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文檔簡(jiǎn)介
材
料
分
析
測(cè)
試三.分析測(cè)試技術(shù)基本原理●
材
料
分
析
測(cè)
試
技
術(shù)
基
本
原
理
:通過(guò)電磁波、粒子束等能量輸入信號(hào)作用于材料,與材料
作用后產(chǎn)生包含材料成分、結(jié)構(gòu)或形貌等材料相關(guān)特征信號(hào);再通過(guò)信號(hào)采集器收集信號(hào),最后計(jì)算機(jī)系統(tǒng)解碼分析獲取信號(hào),最終得到材料成分、結(jié)構(gòu)、形貌等靜態(tài)、動(dòng)態(tài)演變信號(hào)。電波粒子束:頻率(Hz)
10?
10?1010無(wú)線電波紅
根
期
紫無(wú)線通信的主要研究對(duì)象可見(jiàn)光電子束
離
子
束
中
子
束
等10141016
1018紅外線
紫外線
X射線過(guò)渡
頻帶光波y射線10201012THz電磁波粒子性表現(xiàn):電磁波與電子、原子作用時(shí)表現(xiàn)出粒
子特性,電磁波相當(dāng)于不連續(xù)的粒子流,這
些粒子稱(chēng)為光子。電磁波粒子性物理描述:光量子能量ε、動(dòng)量P電磁波波動(dòng)性表現(xiàn):電磁波與電磁波間相互作用時(shí)表現(xiàn)出波動(dòng)特性,以一定的波長(zhǎng)和頻率傳播,相互作用時(shí)發(fā)生干涉現(xiàn)象。電磁波波動(dòng)性物理描述:波長(zhǎng)λ、頻率v第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
—
—X射線性質(zhì)電磁波,是由同相且互相垂直的電場(chǎng)與磁場(chǎng)在空間中衍生發(fā)射的震蕩粒子波,是
以波動(dòng)的形式傳播的電磁場(chǎng),具有波粒二象性。電磁波粒二象性的統(tǒng)一:愛(ài)因斯坦質(zhì)能方程E=mc2E=hv=hc/λP=h/λ如果把每個(gè)波段的頻率由低至高依次排列的
話,它們是無(wú)線電波、微波、紅外線、可見(jiàn)
光、紫外線、X
射線及γ射線?!馲射線是一種波長(zhǎng)很短的電磁波。
X
射線的波長(zhǎng)在約0.01~10nm
范圍內(nèi),用于
衍
射
分
析
的
X
射
線
波
長(zhǎng)
范
圍
為
0.05~0.25nm
?!馲射線具有波粒二象性,由于其波長(zhǎng)
較短,它的粒子往往表現(xiàn)突出,故X
射線
也可視為一束具有一定能量的光量子流。10-6nm
十10-?nm10-?nm10-3nm+
10-2nm10-'nm1
nm
10nm100
nm+
103nm=1μm+10am100
μm
1000
μm=1mmT10mm=Icm+10cm+100cm=1m10m+100m+1000m=1km+10km+100km+GammaraysX
raysUltravioletradiationVisiblelightInfrared
radiation400nmVioletBlueGreen
YellowOrange
Red700
nmMicrowavesRadiowaves第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線性質(zhì)4●硬
X
射
線:波長(zhǎng)較短的硬X
射
線
能量較高,穿透性較強(qiáng),
適用于金屬部件的無(wú)損探
傷及金屬物相分析?!?/p>
軟X
射
線:波長(zhǎng)較長(zhǎng)的軟X
射
線
能量較低,穿透性弱。10-6mm+10-?nm-10-?mm+10-3nm-10-2nm-10-'nm1
nm10nm-100
nm103nm=1μm+10μm100m+1000
μm
=1mm+10mm=Icm+10cm+100cm=1m+
10m100m+1000m=1km+10km+100km+GammaraysX
raysUltravioletradiationVisiblelightInfraredl
radiationMicrowaves400nmVioletBlueGrcen
YellowOrangeRed700nmRadiowaves第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)——X射線性質(zhì)5第
一
章
、X射線的物理
基
礎(chǔ)
—
—X射線性質(zhì)X射線的性質(zhì)波動(dòng)性和粒子性:波動(dòng)性表現(xiàn)形式:在晶體作衍射光柵觀察到的X
射線的衍射
現(xiàn)象,即證明了X射線的波動(dòng)性。粒子性表現(xiàn)形式:光子的能量E、動(dòng)量p與X射線的頻率v
、
波長(zhǎng)入之間存在如下關(guān)系:式中h——普朗克常數(shù),
c——X射線的速度,6第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)
—
X射線產(chǎn)生X射線定義X射線是由于原子中的電子在能量相差懸殊的兩個(gè)能級(jí)之
間的躍遷而產(chǎn)生的粒子流,是波長(zhǎng)介于紫外線和γ射線之間的
電磁波。其波長(zhǎng)很短約介于0.01~10納米之間。由德國(guó)物理學(xué)家
W.K.倫琴于1895年發(fā)現(xiàn),故又稱(chēng)倫琴射線。https://haokan.baidu.com/v?vid=1824229981650416695&pd=bih&fr=bihaut
hor&type=video從波長(zhǎng)范圍去定義的。Mg通常獲得X射線是利用一種類(lèi)似熱陰極二極管的裝置,用一定材料
制作的板狀陽(yáng)極(稱(chēng)為靶)和陰極(燈絲)密封在一個(gè)玻璃-金屬管殼內(nèi)
,陰極通電加熱,在陽(yáng)極和陰極間加以直流高壓U(約數(shù)千伏~數(shù)十千伏
),則陰極產(chǎn)生的大量熱電子e將在高壓電場(chǎng)作用下飛向陽(yáng)極,在它們與
陽(yáng)極碰撞的瞬間產(chǎn)生X
射線。產(chǎn)生X射線的方式主要有以下四種:X射線管、激光等離子體、同步輻射和X射線激光。L五X(qián)
射線用
極
e
陰
極X射線mA
pQg000
9g708806高壓變壓器第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)——X射線產(chǎn)生C986510燈絲變壓器產(chǎn)生條件:1.產(chǎn)生自由電子的電子源,如加熱鎢絲發(fā)射熱電子;2.施加在陰極和陽(yáng)極之間的高壓,用以加速自由電子朝陽(yáng)極靶方向加速運(yùn)動(dòng);3.設(shè)置自由電子撞擊靶子,如陽(yáng)極靶,用以產(chǎn)生X射線;4.將陰、陽(yáng)極封閉在>10-3Pa
的高真空中,保持兩級(jí)純潔,促使加速電子無(wú)阻地撞擊到陽(yáng)極靶上。9產(chǎn)生原理:高速運(yùn)動(dòng)的電子與物體碰撞
阻失去動(dòng)能,其中
一
小部分(
大部分(99%左右)能量轉(zhuǎn)變陽(yáng)板
陰
極X射線mA-
pQg00
0g9708866離壓變壓器第
一
章
、X
射
線
的
物
理
基
礎(chǔ)
X射
線
產(chǎn)生燈絲變壓器X
射線過(guò)程演示X射線管剖面示意圖10第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)——X射線產(chǎn)生X射線管窗
口D高壓接點(diǎn)窗口11(1)陰極:陰極是發(fā)射電子的地方。
一般由鎢絲制成,通電加
熱后釋放出熱輻射電子。(2)陽(yáng)極:亦稱(chēng)靶,是使電子突然減速和發(fā)射X射線的地方。靶材的作用是什么?1、促使動(dòng)能轉(zhuǎn)化為其他能量2
、形成特征X射線第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線產(chǎn)生X射線管的結(jié)構(gòu):封閉式X
射線管是一個(gè)大的真空10-?~10?
