局部基片集成人工介質(zhì)特性分析及應(yīng)用研究的開題報告開題報告題目：局部基片集成人工介質(zhì)特性分析及應(yīng)用研究研究背景和意義：人工介質(zhì)是一種新型的電磁環(huán)境調(diào)控材料，由于其具有頻率選擇性的特性，能夠在各種電磁波應(yīng)用領(lǐng)域發(fā)揮重要的作用，如頻率選擇性表面、天線、濾波器、隱身等領(lǐng)域。目前的人工介質(zhì)研究主要集中在平面結(jié)構(gòu)和體材料上，但是由于平面結(jié)構(gòu)和體材料的尺寸較大，既不便于集成又容易引起散射，限制了其在微型器件、高集成度電路和等效負載等方面的應(yīng)用。局部基片集成人工介質(zhì)是一種新興的研究領(lǐng)域，其基本原理是將微小的人工介質(zhì)單元結(jié)構(gòu)嵌入到傳輸線或襯底中，通過多結(jié)構(gòu)之間的相互作用來實現(xiàn)低剖面、高集成度、符合實際應(yīng)用的人工介質(zhì)。因此，研究局部基片集成人工介質(zhì)的特性及其應(yīng)用具有重要的理論和應(yīng)用意義。研究內(nèi)容：本課題的研究內(nèi)容主要包括如下幾個方面：（1）局部基片集成人工介質(zhì)的設(shè)計和制備采用微納加工工藝，設(shè)計和制備局部基片集成的人工介質(zhì)。主要包括微條形介質(zhì)、菲翁結(jié)構(gòu)、左旋螺旋等結(jié)構(gòu)。（2）局部基片集成人工介質(zhì)的電磁特性分析利用HFSS軟件模擬局部基片集成人工介質(zhì)的電磁特性，包括頻響、散射參數(shù)、電壓與電流等特性的分析。（3）局部基片集成人工介質(zhì)的性能測試與分析對設(shè)計和制備的局部基片集成人工介質(zhì)進行性能測試和分析，包括頻率選擇性、阻抗匹配、增益等指標的測試和分析。（4）局部基片集成人工介質(zhì)的應(yīng)用研究研究局部基片集成人工介質(zhì)在頻率選擇性表面、天線、濾波器等領(lǐng)域的應(yīng)用研究，并進行相關(guān)指標的測試和分析。研究方法：本課題的研究方法主要包括理論分析、數(shù)值模擬和實驗測試。（1）理論分析采用電磁場理論、微納加工工藝等方法對局部基片集成人工介質(zhì)的設(shè)計和制備進行理論分析。（2）數(shù)值模擬采用HFSS等數(shù)值模擬軟件對局部基片集成人工介質(zhì)的電磁特性進行模擬分析。（3）實驗測試通過實驗測試對局部基片集成人工介質(zhì)的電磁特性進行測試和分析，包括頻率選擇性、阻抗匹配、增益等指標的測試和分析。預(yù)期結(jié)果：通過本課題的研究，預(yù)期得到如下的結(jié)果：（1）設(shè)計和制備了多種局部基片集成的人工介質(zhì)。（2）分析了局部基片集成人工介質(zhì)的電磁特性，包括頻響、散射參數(shù)、電壓與電流等特性的分析。（3）進行了局部基片集成人工介質(zhì)的性能測試和分析，包括頻率選擇性、阻抗匹配、增益等指標的測試和分析。（4）研究了局部基片集成人工介質(zhì)在頻率選擇性表面、天線、濾波器等領(lǐng)域的應(yīng)用，并進行相關(guān)指標的測試和分析。（5）得出了局部基片集成人工介質(zhì)的結(jié)構(gòu)優(yōu)化設(shè)計方法和制備工藝方法。參考文獻：[1]吳寶花,龍曉明,祁宏.局部基片集成電磁環(huán)境調(diào)控材料的研究進展[J].功能材料,2017,48(20):20779-20787.[2]王崇文,王璐璐,郭黎.單元式人工介質(zhì)研究進展[J].功能材料,2018,49(12):19763-19770.[3]李濤,吳寶花,祁宏.嵌入式寬帶微帶濾波器的研究[J].電路與系統(tǒng)學(xué)報,2017,22(1):1