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玻璃制品光學(xué)鍍膜工藝考核試卷考生姓名:__________答題日期:__________得分:__________判卷人:__________
一、單項(xiàng)選擇題(本題共20小題,每小題1分,共20分,在每小題給出的四個(gè)選項(xiàng)中,只有一項(xiàng)是符合題目要求的)
1.光學(xué)鍍膜按功能分類,不屬于以下哪一類?()
A.反射膜
B.透射膜
C.抗反射膜
D.耐磨膜
2.下列哪種材料常用于光學(xué)鍍膜?()
A.鋁
B.銅
C.鉛
D.鐵
3.光學(xué)鍍膜的基本工藝不包括以下哪一項(xiàng)?()
A.清洗
B.烘干
C.離子束濺射
D.測(cè)量
4.以下哪種方法不適用于玻璃制品光學(xué)鍍膜的制備?()
A.真空蒸發(fā)鍍膜
B.離子束濺射鍍膜
C.化學(xué)氣相沉積
D.激光燒蝕
5.在光學(xué)鍍膜中,抗反射膜一般采用什么膜系?()
A.高折射率膜
B.低折射率膜
C.均質(zhì)膜
D.多層膜
6.下列哪種情況下,鍍膜玻璃的反射率最低?()
A.玻璃表面光滑
B.鍍膜厚度為波長(zhǎng)的1/4
C.鍍膜材料折射率等于玻璃折射率
D.鍍膜材料為金屬
7.光學(xué)鍍膜工藝中,清洗玻璃制品的目的是什么?()
A.提高附著力
B.減少表面缺陷
C.增加透光率
D.A和B
8.在真空蒸發(fā)鍍膜過程中,蒸發(fā)源的溫度一般應(yīng)控制在多少范圍內(nèi)?()
A.500℃以下
B.500℃-1000℃
C.1000℃-2000℃
D.2000℃以上
9.以下哪種因素會(huì)影響光學(xué)鍍膜的附著力?()
A.鍍膜厚度
B.玻璃表面粗糙度
C.蒸發(fā)速率
D.A和B
10.下列哪種膜層具有最高的硬度?()
A.鈦膜
B.鉻膜
C.鉬膜
D.碳膜
11.光學(xué)鍍膜工藝中,離子束濺射的優(yōu)點(diǎn)是什么?()
A.鍍膜均勻性好
B.附著力強(qiáng)
C.熱損傷小
D.A、B、C都是
12.以下哪個(gè)參數(shù)不是衡量光學(xué)鍍膜性能的指標(biāo)?()
A.透光率
B.反射率
C.折射率
D.密度
13.下列哪種材料不適用于制備光學(xué)鍍膜的抗反射膜?()
A.硅
B.鈦
C.鈮
D.鋁
14.在光學(xué)鍍膜工藝中,為什么要進(jìn)行烘干處理?()
A.去除水分
B.提高附著力
C.降低表面粗糙度
D.A和B
15.下列哪種方法不能用于檢測(cè)光學(xué)鍍膜的質(zhì)量?()
A.透光率測(cè)試
B.反射率測(cè)試
C.折射率測(cè)試
D.硬度測(cè)試
16.在多層光學(xué)鍍膜中,層與層之間的界面控制主要取決于以下哪個(gè)因素?()
A.鍍膜材料
B.鍍膜工藝
C.鍍膜時(shí)間
D.鍍膜溫度
17.以下哪種情況會(huì)導(dǎo)致光學(xué)鍍膜出現(xiàn)裂紋?()
A.鍍膜厚度過大
B.玻璃基片溫度過高
C.鍍膜材料與玻璃熱膨脹系數(shù)不匹配
D.A和B
18.在光學(xué)鍍膜工藝中,以下哪個(gè)因素會(huì)影響膜層的均勻性?()
A.鍍膜時(shí)間
B.真空度
C.蒸發(fā)速率
D.A、B、C都是
19.下列哪種材料不適用于光學(xué)鍍膜的反射膜制備?()
A.銀膜
B.鋁膜
C.鎳膜
D.硅膜
20.以下哪個(gè)指標(biāo)與光學(xué)鍍膜的抗污染性無關(guān)?()
A.表面能
B.硬度
C.折射率
D.附著力
二、多選題(本題共20小題,每小題1.5分,共30分,在每小題給出的四個(gè)選項(xiàng)中,至少有一項(xiàng)是符合題目要求的)
1.光學(xué)鍍膜按應(yīng)用領(lǐng)域分類,主要包括以下哪些類型?()
A.眼鏡鍍膜
B.太陽(yáng)能鍍膜
C.建筑鍍膜
D.顯示器鍍膜
2.下列哪些因素會(huì)影響光學(xué)鍍膜的光學(xué)性能?()
A.鍍膜材料
B.鍍膜厚度