mmHg)
二極管?;窘M成包括:12(3)窗口:窗口是X射線從陽(yáng)極靶向外射出
的地方。既能讓X射線出射,又能使管密封。窗口材料用金屬鈹或硼酸鈹
鋰構(gòu)成的林德曼玻璃。窗口與靶面常
成3-6°的斜角。(4)焦點(diǎn):陽(yáng)極靶表面被電子轟擊的一塊
面積,X射線就是從這塊面積上發(fā)射
出來(lái)的。焦點(diǎn)的尺寸和形狀是X射線
管的重要特性之一。焦點(diǎn)的形狀取決
于燈絲的形狀,螺形燈絲產(chǎn)生長(zhǎng)方形
焦點(diǎn)
。第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線產(chǎn)生高壓接點(diǎn)窗口窗口13基本原理:加速電荷將引起輻射(變化電場(chǎng)(加速)產(chǎn)生磁場(chǎng)變化、變
化磁場(chǎng)產(chǎn)變化電場(chǎng)往復(fù)電磁波)
,產(chǎn)生從紅外到硬X射線的寬頻帶連
續(xù)輻射。這種連續(xù)譜是可以直接引出使用,也可以利用各種元件,選
擇需要的應(yīng)用波長(zhǎng)。實(shí)驗(yàn)室X射線能量小,特征輻射波長(zhǎng)區(qū)域是非常狹窄的。同步輻射頻譜廣闊、能量高、高度偏振性、良好準(zhǔn)直性、高度穩(wěn)定性、
時(shí)間分辨,空間分辨,表征精度,多場(chǎng)耦合等多方面優(yōu)勢(shì)。光刻LIGA生物大分子3WIA..3W1,該BEPCII
IIWwY
衍射
4B9A光電子能譜D4WTBWIXAPS生物大分同步輻射是利用電子在磁場(chǎng)中偏轉(zhuǎn)
產(chǎn)生同步輻射的高性能新型強(qiáng)光源。同步輻射光源BSRF光束線和實(shí)驗(yàn)站
示意圖小角散射熒光分析漫散射高壓IIIIV1WIB14具有確定波長(zhǎng)的X
射線,構(gòu)成特征X
射線譜,它和單色光相似,亦稱(chēng)單色X
射線。
λ=c15第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)—X
射線譜由X射線管發(fā)射出來(lái)的X射線可以分為兩種類(lèi)型:(1)連續(xù)X
射線;(2)標(biāo)識(shí)X
射線。
a≤λ≤b具有連續(xù)波
長(zhǎng)的X
射
線,構(gòu)成連續(xù)X
射線譜,
它和可見(jiàn)光相似,亦稱(chēng)
多色X射線。10"nm10-2nm10-1nm+1
nm10
nm100nm103nm=1um+10μmX
raysUltravioletradiationVisiblelight400nmVioletBlueGrcen
Yellow
Orange
Red15第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)
—
X射線譜連
續(xù)X射線產(chǎn)生機(jī)理●能量為neV
的電子與陽(yáng)極靶的原子碰撞時(shí),電子失去自己的能量,高速運(yùn)動(dòng)的電子與物體碰撞
其中部分以光子的形式輻射,碰時(shí),發(fā)生能量轉(zhuǎn)換,電子的運(yùn)動(dòng)
撞一次產(chǎn)生一個(gè)能量為hv
的光子,受阻失去動(dòng)能,其中一小部分
這樣的光子流即為X
射線。(
1
%
左
右
)
能量轉(zhuǎn)變?yōu)閄射線,而絕大部分(99%左右)能量轉(zhuǎn)變成熱能使物體溫度升高?!駟挝粫r(shí)間內(nèi)到達(dá)陽(yáng)極靶面的電子數(shù)目是極大量的,絕大多數(shù)電子要經(jīng)歷多次碰撞,產(chǎn)生能量各不相同的輻射,因此出現(xiàn)連續(xù)X射線
16X射線產(chǎn)生機(jī)理a=
<λ≤b它是由電子一次碰撞就耗盡能量所產(chǎn)生的X
射線。
它只與管電壓有關(guān),不受其它因素的影管電
系
為
:式中e——電子電荷,U——
電子通過(guò)兩極時(shí)的管電壓,h——
普朗克常數(shù),
vmax——
光
子
最
大λ
。——X
射線最小波長(zhǎng)λ。=1.24/U
波長(zhǎng)(nm)λ。單位nm,U
單位KV
圖1
-
5連續(xù)X
射線譜第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)——X射線譜短波限連續(xù)X
射線譜在短波方向有一個(gè)波長(zhǎng)極限,稱(chēng)為短波限
入swl°×
線
強(qiáng)
度
(相
對(duì)
單
位
)17X射線的強(qiáng)度●X射線的強(qiáng)度是指垂直X
射線傳播方向
的單位面積上在單位時(shí)間內(nèi)所通過(guò)的
光子數(shù)目的能量總和。●常用的單位是J/cm2s。●X射線的強(qiáng)度I是由光子能量hv
和
它的
數(shù)目n兩個(gè)因素決定的,即I=nhv。粒子性體現(xiàn)18第
一
章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線譜波長(zhǎng)(nm)圖1
-
5連續(xù)X射線譜×
線
強(qiáng)
度
(相
對(duì)
單
位
)當(dāng)加于X
射線管兩端的電壓增高到與陽(yáng)極靶材相應(yīng)的某一特定值Uk時(shí),在連續(xù)譜的某些特定的波長(zhǎng)位置上,會(huì)出現(xiàn)一些強(qiáng)度很高、波長(zhǎng)
范圍很窄線狀光譜,它們的波長(zhǎng)對(duì)
一
定材料的陽(yáng)極靶有嚴(yán)格恒定的數(shù)值,此波長(zhǎng)可作為陽(yáng)極靶材的標(biāo)志或特征,
故稱(chēng)為特征譜或標(biāo)識(shí)譜。第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線譜特征X
射線19時(shí),標(biāo)識(shí)譜線的波長(zhǎng)不再
變,
強(qiáng)度隨管電壓增加而
增加。如鉬靶K
系
標(biāo)
識(shí)X
射線有兩個(gè)強(qiáng)度高峰為Ka
和Kβ,波長(zhǎng)分別為0.71A
和0.63A.標(biāo)識(shí)X射線譜的產(chǎn)
生機(jī)理與陽(yáng)極物質(zhì)的
原子內(nèi)部結(jié)構(gòu)緊密相
關(guān)
的
。第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)
—
X射線譜波長(zhǎng)(nm)圖1-5連續(xù)X射線譜特征X射線譜特
征X
射
線
的
特
征
.
當(dāng)電壓達(dá)到臨界電壓原子內(nèi)部電子能級(jí)間的能量差×
線
強(qiáng)
度
(
相
對(duì)
單
位
)20第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線譜特征X射線產(chǎn)生機(jī)理*
閱讀9頁(yè)*
產(chǎn)生特征X射線機(jī)理是什么?*
為什么叫特征X射線?*什么是臨界激發(fā)電壓?什么是逸出功?
K線波長(zhǎng)為什么短?*
為什么有K。和Kg兩種譜線,強(qiáng)度為什么不同?*
什么是莫賽來(lái)定律,它說(shuō)明了什么?*
為什么X射線的工作電壓是3-5Uk21●在電子轟擊陽(yáng)極的過(guò)程中,當(dāng)某個(gè)具有足夠能量的電子將陽(yáng)極靶上原子的L
lines內(nèi)層電子擊出時(shí),在低能級(jí)上出現(xiàn)空
位,系統(tǒng)能量升高,處于不穩(wěn)定激發(fā)
態(tài)。較高能級(jí)上的電子向低能級(jí)上的第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線譜特征X射線產(chǎn)生機(jī)理空位躍遷,并以光子的形式輻射出標(biāo)識(shí)X射線譜。特征X射線的產(chǎn)生22特征X射線的特征●當(dāng)電壓達(dá)到臨界電壓時(shí),標(biāo)識(shí)譜線的
波長(zhǎng)不再變,
強(qiáng)度隨電壓增加而增加。
如鉬靶K系標(biāo)識(shí)X射線有兩個(gè)強(qiáng)度高
峰為Kα和Kβ,波長(zhǎng)分別為0
.
71A
和
0.63A.標(biāo)識(shí)X射線譜的產(chǎn)生機(jī)理與陽(yáng)極
物質(zhì)的原子內(nèi)部結(jié)構(gòu)緊密相關(guān)的。原
子
內(nèi)
部
電
子
能
級(jí)
間
的
能
量
差電壓高,一次碰撞后能量還較
大,可繼續(xù)擊出內(nèi)殼層電子。外殼層向內(nèi)殼層躍遷又釋放X光
子(只增加強(qiáng)度,波長(zhǎng)不變)。?為什么在電壓達(dá)到臨界值以上時(shí),X射線譜線波長(zhǎng)不變,強(qiáng)度會(huì)隨著電壓增加而增大?第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線譜23第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)——X射線譜特征X射線產(chǎn)生機(jī)理*閱讀9至10頁(yè)*產(chǎn)生特征X射線機(jī)理是什么?*
為什么叫特征X
射線?*什么是臨界激發(fā)電壓?什么是逸出功?
