tǒng)計(jì)單位面積內(nèi)的蝕刻坑數(shù)量。最后,基于所獲得的數(shù)據(jù),可以計(jì)算出鍺單晶中的位錯(cuò)密度。
此過(guò)程中需要注意的是,實(shí)驗(yàn)操作時(shí)應(yīng)嚴(yán)格控制各種參數(shù)如時(shí)間、溫度以及溶液成分等,以確保結(jié)果準(zhǔn)確可靠。此外,還應(yīng)對(duì)儀器設(shè)備定期校準(zhǔn)維護(hù),保證測(cè)量精度。通過(guò)遵循本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的步驟執(zhí)行測(cè)試,能夠有效評(píng)估鍺單晶材料內(nèi)部缺陷情況,為后續(xù)應(yīng)用提供重要參考依據(jù)。
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- 被代替
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- 1985-07-22 頒布
- 1986-07-01 實(shí)施
文檔簡(jiǎn)介
UDC669.783621.315.592620.193中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB5252—85錯(cuò)單晶位錯(cuò)腐蝕坑密度測(cè)量方法Germaniummonocrystal-Inspectionofdislocationetchpitdensity1985-07-22發(fā)布1986-07-01實(shí)施:標(biāo)國(guó)家批準(zhǔn)
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)UDC669.783:621.315.592錯(cuò)單晶位錯(cuò)腐蝕坑密度:620.193GB5252-85測(cè)量方法Germaniummonocrystal-nspectlonordislocationetchpitdenslty本標(biāo)準(zhǔn)適用于位錯(cuò)密度0~100.000cm~的N型和P型鉻單晶棒或片的位錯(cuò)密度或其他缺陷的測(cè)量。觀察面為(111)、(100)和(113)面。1定義1.1位錯(cuò)單晶中,部分原子受應(yīng)力的作用產(chǎn)生滑移。已滑移部分與未滑移部分的分界線為位錯(cuò)線,簡(jiǎn)稱位錯(cuò)。1.2位錯(cuò)密度單單位體積內(nèi)位錯(cuò)線的總長(zhǎng)度稱為位錯(cuò)密度(cm/cm')。本標(biāo)準(zhǔn)指單位表面上位錯(cuò)腹蝕坑的數(shù)目(個(gè)/cm)。1.3位錯(cuò)堆某區(qū)域的位錯(cuò)密度高于該斷面其他區(qū)域的平均位錯(cuò)密度五倍以上,且其面積大于視場(chǎng)面積五倍以上,則稱此區(qū)域?yàn)槲诲e(cuò)堆(圖1)。1.4平底坑,這里稱平底坑。單晶經(jīng)化學(xué)腐蝕后,除位錯(cuò)腐蝕坑外,還有一些淺坑,它可能是由于空位或晶體的夾雜(如SiO.)等因素所致(圖2)。1.5小角度晶界單晶中取向差很小的小晶粒的交界面稱為小角度晶界。要求1mm長(zhǎng)度內(nèi)位錯(cuò)腐蝕坑在15個(gè)以上,且長(zhǎng)度在1.5mm以上。(1I1)面上的位錯(cuò)腐蝕坑呈現(xiàn)一系列以角頂著底邊的排列形式(圖3)。1.6滑移線(位錯(cuò)排)由于沿著滑移面滑移,在晶體表面形成的線稱滑移線或位錯(cuò)排。要求1mm長(zhǎng)度內(nèi)位錯(cuò)腐蝕坑在15個(gè)以上,且長(zhǎng)度在1.5mm以上。(111)面的滑移線,位錯(cuò)腐蝕坑按(110〉方向排列成行,每一腐蝕坑的底邊都在同一條直線上(圖4)。1.7星形結(jié)構(gòu)由許多位錯(cuò)腐蝕坑在宏觀上排列成三角形或六角形的星形結(jié)構(gòu)(圖5)。1.8夾雜晶體中存在異質(zhì)顆粒。2原理采用擇優(yōu)化學(xué)腐蝕法顯示位錯(cuò)腐蝕坑,其原理是基于位錯(cuò)周?chē)木Ц癜l(fā)生畸變,在晶體表面的露頭處,對(duì)某些化學(xué)腐蝕劑反應(yīng)速度較快,結(jié)果形成具有某種特定形狀的腐蝕坑。于是用單位面積上
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