我國半導(dǎo)體清洗（WET-clean）設(shè)備市場(chǎng)現(xiàn)狀分析

在集成電路制造工序中，如成膜、CMP和刻蝕等工序前后，晶圓表面存在上一道工序所遺留的超微細(xì)顆粒物、金屬殘留、有機(jī)物殘留，這些顆?；驓埩粑飼?huì)影響芯片最終的良率。因此對(duì)于這些顆?；蛘邭埩粑锏那逑淳妥兊帽夭豢缮?，而且隨著柵極尺寸的不斷縮減，對(duì)于雜質(zhì)或缺陷的要求愈來愈高，對(duì)于清洗工藝就提出了進(jìn)一步的挑戰(zhàn)。我們估算16nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)工藝步驟約1000步，7nm技術(shù)將超過1500步。每經(jīng)過一道芯片制造工藝，晶圓表面或多或少會(huì)被污染，因此幾乎所有制程之前或后都需要清洗，清洗工藝約占所有步驟的30%。清洗工藝不僅需要超強(qiáng)去污，而且不能對(duì)晶片表面的精細(xì)圖形結(jié)構(gòu)造成損傷，因此半導(dǎo)體清洗設(shè)備也有較高的行業(yè)進(jìn)入壁壘。隨著設(shè)備尺寸縮小到16nm以下，制程復(fù)雜性會(huì)進(jìn)一步提升，清洗步驟數(shù)量會(huì)不斷大幅度增長，清洗工藝的重要性大幅提升。半導(dǎo)體清洗工藝的分類及用途清洗工藝用途預(yù)擴(kuò)散清洗創(chuàng)建一個(gè)沒有微粒，金屬和有機(jī)污染物的表面。粒子清除清洗使用化學(xué)或機(jī)械洗滌如Megasonic從表面除去顆粒金屬粒子清洗消除對(duì)器件性能有不利影響的金屬離子后刻蝕清洗去除光刻膠和聚合物、去除固體殘余物，RIE工藝期間形成的“蝕刻聚合物”薄膜清除清洗氧化物蝕刻/剝離，氮化物蝕刻/剝離，硅蝕刻和金屬蝕刻/剝離資料來源：公開資料整理，立鼎產(chǎn)業(yè)研究中心清洗設(shè)備占整個(gè)設(shè)備投資比例約為5%，全球半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)的前三名廠商是LamResearch、Tel和SCREENHoldings(DNS)，2015年這三個(gè)公司占據(jù)87.7%的市場(chǎng)份額。根據(jù)Gartner數(shù)據(jù)，國內(nèi)市場(chǎng)目前國產(chǎn)設(shè)備占比約為13%，預(yù)計(jì)在2020年能達(dá)到20%左右。我們估算2018-2020年國內(nèi)晶圓廠建設(shè)對(duì)應(yīng)的清洗設(shè)備市場(chǎng)空間分別為15、16、17億元，而國產(chǎn)設(shè)備的市場(chǎng)空間分別為2.2、2.8、3.4億元。我國晶圓廠WET設(shè)備市場(chǎng)及國產(chǎn)化市場(chǎng)占比資料來源：公開資料整理，立鼎產(chǎn)業(yè)研究中心北方華創(chuàng)（立鼎產(chǎn)業(yè)研究中心，）的清洗機(jī)產(chǎn)品經(jīng)過數(shù)年的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化，12英寸單片清洗機(jī)產(chǎn)品已應(yīng)用于集成電路芯片制程中的預(yù)清洗、再生清洗、銅互連后清洗和鋁墊清洗等工藝。北方華創(chuàng)可提供多種類型的單片清洗設(shè)備和槽式清洗設(shè)備，已廣泛應(yīng)用于集成電路、半導(dǎo)體照明、先進(jìn)封裝、微機(jī)電系統(tǒng)、電力電子、化合物和功率器件等領(lǐng)域。其中為了應(yīng)用IC制造中銅互連清洗工藝，北方華創(chuàng)自主研發(fā)了新一代Saqua系列單片清洗機(jī)，該產(chǎn)品是繼90nm、65/55nm產(chǎn)品后的又一次升級(jí)，新設(shè)備能完全滿足集成電路代工廠28nm技術(shù)代的生產(chǎn)工藝要求。同時(shí)，Saqua系列單片清洗機(jī)兼具通孔/溝槽刻蝕后清洗、襯墊去除后的清洗等多種工藝，支持多任務(wù)并行處理，可最大程度提高產(chǎn)能。Saqua系列清洗機(jī)立足于全新的模塊化設(shè)計(jì)理念，先后通過了65nm、55nm、40nm等工藝驗(yàn)證，各類工藝指標(biāo)表現(xiàn)優(yōu)異，全面滿足集成電路銅制程清洗工藝的要求，達(dá)到國際同類型產(chǎn)品同等技術(shù)水平。Saqua清洗機(jī)系列產(chǎn)品資料來源：公開資料整理，立鼎產(chǎn)業(yè)研究中心——2016年12月，Saqua系列12英寸清洗機(jī)在中芯國際完成52萬片生產(chǎn)線流片，創(chuàng)造了國產(chǎn)12英寸集成電路清洗設(shè)備流片量紀(jì)錄，設(shè)備的工藝性能及可靠性獲得用戶肯定?！?017年2月，北方華創(chuàng)Saqua系列12英寸單片銅互連清洗機(jī)獲得客戶二次訂單，進(jìn)入中芯國際B2芯片生產(chǎn)線，標(biāo)志著公司又一款28納米工藝制程設(shè)備獲得市場(chǎng)認(rèn)可?！?017年7月，北方華創(chuàng)Saqua系列單片清洗機(jī)正式進(jìn)駐中芯北方集