K線波長(zhǎng)為什么短?*
為
什
么
有K。和Kg兩種譜線,強(qiáng)度為什么不同?*
什么是莫賽來(lái)定律,它說(shuō)明了什么?*
為什么X射線的工作電壓是3-5Uk24●由不同外層上的電子躍遷至同一內(nèi)層上
來(lái)而輻射的特征譜線屬于同
一
線系,并
按電子躍遷所跨越的電子能級(jí)數(shù)目多少
的順序,將這同一線系的譜線分別標(biāo)以α、
β、γ等
符
號(hào)
?!馣層電子被擊出時(shí),原子系統(tǒng)能量由基態(tài)
升到K激發(fā)態(tài),高能級(jí)電子向K
層空位躍
遷時(shí)產(chǎn)生K系輻射。
L→K填充空位時(shí),產(chǎn)生K。輻射;
M→K填充空位時(shí)產(chǎn)生Ks輻
射?!馤層電子被擊出時(shí),原子系統(tǒng)能量由基態(tài)
升
到L激發(fā)態(tài),
L
系
輻
射:
M→L,產(chǎn)
一個(gè)靶子的標(biāo)識(shí)x射線是一套K,L等L輻
射
;N→L,產(chǎn)生L
輻
射
。M系
輻
射
。第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線譜?特征x射線波長(zhǎng)取決于哪些因素?一個(gè)靶子的標(biāo)識(shí)x射
線是一個(gè)還是多個(gè)?*為什么叫特征X
射線?電子殼層結(jié)構(gòu)第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線譜特征X
射線產(chǎn)生機(jī)理
*閱讀9至10頁(yè)*產(chǎn)生特征X射線機(jī)理是什么?*
為什么叫特征X射線?*
什么是臨界激發(fā)電壓?什么是逸出功?
K線波長(zhǎng)為什么短?*
為什么有K。和Kg兩種譜線,強(qiáng)度為什么不同?*
什么是莫賽來(lái)定律,它說(shuō)明了什么?*
為什么X
射線的工作電壓是3-5Uk26*
逸出功:電
子克服原子核的束縛,從材料表面逸出所需的
最小能量,稱(chēng)為逸出功Wk*臨界激發(fā)電壓:高速電子擊出靶材的某一內(nèi)殼層電子所需*越靠近原子核的相鄰能級(jí)間能量差越大,K
系譜線的波長(zhǎng)最短。?為什么電子能級(jí)差的分布模式為越靠近
原子核的相鄰能級(jí)間能量差越大?第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)——X射線譜為什么特征x射線波長(zhǎng)對(duì)于一定陽(yáng)極靶有嚴(yán)格恒定的數(shù)值?靜電作用力一個(gè)主要方面;外部電子云空間大?特征x射線臨界激發(fā)電壓如何求靶材電子殼層結(jié)構(gòu)固定L
linesM
line的
最
小
激
發(fā)
電
壓
。
UKeUk=Wk第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)
—X
射線譜特征X
射線產(chǎn)生機(jī)理
*閱讀9-10頁(yè)*
產(chǎn)
生
特
征X射線機(jī)理是什么?*為什么叫特征X
射線?*什么是臨界激發(fā)電壓?什么是逸出功?
K線波長(zhǎng)為什么短
?*
為什么有K
和Kg兩種譜線,強(qiáng)度為什么不同?*
什么是莫賽來(lái)定律,它說(shuō)明了什么?*
為什么X
射線的工作電壓是3-5U28由于LⅢ上的電子躍遷到K層填滿空位的概率比L
上的電子躍遷到K層填滿空位的概率大一倍。lk:Ik
。=2:1K輻射和Kg輻射強(qiáng)度是否一樣?lk:Ik
,
=5:1高能級(jí)向低能級(jí)躍遷是有選擇性的,某種躍遷是占優(yōu)的,
這種躍遷對(duì)應(yīng)著特征譜線L
上的電子躍遷到K層
LI上的電子躍遷到K層Kα1輻射和K。2輻射強(qiáng)度是否一樣?
I=nhv由于L層上的電子躍遷到K層填滿空位的概率比M層上的電子躍遷到K層填滿空位的概率大5倍。事實(shí)上由于電子躍遷的選擇定則,只有Kα輻射和K。2輻射第
一
章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線譜L殼層有8個(gè)電子,存在于三個(gè)不同的亞能級(jí),不同亞能級(jí)向K層躍遷,不同K。輻射?電子躍遷過(guò)程,K和Kg兩種譜線強(qiáng)度不同
第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線譜特征X射線產(chǎn)生機(jī)理*閱讀9至10頁(yè)*產(chǎn)生特征X射線機(jī)理是什么?*
為什么叫特征X
射線?*什么是臨界激發(fā)電壓?什么是逸出功?
K線波長(zhǎng)為什么短?*
為什么有K。和Kg兩種譜線,強(qiáng)度為什么不同?*
什么是莫賽來(lái)定律,它說(shuō)明了什么?*
為什么X射線的工作電壓是3-5Uk30第
一
章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線譜莫塞萊定律●
標(biāo)
識(shí)X射線譜的頻率和波長(zhǎng)只取決于陽(yáng)極靶物質(zhì)的原子能級(jí)結(jié)構(gòu),是物質(zhì)的固有特性?!衲R定律:標(biāo)識(shí)X射線譜的波長(zhǎng)入與原子序數(shù)Z關(guān)
系
為
:σ是屏蔽因子K是靶材元素主量子數(shù)有關(guān)的常數(shù)標(biāo)
識(shí)X射線的強(qiáng)度特征
I特
=ci(U-U激
)"標(biāo)識(shí)X射線的強(qiáng)度隨管電壓的提高而增大。*為什
么X射線的工作電壓是3-5U?當(dāng)X
射線管的工作電壓為K
系激發(fā)電壓的3-5倍時(shí),
I特/I
連最大,
此時(shí)連續(xù)譜造成的影響最小。31能量來(lái)源譜圖特征應(yīng)用連續(xù)譜高速運(yùn)動(dòng)的粒
子能量轉(zhuǎn)換成
電磁波25kVke
20-215-10Ao
5%
0.1
0.20.3是衍射分析的背
底,可用于金屬
探
傷
;醫(yī)學(xué)采用更多。圖1-5連續(xù)X射線譜特征譜高能級(jí)電子回
跳到低能級(jí)多
余能量轉(zhuǎn)換成
電磁波32Kβ1BrehmsstrahlungcontinuumKaCharacteristic
X-raysX-rays
from
a
molybdenumtarget
at35kV衍射分析采用02
04
06
08
10
.12Wavelength
(nm)第
一
章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線譜連續(xù)譜與特征譜的比較He
lat
ive
intensity戰(zhàn)
強(qiáng)
度
歸
時(shí)
單
位323第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線與物質(zhì)相互作用●材料分析測(cè)試技術(shù)基本原理:通過(guò)電
磁
波、粒子束等能量輸入信號(hào)作用于材
料,與材料
作用后產(chǎn)生包含材料成分、結(jié)構(gòu)或形貌等材料相關(guān)特征信號(hào);再通過(guò)信號(hào)采集器收集信號(hào),最后計(jì)算機(jī)系統(tǒng)解碼分
析獲取信
號(hào),最終得到材料成分、結(jié)構(gòu)、形貌等靜態(tài)、動(dòng)態(tài)演變信號(hào)。X射線定義、性質(zhì)、強(qiáng)度X射線分類(lèi)X射線產(chǎn)生條件X射線產(chǎn)生裝置X射線產(chǎn)生原理
連續(xù)X射線產(chǎn)生原理短波限特征X射線產(chǎn)生原理
特征X射線標(biāo)記符號(hào)
莫塞萊定律33Hm熱I透射X射
線I=Ioe-mpt,λ=λotλ=Ao,
相干散射X'>Ao反沖電子電子
俄歇電子光電子熒
光X射線Aκα>lo第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線與物質(zhì)相互作用●