C.鍍膜溫度
D.真空度
3.光學(xué)鍍膜工藝中,清洗玻璃制品常用的方法有哪些?()
A.超聲波清洗
B.水洗
C.酒精擦拭
D.離子清洗
4.以下哪些特點(diǎn)屬于離子束濺射鍍膜的優(yōu)點(diǎn)?()
A.鍍膜質(zhì)量高
B.鍍膜速率快
C.對(duì)環(huán)境污染小
D.成本較低
5.下列哪些材料常用于光學(xué)鍍膜的抗污染處理?()
A.氟化物
B.硅氧化物
C.碳化合物
D.氧化物
6.光學(xué)鍍膜中的耐磨損膜主要包含以下哪些特性?()
A.高硬度
B.良好的附著性
C.良好的耐化學(xué)性
D.高透光率
7.以下哪些因素會(huì)影響光學(xué)鍍膜的光譜特性?()
A.鍍膜材料的選擇
B.鍍膜層數(shù)
C.鍍膜工藝參數(shù)
D.環(huán)境溫度
8.在光學(xué)鍍膜工藝中,以下哪些操作可以減少鍍膜中的應(yīng)力?()
A.逐漸升溫
B.逐漸降溫
C.使用預(yù)加熱
D.使用應(yīng)力釋放層
9.以下哪些技術(shù)可以用于改善光學(xué)鍍膜的光學(xué)性能?()
A.多層膜設(shè)計(jì)
B.亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)
C.光子晶體
D.納米技術(shù)
10.下列哪些條件會(huì)導(dǎo)致光學(xué)鍍膜出現(xiàn)顏色偏差?()
A.鍍膜厚度不均勻
B.鍍膜材料選擇不當(dāng)
C.光線入射角度變化
D.環(huán)境濕度變化
11.光學(xué)鍍膜工藝中,以下哪些措施可以提高膜層的耐久性?()
A.提高鍍膜附著強(qiáng)度
B.增加鍍膜厚度
C.使用耐腐蝕材料
D.優(yōu)化鍍膜工藝
12.以下哪些測(cè)試方法可以用來評(píng)估光學(xué)鍍膜的質(zhì)量?()
A.光譜反射率測(cè)試
B.透射率測(cè)試
C.厚度測(cè)試
D.硬度測(cè)試
13.以下哪些因素會(huì)影響光學(xué)鍍膜的耐環(huán)境穩(wěn)定性?()
A.鍍膜材料
B.鍍膜結(jié)構(gòu)
C.環(huán)境溫度
D.環(huán)境濕度
14.下列哪些材料可以用于光學(xué)鍍膜的透明導(dǎo)電膜制備?()
A.氧化銦錫(ITO)
B.氟化鋁
C.硼化鋯
D.鎂鋁合金
15.在光學(xué)鍍膜過程中,以下哪些情況可能導(dǎo)致鍍膜不均勻?()
A.真空度不均勻
B.鍍膜源溫度不穩(wěn)定
C.基片運(yùn)動(dòng)不均勻
D.電子槍聚焦不良
16.以下哪些是光學(xué)鍍膜中常見的問題?()
A.膜層剝落
B.膜層污染
C.光學(xué)性能不達(dá)標(biāo)
D.成本過高
17.以下哪些方法可以用來解決光學(xué)鍍膜中的膜層剝落問題?()
A.改善清洗工藝
B.使用預(yù)處理層
C.優(yōu)化鍍膜工藝參數(shù)
D.提高基片溫度
18.以下哪些因素會(huì)影響光學(xué)鍍膜的顏色表現(xiàn)?()
A.鍍膜材料的選擇
B.鍍膜厚度
C.光線入射角度
D.觀察者的視覺條件
19.以下哪些技術(shù)可以用于光學(xué)鍍膜的生產(chǎn)?()
A.磁控濺射
B.電子束蒸發(fā)
C.化學(xué)氣相沉積
D.激光鍍膜
20.以下哪些措施可以減少光學(xué)鍍膜過程中的環(huán)境污染?()
A.使用環(huán)保型鍍膜材料
B.提高真空泵效率
C.優(yōu)化工藝流程
D.采用封閉式生產(chǎn)環(huán)境
三、填空題(本題共10小題,每小題2分,共20分,請(qǐng)將正確答案填到題目空白處)
1.光學(xué)鍍膜按功能分類,主要用于提高玻璃的______、______和______等性能。
2.真空蒸發(fā)鍍膜過程中,蒸發(fā)源到玻璃基片的距離一般應(yīng)控制在______左右。
3.在光學(xué)鍍膜中,______是衡量膜層質(zhì)量的重要指標(biāo)之一。
4.常用的光學(xué)鍍膜材料中,______的折射率較高,而______的折射率較低。
