半導(dǎo)體器件 微電子機(jī)械器件 第40部分：MEMS慣性沖擊開(kāi)關(guān)閾值測(cè)試方法 編制說(shuō)明_第1頁(yè)
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半導(dǎo)體器件微電子機(jī)械器件第40部分：MEMS慣性沖擊開(kāi)關(guān)閾值測(cè)試方法》（征求意見(jiàn)稿）編制說(shuō)明），生產(chǎn)和使用MEMS慣性開(kāi)關(guān)提供科學(xué)可靠的依據(jù)。同時(shí)補(bǔ)充完善MEMS標(biāo)準(zhǔn)體2024年1月成立了編制組，編制組成員包括產(chǎn)品設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)人員、產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)2024年1月～2020年3月編制組對(duì)等同研究、分析和比較，在現(xiàn)有研究基礎(chǔ)上，大量搜集了國(guó)內(nèi)外文獻(xiàn)資料，深入了還對(duì)一些還不太確定的問(wèn)題，召開(kāi)了多次研討會(huì)，邀請(qǐng)行業(yè)內(nèi)的相關(guān)工程技術(shù)2024年4月～2024年6月編制組對(duì)IEC62047-40:2021《半導(dǎo)體器械器件第40部分：MEMS慣性沖擊開(kāi)關(guān)閾值測(cè)試方法》進(jìn)行了翻譯并進(jìn)行試驗(yàn)本標(biāo)準(zhǔn)使用翻譯法等同采用IEC62047-40:202構(gòu)和起草規(guī)則》、GB/T1.2—2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第2部分：以ISO/IEC標(biāo)準(zhǔn)本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了MEMS慣性沖擊開(kāi)關(guān)閾值的三、試驗(yàn)驗(yàn)證的分析、綜述報(bào)告，技術(shù)經(jīng)濟(jì)論證，預(yù)期的經(jīng)濟(jì)效益、社會(huì)√√×××√五、以國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)為基礎(chǔ)的起草情況，以及是否合規(guī)引用或者采用國(guó)際國(guó)外標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)定等同采用IEC62047-40：2021《Semiconductordevices-Micro-electromechanicaldevices-Part40:Testmethodsof九

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