光彈性實(shí)驗(yàn)方法的基本原理第1頁(yè)/共36頁(yè)一、光波a——振幅——圓頻率——頻率——速度——波長(zhǎng)§3.1光學(xué)基本知識(shí)——橫波第2頁(yè)/共36頁(yè)一、光波a§3.1光學(xué)基本知識(shí)白光是紅、橙、黃、綠、青、藍(lán)、紫七種可見(jiàn)光的混合?？梢?jiàn)光的波長(zhǎng)在400～800nm內(nèi)變化。光彈性實(shí)驗(yàn)常用光源有白光，汞光和鈉光等第3頁(yè)/共36頁(yè)二、自然光和偏振光平面偏振光平面偏振光圓偏振光橢圓偏振光§3.1光學(xué)基本知識(shí)第4頁(yè)/共36頁(yè)三、光的干涉現(xiàn)象§3.1光學(xué)基本知識(shí)波列1波列2合成兩束或多束光產(chǎn)生干涉的條件：①頻率相同(由同一光源發(fā)出)②振動(dòng)方向一致③位相差恒定

第5頁(yè)/共36頁(yè)四、雙折射§3.1光學(xué)基本知識(shí)入射光折射光反射光各向同性介質(zhì)中各向異性介質(zhì)中這兩束光都是平面的偏振光雙折射第6頁(yè)/共36頁(yè)四、雙折射§3.1光學(xué)基本知識(shí)oeoe一束光遵循折射定律，叫尋常光（o光）另一束光不遵循折律，為非常光（e光）o光的傳播速度在各個(gè)方向上都相同，e光的傳播速度則隨傳播方向的變化而變化兩束光的光矢量的振動(dòng)方向相垂直晶體中有的方向不發(fā)生雙折射，即當(dāng)一束光沿此方向射入晶體時(shí)，射出的光束仍為一束光，此方向稱(chēng)為光軸只有一個(gè)光軸的晶體稱(chēng)為單晶體（方解石，石英），有兩個(gè)光軸的晶體稱(chēng)為雙晶體（云母）第7頁(yè)/共36頁(yè)四、雙折射光軸eo§3.1光學(xué)基本知識(shí)第8頁(yè)/共36頁(yè)四、雙折射§3.1光學(xué)基本知識(shí)

有些各向同性的非晶體材料，例如環(huán)氧樹(shù)脂、有機(jī)玻璃、聚碳酸酯等，雖然在自然狀態(tài)下不會(huì)產(chǎn)生雙折射，但是當(dāng)其受到載荷作用而產(chǎn)生應(yīng)力時(shí)，就會(huì)象晶體一樣表現(xiàn)出光學(xué)各向異性，產(chǎn)生雙折射現(xiàn)象。去掉載荷后，雙折射現(xiàn)象隨即消失，這種現(xiàn)象稱(chēng)為暫時(shí)雙折射或人工雙折射。光彈性方法就是利用了這種暫時(shí)雙折射效應(yīng)。第9頁(yè)/共36頁(yè)五、偏振片和1/4波片偏振片o光e光1/4波片§3.1光學(xué)基本知識(shí)第10頁(yè)/共36頁(yè)§3.2光彈性實(shí)驗(yàn)裝置第3章光彈性方法的基本原理第11頁(yè)/共36頁(yè)LL1L2P1P2Q1Q2ML3SL—光源L1—準(zhǔn)直鏡L2—準(zhǔn)直鏡P1—起偏鏡P2—檢偏鏡Q1—1/4波片Q2—1/4波片M—模型L3—成像系統(tǒng)S—像§3.2光彈性實(shí)驗(yàn)裝置第12頁(yè)/共36頁(yè)LL1L2P1P2Q1Q2ML3S光彈性?xún)x的維護(hù)1.各透鏡表面鍍有增透膜，不得用手摸或擦拭2.Q1、Q2表面只可用汽油擦拭3.L1、L2

、P1

、P2可用酒精或乙醚擦拭4.防霉、防潮、防塵§3.2光彈性實(shí)驗(yàn)裝置第13頁(yè)/共36頁(yè)§3.3

平面應(yīng)力—光學(xué)定律n1—σ1方向折射率n2—σ2方向折射率n0—無(wú)應(yīng)力時(shí)的折射率A、B絕對(duì)應(yīng)力光學(xué)系數(shù)一束平面偏振光通過(guò)平面受力模型內(nèi)任一點(diǎn)時(shí)，它將會(huì)沿主應(yīng)力方向分解為兩束振動(dòng)方向互相垂直的平面偏振光。兩束偏振光在模型中具有不同的傳播速度，其折射率的改變與主應(yīng)力大小成線性關(guān)系，可表示為第14頁(yè)/共36頁(yè)光波速度：σ1方向v1σ2方向v2時(shí)間：—材料的應(yīng)力光學(xué)系數(shù)§3.3

平面應(yīng)力—光學(xué)定律第15頁(yè)/共36頁(yè)—平面應(yīng)力光學(xué)定律§3.3

平面應(yīng)力—光學(xué)定律第16頁(yè)/共36頁(yè)§3.4平面偏振布置中的光彈性效應(yīng)第3章光彈性方法的基本原理起偏鏡

檢偏鏡

模型

光源

θ

LL1L2P1P2Q1Q2ML3S第17頁(yè)/共36頁(yè)§3.4平面偏振布置中的光彈性效應(yīng)PAPA暗場(chǎng)明場(chǎng)AP第18頁(yè)/共36頁(yè)AP起偏鏡入模型（光程差Δ，相位差δ）出模型過(guò)檢偏鏡§3.4平面偏振布置中的光彈性效應(yīng)第19頁(yè)/共36頁(yè)AP形成干涉條紋等傾線§3.4平面偏振布置中的光彈性效應(yīng)第20頁(yè)/共36頁(yè)四、平面偏振布置中的光彈性效應(yīng)AP等差線條紋級(jí)數(shù)第21頁(yè)/共36頁(yè)四、平面偏振布置中的光彈性效應(yīng)AP材料應(yīng)力條紋值，與材料、光源有關(guān)第22頁(yè)/共36頁(yè)§3.4平面偏振布置中的光彈性效應(yīng)第23頁(yè)/共36頁(yè)§3.4平面偏振布置中的光彈性效應(yīng)第24頁(yè)/共36頁(yè)§3.4圓偏振布置中的光彈性效應(yīng)第3章光彈性方法的基本原理LL1L2P1P2Q1Q2ML3S光源

起偏鏡

檢偏鏡

1/4波片

1/4波片

模型

θ

SFSF45°

45°

45°

45°

PA第25頁(yè)/共36頁(yè)xy

P

Q1

A

Q2AP§3.4圓偏振布置中的光彈性效應(yīng)第26頁(yè)/共36頁(yè)起偏鏡到1/4波片出1/4波片APQ1到模型§3.4圓偏振布置中的光彈性效應(yīng)第27頁(yè)/共36頁(yè)到1/4波片出模型APQ2§3.4圓偏振布置中的光彈性效應(yīng)第28頁(yè)/共36頁(yè)出1/4波片APQ2§3.4圓偏振布置中的光彈性效應(yīng)第29頁(yè)/共36頁(yè)經(jīng)過(guò)檢偏鏡后AP§3.4圓偏振布置中的光彈性效應(yīng)第30頁(yè)/共36頁(yè)AP當(dāng)：等差線§3.4圓偏振布置中的光彈性效應(yīng)第31頁(yè)/共36頁(yè)AP討論：§3.4圓偏振布置中的光彈性效應(yīng)第3