X
射線與物質(zhì)相互作
用時(shí),產(chǎn)生各種不同的和復(fù)雜
的信號(hào)。就其能量轉(zhuǎn)換而言,一束X
射線通過(guò)物質(zhì)
時(shí),可分為三部分:
一部分被吸收,一部分被散射,
一部分透過(guò)物質(zhì)繼續(xù)沿原來(lái)的方向傳播。X射線與物質(zhì)的相互作用光電效應(yīng)
俄歇效應(yīng)入
射X射
線散
射X射
線不相干散射物質(zhì)對(duì)X射線吸收一種形式是熱吸收(晶格振動(dòng))物質(zhì)對(duì)X
射線吸收還有一種形式是由原子內(nèi)部的電子躍遷而
引起的。這個(gè)過(guò)程中發(fā)生X
射線的光電效應(yīng)和俄歇效應(yīng)。物質(zhì)對(duì)X
射線的吸收指X
射線能量在通過(guò)物質(zhì)時(shí)轉(zhuǎn)變?yōu)槠渌?/p>
形式的能量,
X
射線發(fā)生了能量損耗。第
一
章
、X射線的物理基礎(chǔ)
X射線與物質(zhì)相互作用X
射線的吸收35hv>Eb光電子動(dòng)能=
hv-E?外層電子原子
—
→
激發(fā)態(tài)離子激發(fā)態(tài)(不穩(wěn)定高能量態(tài))
發(fā)生輻射(向下躍遷)內(nèi)層電子能量守恒,輻射時(shí)釋放出特征X射線第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X
射線與物質(zhì)相互作用光電效應(yīng)以光子激發(fā)原子所發(fā)生的激發(fā)和輻射過(guò)程。當(dāng)入射光量子的
能量等于或大于吸收體原子某殼層的結(jié)合能時(shí),此光量子就很容
易被電子吸收,被擊出的電子稱(chēng)為光電子,原子則處于相應(yīng)的激
發(fā)狀態(tài),這種原子被入射輻射電離的現(xiàn)象即光電效應(yīng)。光電子hv材料分析方法●
原子中一個(gè)K
層電子被入射光量子出
擊
后,L
層一個(gè)電子躍入K層填補(bǔ)空位,●此時(shí)多余的能量不以輻射X
光量子的方
式放出,而是另
一個(gè)L層電子獲得能量
躍出吸收體,●這樣的一個(gè)K
層空位被兩個(gè)L
層空位代替
的過(guò)程稱(chēng)俄歇效應(yīng),躍出的L
層電子稱(chēng)
俄歇電子。第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)——X射線與物質(zhì)相互作用俄歇效應(yīng)37X射線被物質(zhì)散射時(shí),產(chǎn)生兩種現(xiàn)象:相干散射:當(dāng)入射線與原子內(nèi)受核束縛較緊的電子相遇,光量子能量不足以使原子電離,但電
子可在X
射線交變電場(chǎng)作用下發(fā)生受迫振動(dòng)
,這樣的電子就成為一個(gè)電磁波的發(fā)射源,
向周?chē)椛渑c入射X
射線波長(zhǎng)相同的輻射
,因?yàn)楦麟娮铀⑸涞腦
射線波長(zhǎng)相同,相互干
涉,故稱(chēng)相干散射。非相干散射:X
射線光子與束縛力不大的外層電子或自由電子碰撞時(shí)電子獲得一部分動(dòng)能成為反
沖電子,X
射線光子離開(kāi)原來(lái)方向,能量減小,波長(zhǎng)增加。非相干散射是康普頓和我國(guó)物理學(xué)家吳有訓(xùn)等人發(fā)現(xiàn)的,亦稱(chēng)康普頓效應(yīng)。
非相干
散射突出地表現(xiàn)出X
射線的微粒特性
,只能用量子理論來(lái)描述,亦稱(chēng)量子散射。它會(huì)增
加連續(xù)背影,給衍射圖象帶來(lái)不利的影響,特別對(duì)輕元素。第
一
章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X
射線與物質(zhì)相互作用X射線的散射38光電效應(yīng)---光電子和熒光XX射
線通過(guò)光電效應(yīng)使
被照物質(zhì)處于激發(fā)狀態(tài),通
過(guò)電子躍遷向較低能態(tài)轉(zhuǎn)化,
同時(shí)輻射被照物質(zhì)的特征X
射
線譜。由入射X
射線激發(fā)出的
次級(jí)標(biāo)識(shí)X射線稱(chēng)為熒光X射
線。熒
光X射
線
與標(biāo)
識(shí)X射
線
區(qū)
別
?激發(fā)源不同;熒光X
射線是X
射線激發(fā)第
一
章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線與物質(zhì)相互作用標(biāo)識(shí)X
射線是高速電子激發(fā)Sodium
Atom.11
protons,11
electrons射
線39產(chǎn)生光電效應(yīng),入射X射
線光子波長(zhǎng)必須小于吸收限入k。hv>Ebhc/λ>Eb
λ<E?/hc入k=Eb/hchvk=hc/λkvL和入為被照物質(zhì)產(chǎn)生K系熒光輻射時(shí),入射X
射線必須具有的頻率和波長(zhǎng)的臨界值。Sodium
Atom.11
protons,11
electrons易誤解,把入k當(dāng)成熒光X射線的波長(zhǎng)。注釋?zhuān)?/p>
vk
=入射X射線臨界頻率;λk=入射X射線臨界波長(zhǎng)第一
章、X射線的物理基礎(chǔ)
—
—X射線與物質(zhì)相互作用本質(zhì)上激發(fā)源應(yīng)用熒光X射線高能級(jí)電子回跳
到低能級(jí)多余能
量轉(zhuǎn)換成電磁波X射線激發(fā)通過(guò)接受物質(zhì)的熒光X
射線,分析此物質(zhì)的組成和含量特征X射線高能級(jí)電子回跳
到低能級(jí)多余能
量轉(zhuǎn)換成電磁波高能量激發(fā)特征X射線作為X射線源,照射到其他物質(zhì),
通過(guò)接受衍射信號(hào),分
析其他物質(zhì)的物相及晶
體結(jié)構(gòu)。第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線譜熒光X射線與特征X
射線的比較41相干的散射X射
線康普頓效應(yīng)反沖電子俄歇電子
——
俄歇效應(yīng)
光電子光電效應(yīng)熒光X射線透射X
射線衰減后的強(qiáng)度Ix熱能第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
X射線與物質(zhì)相互作用X
射線與物質(zhì)相互作用的總結(jié)入射X
射線強(qiáng)
度I?非相干的電子42第
一
章
、X
射
線
的
物
理
基
礎(chǔ)
—X
射線的衰減規(guī)律當(dāng)
一束X射線通過(guò)物質(zhì)時(shí),由于散射和吸收的作用使其
透射方向上的強(qiáng)度衰減。衰減的程度與所經(jīng)過(guò)物質(zhì)中的距離成金屬鉛的
μm和λ關(guān)系曲線
Hm
隨入的變化是不連續(xù)的其間被尖銳的突變分開(kāi)。43質(zhì)量衰減系數(shù)Hm表示X射線通過(guò)單位面積上單位質(zhì)量牛質(zhì)量衰減系數(shù)與波長(zhǎng)和原子序數(shù)Z
存在如-μm≈KA3z3
K為常數(shù)正比。λ第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)——吸收限的應(yīng)用●
吸收限主要是由光電效應(yīng)引起的:當(dāng)X射線的波長(zhǎng)等
于或小于入時(shí),此光量子就很容易被電子吸收,即X射線被吸收,激發(fā)光電效應(yīng)。此效應(yīng)消耗大量入射能
量,表現(xiàn)為μm
突變性增大。→
光電
子EL0
EkA金屬鉛的
μm和λ關(guān)系曲線hv44第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)
——
吸收限的應(yīng)用*
濾波片的選擇:它的吸收限位于輻射源的Ka
和Kβ之間,即入
Kβ<λk<λ
Ka,
且盡量靠近K。。強(qiáng)烈吸收Kβ,Kα吸收很??;A(A)
