標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 45974-2025 精細陶瓷 晶粒尺寸和尺寸分布的測定方法》是一項國家標(biāo)準(zhǔn),專門針對精細陶瓷材料中晶粒大小及其分布情況的測量技術(shù)進行了規(guī)范。該標(biāo)準(zhǔn)適用于通過顯微鏡觀察、圖像分析等手段對精細陶瓷材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)進行研究時,確定其晶粒的具體尺寸及這些晶粒在材料中的分布特性。
標(biāo)準(zhǔn)首先定義了相關(guān)術(shù)語與定義,包括但不限于“晶粒”、“平均晶粒尺寸”等關(guān)鍵概念,為后續(xù)內(nèi)容的理解奠定了基礎(chǔ)。接著介紹了幾種常見的晶粒尺寸測量方法,如線截法、面積法以及體積法,并詳細說明了每種方法的操作步驟、適用范圍及其優(yōu)缺點。此外,還特別強調(diào)了樣品制備過程中需要注意的問題,比如如何正確地切割、拋光以保證觀測面能夠真實反映材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)而不受外界因素干擾。
對于數(shù)據(jù)分析部分,《GB/T 45974-2025》給出了具體指導(dǎo)原則,包括數(shù)據(jù)處理軟件的選擇建議、統(tǒng)計學(xué)方法的應(yīng)用等,旨在幫助使用者準(zhǔn)確計算出晶粒尺寸的平均值、標(biāo)準(zhǔn)偏差等重要參數(shù)。同時,也提到了如何根據(jù)獲得的數(shù)據(jù)繪制晶粒尺寸分布曲線圖,以便更直觀地展示不同尺寸晶粒的數(shù)量比例關(guān)系。
最后,該標(biāo)準(zhǔn)還涵蓋了質(zhì)量控制方面的要求,明確了實驗室內(nèi)應(yīng)建立的質(zhì)量管理體系框架,確保測試過程符合既定標(biāo)準(zhǔn),結(jié)果具有可重復(fù)性和可靠性。這不僅有助于提高單次實驗的有效性,也為行業(yè)內(nèi)不同機構(gòu)間的數(shù)據(jù)對比提供了可能。
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....
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- 即將實施
- 暫未開始實施
- 2025-08-01 頒布
- 2026-02-01 實施
文檔簡介
ICS8106030
CCSQ.30.
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T45974—2025
精細陶瓷晶粒尺寸和尺寸分布的
測定方法
Fineceramics—Methodfordeterminationofgrainsizeandsizedistribution
ISO13383-12012Fineceramicsadvancedceramicsadvancedtechnical
[:,(,
ceramics—Microstructuralcharacterization—Part1Determinationof
):
rainsizeandsizedistributionMOD
g,]
2025-08-01發(fā)布2026-02-01實施
國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布
國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
GB/T45974—2025
目次
前言
…………………………Ⅲ
范圍
1………………………1
規(guī)范性引用文件
2…………………………1
術(shù)語和定義
3………………1
意義和用途
4………………2
儀器設(shè)備
5…………………3
切割設(shè)備
5.1……………3
固定設(shè)備
5.2……………3
研磨和拋光設(shè)備
5.3……………………3
腐蝕設(shè)備
5.4……………3
顯微鏡
5.5………………3
直尺或標(biāo)尺
5.6…………………………4
圓模板
5.7………………4
樣品制備
6…………………4
取樣
6.1…………………4
樣品切割
6.2……………4
樣品固定
6.3……………4
研磨和拋光
6.4…………………………4
腐蝕
6.5…………………4
顯微結(jié)構(gòu)拍攝
7……………4
通則
7.1…………………4