5.為了提高光學(xué)鍍膜的附著強(qiáng)度,常常在鍍膜前對(duì)玻璃進(jìn)行______處理。
6.多層光學(xué)鍍膜的設(shè)計(jì)中,______層和______層的搭配可以實(shí)現(xiàn)寬帶減反射。
7.在光學(xué)鍍膜工藝中,______和______是影響膜層均勻性的兩個(gè)關(guān)鍵因素。
8.透射型光學(xué)鍍膜的設(shè)計(jì),主要是通過控制鍍膜的______和______來實(shí)現(xiàn)特定的透光性能。
9.光學(xué)鍍膜中的______技術(shù)可以有效降低膜層的表面粗糙度。
10.為了提高光學(xué)鍍膜的環(huán)境適應(yīng)性,可以在鍍膜材料中添加______來增強(qiáng)其耐候性。
四、判斷題(本題共10小題,每題1分,共10分,正確的請(qǐng)?jiān)诖痤}括號(hào)中畫√,錯(cuò)誤的畫×)
1.光學(xué)鍍膜只能在玻璃表面形成一層薄膜。()
2.鍍膜厚度越薄,光學(xué)鍍膜的光學(xué)性能越好。()
3.在所有光學(xué)鍍膜材料中,銀的反射率是最高的。()
4.光學(xué)鍍膜過程中,真空度越高,膜層的質(zhì)量越差。()
5.多層鍍膜可以同時(shí)實(shí)現(xiàn)抗反射和防污等多種功能。()
6.光學(xué)鍍膜工藝中,玻璃基片的溫度控制對(duì)膜層質(zhì)量沒有影響。()
7.磁控濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比,具有更高的鍍膜速率。()
8.在光學(xué)鍍膜中,所有的膜層都應(yīng)該具有高硬度。()
9.透光率是衡量光學(xué)鍍膜性能的唯一指標(biāo)。()
10.光學(xué)鍍膜工藝對(duì)環(huán)境沒有特殊要求,可以在常規(guī)環(huán)境下進(jìn)行。()
五、主觀題(本題共4小題,每題5分,共20分)
1.請(qǐng)簡(jiǎn)述光學(xué)鍍膜的基本原理,并說明光學(xué)鍍膜在玻璃制品中的應(yīng)用。
2.描述離子束濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜在光學(xué)鍍膜工藝中的主要區(qū)別,并分析各自的優(yōu)缺點(diǎn)。
3.在光學(xué)鍍膜工藝中,如何控制膜層的厚度和均勻性?請(qǐng)列舉具體的方法和措施。
4.請(qǐng)解釋光學(xué)鍍膜的耐久性對(duì)其應(yīng)用性能的影響,并提出提高光學(xué)鍍膜耐久性的策略。
標(biāo)準(zhǔn)答案
一、單項(xiàng)選擇題
1.D
2.A
3.D
4.D
5.D
6.B
7.D
8.C
9.D
10.D
11.D
12.D
13.D
14.D
15.D
16.C
17.C
18.D
19.D
20.C
二、多選題
1.ABCD
2.ABC
3.ABC
4.ABC
5.ABC
6.ABC
7.ABC
8.ABC
9.ABCD
10.ABC
11.ABC
12.ABCD
13.ABCD
14.A
15.ABCD
16.ABC
17.ABC
18.ABC
19.ABC
20.ABCD
三、填空題
1.透光率、反射率、硬度
2.30-50cm
3.附著力
4.銀膜、氟化物
5.預(yù)處理
6.高折射率、低折射率
7.真空度、蒸發(fā)速率
8.鍍膜材料、鍍膜厚度
9.離子束拋光
10.抗氧化劑
四、判斷題
1.×
2.×
3.√
4.×
5.√
6.×
7.×
8.×
9.×
10.×
五、主觀題(參考)
1.光學(xué)鍍膜的基本原理是在真空條件下,通過物理或化學(xué)方法在玻璃表面沉積一層或多層薄膜,改變其光學(xué)性能。應(yīng)用包括眼鏡、相機(jī)鏡頭、顯示器等,以減少反射和增加透光率。
2.離子束濺射鍍膜利用高能離子撞擊
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