A(A)(a)
無(wú)濾波片
(b)
鎳濾波片圖銅輻射在通過(guò)鎳濾波片以前(a)
和以后(b)
的強(qiáng)度比較
(虛線所示為鎳的質(zhì)量吸收系數(shù))強(qiáng)度小使得被檢測(cè)試樣盡可能少地吸收入射X射線Z靶≤Z
試樣-1或
者Z
靶
材
》Z
試
樣°A試樣μm和入射波長(zhǎng)關(guān)系曲線第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)——吸收限的應(yīng)用*
陽(yáng)極靶的選擇:陽(yáng)極靶X射線波長(zhǎng)稍大于試樣的吸收限或遠(yuǎn)小于吸收限。多元素材料,以含量較多的元素中原子序數(shù)最小
的元素來(lái)選擇靶材銅靶、鉬靶、鈷靶等X射線管產(chǎn)生X射線為了用于衍射分析。為什么?●X射線設(shè)備的操作人員可能遭受電震和輻射損傷兩種危險(xiǎn)。●電震的危險(xiǎn)在高壓儀器的周?chē)墙?jīng)常地存在的,X
射線的
陰極端為危險(xiǎn)的源泉。在安裝時(shí)可以把陰極端裝在儀器臺(tái)
面之下或箱子里、屏后等方法加以保證?!褫椛鋼p傷是過(guò)量的X
射線對(duì)人體產(chǎn)生有害影響??墒咕植?/p>
組織灼傷,可使人的精神衰頹、頭暈、毛發(fā)脫落、血液的
組成和性能改變以及影響生育等。“身在輻中
要
知輻
”“安全措施保不輻”安
全
措
施:嚴(yán)格遵守安全條例、配帶筆狀劑量?jī)x、避免身體直
接暴露在X射線下、定期進(jìn)行身體檢查和驗(yàn)血。第
一
章
、X
射線的物理基礎(chǔ)——安全防護(hù)●
X
射線危險(xiǎn)源47特征X射線產(chǎn)生原理
特征X射線標(biāo)記符號(hào)熱
莫塞萊定律光電子
光電效應(yīng)
吸收限額歇電子相干散射
X射線衍射分析
熒光X射線非相干散射質(zhì)量衰減系數(shù)
吸收限濾波片選擇
靶材選擇●材料分析測(cè)試技術(shù)基本原理:通
過(guò)申
磁
波
粒
子
束等
能
量輸入佳號(hào)
作用
干
材料,
與材
料
云
生句
今
大
才
料
成
公
結(jié)構(gòu)或形貌等材料相關(guān)特征信號(hào),再通過(guò)信號(hào)采集器收集信號(hào),最后計(jì)算機(jī)系統(tǒng)解碼分析獲取信取繪
侍
到
材
科
成
分
、
結(jié)構(gòu)、形
貌
寺
腫
心、
動(dòng)
念
澳
變1后虧短油限X
射線定義、性質(zhì)、強(qiáng)度X
射線分類(lèi)
連續(xù)X
射線產(chǎn)生原理
X射線產(chǎn)生條件
X射線產(chǎn)生裝置
X射線產(chǎn)生原理第一章、X
射線的物理基礎(chǔ)
總結(jié)吸收散射
透射輸入信號(hào)
輸出信號(hào)虧
,48作業(yè)1
、
連續(xù)X射線與特征X射線產(chǎn)生原理比較分析2、什么是吸收限?如何選擇濾波片,靶材?3、什么是短波限。4
、分類(lèi)闡述X射線與物質(zhì)的相互作用49第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度20[degree]
衍射線束的方向由晶胞的形狀大小決定
2d
sinθ=
入衍射線束的強(qiáng)
度由晶胞中原子的位置和種類(lèi)決定,
衍射線束的形狀大小與晶體的形狀大小相關(guān)。為什么實(shí)測(cè)衍射峰比理論衍射峰寬?畸變、納米化、內(nèi)應(yīng)力⑩
X射線衍射理論能將晶
體結(jié)構(gòu)與衍射花樣有機(jī)地聯(lián)
系起來(lái),它包括衍射線束的
方向、強(qiáng)度和形狀。第二章X
射線衍射intensity
la.u.一個(gè)電子對(duì)X射線的散射*當(dāng)入射線與原子內(nèi)受核束縛較緊的電子相遇,光量子能
量不足以使原子電離,但電子可在X
射線交變電場(chǎng)作用下
發(fā)生受迫振動(dòng),這樣電子就成為一個(gè)電磁波的發(fā)射源,
向周?chē)椛渑c入射X
射線波長(zhǎng)相同的輻射---稱(chēng)相干散射.*
X
射線射到電子e后,在空間一點(diǎn)P處的相干散射強(qiáng)度為第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度極化因子湯姆遜公式52第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度質(zhì)子或原子核對(duì)X
射線的散射●
若將湯姆遜公式用于質(zhì)子或原子核,由于質(zhì)子的質(zhì)量是電子的1840倍,則散射強(qiáng)度只有電子
的1/(1840)2,可忽略不計(jì)。所以物質(zhì)對(duì)X
射線的散射可認(rèn)為只是電子的散射?!?/p>
相干散射波雖然只占入射能量的極小部分,但由于它的相
干特性而成為區(qū)射線衍射分析的基礎(chǔ)
。53第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度一個(gè)原子對(duì)X射線的衍射●當(dāng)一束x射線與一個(gè)原子相遇,原子核的散射可以忽略不計(jì)。原子序數(shù)為Z
的原子周?chē)腪
個(gè)電子可以看成集中在一
點(diǎn),它們的總質(zhì)量為Zm,
總電量
為Ze,
衍射強(qiáng)度為:Zm,Ze
帶入單個(gè)電子散射強(qiáng)度公式得出Iα=Z2I。54第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度實(shí)際X射線衍射波長(zhǎng)與原子直徑同一數(shù)量級(jí)●原子中所有電子并不集中在一點(diǎn),他們的散射波之間有一定的位相差。Iα
=Z2I。
???則衍射強(qiáng)度為:f---原子散射因子f---原子散射因子反映一個(gè)原子內(nèi)各電子之間位相差■
f<Z55r=A=
2=
一個(gè)原子中所子相子散射游的合成振幅超出我們f的大小受
功力能涉及的領(lǐng)域!Z,
入,θ影響敬畏科學(xué)!第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度●原子散射因子f
為下式56●
復(fù)雜點(diǎn)陣晶胞中含有n
個(gè)相同或不同種類(lèi)的原子,它們除占據(jù)單胞的頂角外,還可能出現(xiàn)體心、面心或其他位置
。*
復(fù)雜點(diǎn)陣單胞的散射波振幅應(yīng)為單胞中各原子的散射振幅
的矢量合成。由于衍射線的相互干涉,某些方向的強(qiáng)度將
會(huì)加強(qiáng),而某些方向的強(qiáng)度將會(huì)減弱甚至消失。這種規(guī)律
稱(chēng)為系統(tǒng)消光(或結(jié)構(gòu)消光)。570c(a)b線的衍沖原子
頁(yè)
角」
度。-衍的強(qiáng)度
類(lèi)決定胞只
散射一個(gè)(c)(b)兩條光路的波程差=OB-CA設(shè)OA為矢量r,,r=ax;+by,+cz;)入射線單位矢量為S?衍射線單位矢量為SOB=r;·S
CA=r·S?一個(gè)矢量點(diǎn)乘一個(gè)單位矢量
相當(dāng)于這個(gè)矢量在單位矢量上的投影波程差δ=OB-CA=r;·(S-S?)第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度如果求一個(gè)晶胞內(nèi)所有原子的相干散射,必須知道任一
原子與坐標(biāo)原點(diǎn)原子間的相位差倒易矢量9HKL*=(S-S?)/λ=a*H+b*K+c*L相位差φ=2π(Hx;+Ky;+Lz;)相位差φ=2πδ/λ=2πr·(S-S?)/λ
物理意義:F反映晶體結(jié)構(gòu)對(duì)合成振幅的影響稱(chēng)想結(jié)構(gòu)因乎(Hx;+Ky;+Lz)
Ia=f2Ilb=le
IFI2Fml
-稱(chēng)之結(jié)構(gòu)因數(shù)|F|259如
2個(gè)原子的位相差φ,
A=Af?eA
單原子時(shí)位相差為0A=A(fe?+f?e
…●
定義結(jié)構(gòu)因子為F●有第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度晶胞中原子對(duì)X
射線的散射波的合成振幅一個(gè)原子散射振幅
A=fA晶胞合成振幅:b=le|F|2物理意義:F反映晶體結(jié)構(gòu)對(duì)合成振幅(衍射強(qiáng)度)的影響相位差φ=2π(Hx+Ky+LZ)原子種類(lèi)f
60Ia=f2IeI=Z2I。f物理意義:反映一
個(gè)原子內(nèi)各電子之
間位相差對(duì)衍射強(qiáng)度影響第
二
章X射線衍射理論——衍射強(qiáng)度比較
f原子散射因子和
F結(jié)
構(gòu)因子nm=
一個(gè)電子的相干散射波振幅一個(gè)原子散射因子晶胞結(jié)構(gòu)因子Fei=cosφ+isinφ●
則相位差φ=2π(Hx;+Ky;+Lz;)結(jié)構(gòu)因子的計(jì)算晶胞合成振幅●
結(jié)
構(gòu)因
子
為
:●可將復(fù)數(shù)展開(kāi)成三角函數(shù)形式f1j由此
可
計(jì)
算
各
種晶
胞
的
結(jié)
構(gòu)
因
子第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度Xj,y;,Zj●
從公式看蛔與H原K子I:AL●61第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度一個(gè)晶胞對(duì)X
射線的衍射●簡(jiǎn)單點(diǎn)陣只由一種原子組成,每個(gè)晶胞只有一個(gè)原子,
它分布在晶胞的頂角上,單位晶胞的散射強(qiáng)度相當(dāng)于一
個(gè)原子的散射強(qiáng)度。簡(jiǎn)單單胞雖然折合只有一個(gè)原子,但其實(shí)它分為8份在8個(gè)位置,
這8份原子之間存在位相差。一個(gè)原子散射振幅Aa=fA簡(jiǎn)單單胞的散射振幅Aa=fA對(duì)?62lb=leIF|2●
該種點(diǎn)陣其結(jié)構(gòu)因數(shù)與HKL
無(wú)關(guān),即HKL如(1
0
0
)、(110)、(111)、
(200)、計(jì)算晶胞結(jié)構(gòu)因子步驟1、確定單胞中離子的坐標(biāo)2、寫(xiě)出結(jié)構(gòu)因子計(jì)算通式3、按坐標(biāo)和離子散射因子代入4、計(jì)算并討論消光情況。第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度FH=f
cos2π(0)+if
sin
2π(0)=f為任意整數(shù)時(shí)均能產(chǎn)生衍射,例(210)…?!?/p>
單胞中只有
一
個(gè)原子,其坐標(biāo)為(0,0,0),原子散射因數(shù)為f,根據(jù)式:結(jié)構(gòu)因子的計(jì)算-簡(jiǎn)單點(diǎn)陣63第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度結(jié)構(gòu)因子的計(jì)算----簡(jiǎn)單點(diǎn)陣●
單胞中各頂角原子,其坐標(biāo)為(0,0,0),(0,0,1),(0,1,0),(1,0,0),(0,1,1),(1,0,1),(1,1,0),(1,1,1)FHKL=f?
為什么兩種算法結(jié)論一樣?⑩平移等價(jià)位置可折合到一個(gè)位置。lb=le
|F|2
過(guò):平移晶胞常數(shù)重合
64位置間可以通平移等價(jià)位置第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度單胞內(nèi)位置種類(lèi)數(shù)及位置坐標(biāo)●
單胞中各頂角原子,其坐標(biāo)為(0,0,0),(0,0,1),(0,1,0),(1,0,0),(0,1,1),(1,0,1),(1,1,0),(1,1,1)FHKL=f
⑩平移等價(jià)位置可折合到一個(gè)位置。平移等價(jià)位置:位置間可以通過(guò)平移晶胞常數(shù)重合簡(jiǎn)單立方可認(rèn)為有一種位置體心立方有兩種位置:1、單胞中原子數(shù)確定位置種類(lèi)數(shù)位置種類(lèi)數(shù)及位置坐標(biāo)確定思路2、平移等價(jià)規(guī)則確定坐標(biāo)體心(1/2,1/2,1/2)體心立方有幾種位置?頂角(0,0,0)和65第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度結(jié)構(gòu)因子的計(jì)算----體心立方點(diǎn)陣●單胞中有兩種位置的原子,即頂角原子,其坐標(biāo)為
(0,0,0)及體心原子,其坐標(biāo)為
(1/2,1/2,1/2)=f[1+cos
π(H+K+L)]lb=le
|F|2661
)
當(dāng)H+K+L=
奇數(shù)
時(shí)
,F(xiàn)HKL|=f(1-1)=0
b=le|F|2=0即該晶面的散射強(qiáng)度為零,這些晶面的衍射線不可能出現(xiàn),*例如(100)、(111)、
(210)、
(300)、
(311)等。2
)當(dāng)H+K+L=偶數(shù)時(shí),F(xiàn)HKL|=f(1+1)=2f,即體心點(diǎn)陣只有指數(shù)之和為偶數(shù)的晶面可產(chǎn)生衍射,*
例
如(
1
1
0
)
、(200)、
(211)、
(310)…。第
二
章X射線衍射理論——衍射強(qiáng)度計(jì)算晶胞結(jié)構(gòu)因子步驟1、確定單胞中離子的坐標(biāo)2、寫(xiě)出結(jié)構(gòu)因子計(jì)算通式FHL=f[1+cosπ(H+K+L)]
3、按坐標(biāo)和離子散射因子代入4、計(jì)算并討論消光情況。67結(jié)構(gòu)因子的計(jì)算----面心點(diǎn)陣面
心單胞中有四種位置的原子,坐標(biāo)分別是計(jì)算晶胞結(jié)構(gòu)因子步驟1、確定單胞中離子的坐標(biāo)2、寫(xiě)出結(jié)構(gòu)因子計(jì)算通式3、按坐標(biāo)和離子散射因子代入4、計(jì)算并討論消光情況。第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度(0
0,0)、(0,1/2,1/2)、(1/2,0,1/2)、(1/2,1/2,0)
68第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度Fm=f[1+cos
π(K+L)+cos
π(H+K)+cos
π(H+L)]1)當(dāng)H
、K
、L全為奇數(shù)或全為偶數(shù)時(shí)FHKZ
=f(1+1+1+1)=4f
lb=le|F|2=16f2le2)當(dāng)H、K、L為奇偶混雜時(shí)(2個(gè)奇數(shù)1個(gè)偶數(shù)或2個(gè)偶數(shù)1個(gè)奇數(shù))FHKL=f(1-1+1-1)=0
b=le|F|2=0即面心立方點(diǎn)陣只有指數(shù)為全奇或全偶的晶面才能產(chǎn)生衍射,例如(111)
、
(2
00)、(220)、(311)、(222)、(400)…。69第二章X
射線衍射
晶
胞
中
不
是
同
種
原
子
時(shí)
-
-
-
結(jié)
(a)
(b)由異類(lèi)原子組成的物質(zhì)
I.I
Lル
人Au恤
計(jì)
h因數(shù)的計(jì)算與上
述
大體相
同
,
(
a)無(wú)序的固溶體;(b)Cu?AuI超結(jié)構(gòu)
有別,致使衍射線條分
布
會(huì)
有
較大的差異。AuCu?
是一典型例子,在395℃以上是無(wú)序固溶體,每
個(gè)原子位置上發(fā)現(xiàn)Au
和Cu
的幾率分別為0.25和0.75,這個(gè)
平均原子的原子散射因數(shù)f
平均=0.25fAu+0.75fCu。無(wú)序態(tài)時(shí)
,AuCu?遵循面心點(diǎn)陣消光規(guī)律,在395℃以下,AuCu?
便是有序態(tài),此時(shí)Au
原子占據(jù)晶胞頂
角位置,
Cu
原子則占據(jù)面心位置。Au
原子坐標(biāo)(000),
Cu
原
子
坐標(biāo),
(0,1/2,1/2)、
(1/2,0,1/2)、(1/2,1/2,0),5%CuCu25%Au,25%Au+75%Cu
合金的晶體結(jié)構(gòu)70第
二
章
X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度在395℃以下,AuCu?有序態(tài),計(jì)算其結(jié)構(gòu)因子Fm=f[1+cosπ(K+L)+cosπ(H+K)+cosπ(H+L)]FHKL=fAu+faucosπ(K+L)+fucosπ(H+K)+fcucosπ(H+L)不同原子散射因子代入F
公式,其結(jié)果是:FHKZ=(fAu-fcu)≠0(a)(b)光而失去的衍射線再出現(xiàn),這些●
Cu
Au
25%Au,75%Cu25%Au+75%Cu
合金的晶體結(jié)構(gòu)(a)無(wú)序的固溶體;
(b)Cu?Au
I
超結(jié)構(gòu)居超點(diǎn)陣線條的出現(xiàn)及其強(qiáng)度可
測(cè)定有序度。時(shí),F(xiàn)Hm=(fau+3fa)71FHK=fAu+fa.cosπ(K+L)+fucosπ(H+K)+faucosπ(H+L)不同原子散射因子代入FHm
公式,其結(jié)果是:1)當(dāng)H、K、L全奇或全偶時(shí),F(xiàn)HK
=(fAu
+3fcu)2)當(dāng)H、K、L奇偶混雜時(shí),
FHK=(fAu-fau)≠0AuCu?
有序態(tài)時(shí)Au
原子占據(jù)晶胞頂角位置,
Cu原子則占據(jù)面心位置。
Au
原子坐標(biāo)(000),Cu
原子坐標(biāo),
(0,1/2,1/2)、(1/2,0,1/2)、
(1/2,1/2,0),*
有序化使無(wú)序固溶體因消光而失去的衍射線再出現(xiàn),這些
被稱(chēng)為超點(diǎn)陣衍射線。根據(jù)超點(diǎn)陣線條的出現(xiàn)及其強(qiáng)度可
判斷有序化的出現(xiàn)與否并測(cè)定有序度。1、確定單胞中離子的坐標(biāo)2、寫(xiě)出結(jié)構(gòu)因子計(jì)算通式3、按坐標(biāo)和離子散射因子代入4、計(jì)算并討論消光情況。在395℃以下,AuCu?有序態(tài),計(jì)算其結(jié)構(gòu)因子72氯化鈉晶胞---結(jié)構(gòu)因子的計(jì)算單胞中Cl有四種位置,坐標(biāo)分別是(0,0,0)(0,1/2,1/2)、
(1/2,0,1/2)、(1/2,1/2,0)單胞中Na+
有
四種位置,它們的坐標(biāo)分別是(1/2,1/2,1/2)、(0,0,1/2)、(1/2,0,0)、(0,1/2,0)1、確定單胞中離子的坐標(biāo)2、寫(xiě)出結(jié)構(gòu)因子計(jì)算通式3、按坐標(biāo)和離子散射因子代入4、計(jì)算并討論消光情況。第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度空間點(diǎn)陣
下晶胞NaCl品胞氯化鈉晶胞---結(jié)構(gòu)因子的計(jì)算單胞中Cl
有四種位置,坐標(biāo)分別是(0,0,0)(0,1/2,1/2)、
(1/2,0,1/2)、(1/2,1/2,0)單胞中Na+
有四種位置,它們的坐標(biāo)分別是(1/2,1/2,1/2)、(0,0,1/2)、(1/2,0,0)、(0,1/2,0)1、確定單胞中離子的坐標(biāo)2、寫(xiě)出結(jié)構(gòu)因子計(jì)算通式3、按坐標(biāo)和離子散射因子代入4、計(jì)算并討論消光情況。第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度FHKL=FNa+Fcl1、確定單胞中離子的坐標(biāo)氯化鈉晶胞---結(jié)構(gòu)因子的計(jì)算2、寫(xiě)出結(jié)構(gòu)因子計(jì)算通式3、按坐標(biāo)和離子散射因子代入FHKL=FNa+Fcl4、計(jì)算并討論消光情況。討論:1、當(dāng)H、K、L
全
奇
,F(xiàn)=4fcL-4fNa2、當(dāng)H、K、L全
偶
,F(xiàn)=4fcL+4fNa3、當(dāng)H、K、L奇偶混雜,F(xiàn)=0FHKL=fNa[cosπ(H+K+L)+cos
Lπ+cos
Hπ+cos
Kπ]+fci[cos(0)+cosπ(K+L)+cosπ(H+L)+cosπ(H+K)]第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度衍射削弱
衍射最強(qiáng)
發(fā)生消光三種晶體可能出現(xiàn)衍射的晶面●簡(jiǎn)單點(diǎn)陣:什么晶面都能產(chǎn)生衍射●體心點(diǎn)陣:指數(shù)和為偶數(shù)的晶面●
面心點(diǎn)陣:指數(shù)為全奇或全偶的晶面●由上可見(jiàn)滿足布拉格方程只是必要條件。第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度然110111200210211220300,221310311222320321400410,322411,330331420234568910111213141617181920簡(jiǎn)
單體心面心ml76HEXAGONALa=b≠Cα=β=90°y=120°按照每個(gè)陣點(diǎn)在空間分布必須具有完全相同的周?chē)h(huán)境(surrounding)如鎂、鋅都是密排六方結(jié)構(gòu),但這不是空間點(diǎn)陣4.晶體結(jié)構(gòu)與空間點(diǎn)陣密排六方晶體結(jié)構(gòu)與簡(jiǎn)單六方點(diǎn)陣的關(guān)系HEXAGONAL第
二
章X
射線衍射理論——&=β=90y=120°結(jié)構(gòu)因子的計(jì)算
-
-
-
-
密排六方單
胞中
有
兩
種
位
置
的
原
子
,它
們
的
坐
標(biāo)
分
別
是(
0
,
0
,
0
)
、(
1
/
3
,
2
/
3
,
1
/
2
)Z=a+bi(a,b
均為實(shí)數(shù))的數(shù)稱(chēng)為復(fù)數(shù)cos2α=2cos2α-1z|=[a2+b2]“78第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度結(jié)構(gòu)因子的計(jì)算----密排六方1
)當(dāng)H+2K=3n
、L=
奇數(shù)時(shí)|FHKLl=0
消光2)其他情況不消光79衍射峰的形狀——晶體缺陷小晶粒內(nèi),
晶格位向也并非完全一致,而是
存在著許多尺寸很小,位向差很
小的小
晶塊,它們相互鑲嵌形成晶粒,稱(chēng)為
亞晶粒第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度半峰寬:在衍射峰強(qiáng)度一半的位置,衍射峰的寬度,用β表示。批
晶面衍射角度θ?~θ?20(degree)第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度衍射峰的形狀——晶粒大小晶粒尺寸也會(huì)影響衍射峰的半峰寬謝樂(lè)公式:
β=N/(Lcosθ)
β半
高
寬
,λX射線波長(zhǎng)L晶粒尺寸,θ衍射角L=N/(βcosθ)可通過(guò)謝樂(lè)公式估算晶粒尺寸大小衍射峰的形狀一一晶體形狀●
片狀晶體--棒狀●
棒狀晶體
-
-
盤(pán)狀●
球狀晶體一一點(diǎn)狀●
點(diǎn)狀晶體
-
-
球狀第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度圖倒易陣點(diǎn)因樣品晶體的形狀和尺寸而
擴(kuò)展(G
為陣點(diǎn)中心)樣品晶體倒易陣點(diǎn)82第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度一個(gè)晶體對(duì)X射線的衍射
晶胞衍射強(qiáng)度lb=le
|F|2●一個(gè)小晶體可以看成由晶胞在三維空間周期重復(fù)排列而成。因此,在
求出一個(gè)晶胞的散射波之后,按位相對(duì)所有晶胞的散射波進(jìn)行疊加,就得到整個(gè)晶體的散射波的合成波,即得到衍射線束。In=IeF2G2*
上式中G2
:稱(chēng)干涉函數(shù)或形狀因子,IM
為小晶體的衍射強(qiáng)
度。83第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度粉末多晶體的衍射強(qiáng)度●勞厄法的波長(zhǎng)是變化的所以強(qiáng)度隨波長(zhǎng)而變。其它方
法的波長(zhǎng)是單色光,不存在波長(zhǎng)的影響?!裎覀冞@里只討論最廣泛應(yīng)用的粉末法的強(qiáng)度問(wèn)題,在
粉末法緯檄周衍射強(qiáng)度的因子有如下五項(xiàng)(2)角因子(包括極化因子和羅侖茲因子)(3)多重性因子(4)吸收因子(5)溫度因子84第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度(1)結(jié)構(gòu)因子和形狀因子這個(gè)問(wèn)題已經(jīng)述及,就是前面公式所表達(dá)的In=I.F2G2(2)角因子
-
-
(羅侖茲因子)因?yàn)閷?shí)際晶體不一定是完整的,存在大小、厚薄、形
狀等不同;另外X
射線的波長(zhǎng)也不是絕對(duì)單一,入射束之
間也不是絕對(duì)平行,而是有一定的發(fā)散角。這樣X(jué)
射線衍
射強(qiáng)度將受到X射線入射角、參與衍射的晶粒數(shù)、衍射角
的大小等因素的影響。85第二章
X
射線衍射理論——衍參與衍射的晶粒數(shù)目的影響理想情況下,參與衍射的晶粒數(shù)是無(wú)窮多個(gè)。由
于晶粒的空間分布位向各異,
某個(gè)
(hkl)
晶面的衍射線
構(gòu)成一個(gè)反射圓錐。由于θ角的發(fā)散,導(dǎo)致圓
錐具有一
定厚度。以一球面與圓錐相截,交線是球面上的一個(gè)環(huán)
帶。環(huán)帶的面積和球的面積之比就是參與衍射的晶粒百
分
數(shù)
。圖某反射圓錐的晶面法線分布86△θ(90-0B)20g反射球以O(shè)`
為球心,1/λ為半徑的球面。
圖某反射圓錐的晶面法線分布倒易球以O(shè)為球心,以倒易矢量為半徑的球面。你認(rèn)為這個(gè)球面應(yīng)該指的是哪個(gè)球面?反射球集結(jié)了所有晶面的所
有取向的所有可能衍射位置。倒易球集結(jié)了特定晶面族的
所有取向的所有可能衍射位
置
。環(huán)帶的面積和球的面積之比就是參與衍射的晶粒百分?jǐn)?shù)。第二章X
射線衍射理論——環(huán)帶的面積和球的面積之比就是參與衍射的
晶粒百分?jǐn)?shù)。球的面積指的是倒易球還是反射球?第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度衍射線位置對(duì)強(qiáng)度測(cè)量的影響在德拜照相法中,底片與衍射圓錐相交構(gòu)成感光弧
對(duì),這只是上述環(huán)帶中的一段。這段弧對(duì)上的強(qiáng)度顯然與1/sin20成正比。不同環(huán)帶周長(zhǎng)不同假定衍射強(qiáng)度一定,單位長(zhǎng)度衍射強(qiáng)度=總強(qiáng)度/周長(zhǎng)圓環(huán)周長(zhǎng)=2
N*
半徑=27*
R
sin(20)圖德拜法中衍射圍錐和底片的交線88第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度(2)角因子將上述幾種因素合并在一起,洛倫茲因數(shù)有(1/sin20)(cosθ)
(1/sin20)=cosθ/sin220=
1/4sin2θcosθ與極化因子合并,則有:φ(θ)=(1+cos220)/sin20cosθ這就是羅侖茲極化因子。它是θ的函數(shù),所以又叫角因子。89第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度(3)
多重性因子對(duì)多晶體試樣,因同一{HKL}
晶面族的各晶面
組面間距相同,由布拉格方程知它們具有相同的,其
衍射線構(gòu)成同一衍射圓錐的母線。通常將同一晶面族中等同晶面組數(shù)P稱(chēng)為衍射強(qiáng)
度的多重性因數(shù)。
顯然,在其它條件相間的情況下,多重性因數(shù)越大,則參與衍射的晶粒數(shù)越多,或者說(shuō),每一晶粒參與衍射的幾率越多。(100)晶面族的P為6(111)晶面族的P
為8(110)晶面族的P
為1290第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度(4)吸收因子x射線在試樣中穿越,必然有一些被試樣所吸收。試樣的形狀各異,x
射線在試樣中穿
越的路徑不同,被吸收的程度也就各異。1.圓柱試樣的吸收因素,反射和背反射的吸收不同。所以這樣的吸收與θ有關(guān)。2.平板試樣的吸收因素,在入射角與反射角相等時(shí),吸收與θ無(wú)關(guān)。91第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度(5)
溫度因子●原子本身是在振動(dòng)的,當(dāng)溫度升高,原子振動(dòng)加劇,必然給衍射帶來(lái)影響:1.晶胞膨脹;2.衍射線強(qiáng)度減??;
3.產(chǎn)生非相干散射。●綜合考慮,得溫度因子為:e-2M923.SS
了
吸收因于*
衍第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度*
德拜法的衍射相對(duì)強(qiáng)度
溫度因子93(1)存在織構(gòu)時(shí),衍射強(qiáng)度公式不適用!(2)對(duì)于粉末試樣或多晶體材料,如果晶粒尺寸粗大,
會(huì)引起強(qiáng)度的衰減,此時(shí)強(qiáng)度公式不適用第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度衍射強(qiáng)度公式的適用條件94第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度第二章作業(yè):1、闡述g*矢量的兩個(gè)性質(zhì),并加以證明。2、深入討論布拉格方程及其兩種技術(shù)應(yīng)用3、綜合闡述勞埃方程、布拉格方程、衍射矢量方程及埃瓦爾德圖解法的聯(lián)系與差異。4、綜合辨析原子散射因子和晶胞結(jié)構(gòu)因子5、AuCu?
在395℃以上是無(wú)序固溶體時(shí)是面心點(diǎn)陣晶胞,每個(gè)原子位置上發(fā)現(xiàn)Au和Cu的幾率分別為0.25和0.75。在395℃以下,AuCu?是有序態(tài),此時(shí)Au原子占據(jù)晶胞頂角位置,Cu原子則占據(jù)面心位
置。分別計(jì)算有序態(tài)和無(wú)序態(tài)兩種結(jié)構(gòu)因子,并辨析討論消光規(guī)律差異。95第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度習(xí)題1鋁為面心立方點(diǎn)陣,
a=0.409nm,現(xiàn)用CrK(=0.209
)照射周轉(zhuǎn)面心立方的鋁晶體,X射線垂直于(001),試用埃瓦爾德圖解法原理判斷下列晶面有無(wú)可能參與衍射:(111),(200),(220),(311),(331),(420)涉及知識(shí)點(diǎn):埃瓦爾德球圖解,倒易矢量,晶面間距公式埃瓦爾德球半徑r=1/λl
g*hkI=1/dhkll
g*hI
<2r=2/λd
>λ/2d?00>λ/2=0.1045第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度習(xí)題2簡(jiǎn)要總結(jié)衍射強(qiáng)度的整體分析思路和晶體結(jié)構(gòu)衍射強(qiáng)度計(jì)算要點(diǎn)衍射強(qiáng)度的整體分析思路:?jiǎn)蝹€(gè)電子衍射強(qiáng)度單個(gè)原子衍射強(qiáng)度
單個(gè)晶胞衍射強(qiáng)度
單個(gè)晶體衍射強(qiáng)度簡(jiǎn)單點(diǎn)陣衍射強(qiáng)度本質(zhì)上是單個(gè)原子的衍射強(qiáng)度復(fù)雜點(diǎn)陣單胞內(nèi)多個(gè)原子,衍射強(qiáng)度是多個(gè)原子的合成振幅的結(jié)果lb=le
|F|2通過(guò)確定單胞內(nèi)原子種類(lèi)及坐標(biāo),確定結(jié)構(gòu)振幅,進(jìn)而算出結(jié)構(gòu)因子,得出衍射強(qiáng)度第二章X
射線衍射理論——衍射強(qiáng)度習(xí)題3計(jì)算結(jié)構(gòu)因數(shù)時(shí),基點(diǎn)的選擇原則是什么?如計(jì)算面心立方點(diǎn)陣,選擇
(0,0,0)
、(1,1,0)、(0,1,0)與(1,0,0)四個(gè)原子是否可以?計(jì)算結(jié)構(gòu)因數(shù)時(shí),基點(diǎn)的選擇原則是:①個(gè)數(shù)一致:晶胞中選取基點(diǎn)的個(gè)數(shù)必須與晶胞中含有的原子個(gè)數(shù)相一致。②位置各異:在基點(diǎn)的選擇
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