光學(xué)顯微鏡拍攝
7.2……………………5
掃描電子顯微鏡拍攝
7.3………………5
顯微結(jié)構(gòu)照片校準(zhǔn)
7.4…………………5
顯微結(jié)構(gòu)測定
8……………5
通則
8.1…………………5
方法
8.2A1……………6
方法
8.3A2……………6
方法
8.4B………………6
自動或半自動圖像分析
8.5……………7
統(tǒng)計
9………………………7
方法
9.1A1……………7
方法
9.2A2……………8
Ⅰ
GB/T45974—2025
方法
9.3B………………8
不確定性分析
10……………8
試驗報告
11…………………9
附錄資料性研磨和拋光程序
A()………………………11
附錄資料性腐蝕方法
B()………………12
附錄資料性光學(xué)顯微鏡中科勒照明設(shè)置
C()…………13
目的
C.1…………………13
定義
C.2…………………13
科勒照明設(shè)置
C.3………………………13
附錄資料性晶粒尺寸分布的測量
D()…………………14
方法
D.1A2……………14
方法
D.2B……………14
附錄資料性方法的比對試驗
E()A1…………………15
附錄資料性方法的比對試驗
F()B……………………16
參考文獻
……………………17
Ⅱ
GB/T45974—2025
前言
本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)定
GB/T1.1—2020《1:》
起草
。
本文件修改采用精細陶瓷先進陶瓷先進技術(shù)陶瓷微觀結(jié)構(gòu)表征第部
ISO13383-1:2012《(、)1
分晶粒尺寸和尺寸分布的測定
:》。
本文件與的技術(shù)差異及原因如下
ISO13383-1:2012:
增加了本文件適用范圍適應(yīng)我國技術(shù)條件見第章
———,(1);
更改了術(shù)語的符號使其更加規(guī)范見
———,(3.3、3.4、3.5);
增加了金剛石磨料粒度適應(yīng)我國技術(shù)條件便于試驗開展見
———,,(5.1);
增加了使用掃描電子顯微鏡進行微結(jié)構(gòu)拍照的要求使試驗過程更加嚴(yán)謹(jǐn)見
———,(7.1);
用規(guī)范性引用的代替了見第章
———GB/T27025ISO/IEC17025(11)。
本文件做了下列編輯性改動
:
為與現(xiàn)有標(biāo)準(zhǔn)協(xié)調(diào)將標(biāo)準(zhǔn)名稱改為精細陶瓷晶粒尺寸和尺寸分布的測定方法
———,《》;
增加了平均線性截距晶粒尺寸定義的注見
———(3.2);
刪除了中第章的注
———ISO13383-1:20124;
刪除了中的注
———ISO13383-1:20125.1、7.1;
刪除了中和的注
———ISO13383-1:20127.4.28.5;
刪除了中第章的注
———ISO13383-1:2012114;
刪除了的附錄資料性
———ISO13383-1:2012G()。
請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機構(gòu)不承擔(dān)識別專利的責(zé)任
。。
本文件由中國建筑材料聯(lián)合會提出
。
本文件由全國工業(yè)陶瓷標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口
(SAC/TC194)。
本文件起草單位中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所中廣核研究院有限公司山東工業(yè)陶瓷研究設(shè)計
:、、
院有限公司武漢理工大學(xué)蘇州國家實驗室鄭州中瓷科技有限公司國投陶瓷基復(fù)合材料研究院
、、、、
西安有限公司山東國瓷功能材料股份有限公司廈門鉅瓷科技有限公司深圳職業(yè)技術(shù)大學(xué)中國國
()、、、、
檢測試控股集團股份有限公司東華大學(xué)上海工程技術(shù)大學(xué)
、、。
本文件主要起草人王新剛王銘王小飛薛佳祥鄒冀陳曉鮑偉超李飛蔣丹宇陳常祝趙升升
:、、、、、、、、、、、
吳利翔劉洋吳崇雋魯慧峰郭楚楚王卿崔明山萬德田包亦望吳永慶崔爽呂松澤張國軍
、、、、、、、、、、、、、
袁建輝尹維玲姜維高建華李蕾
、、、、。
Ⅲ
GB/T45974—2025
精細陶瓷晶粒尺寸和尺寸分布的
測定方法
1范圍
本文件描述了使用樣品拋光并腐蝕后顯現(xiàn)出晶界的顯微結(jié)構(gòu)照片來測定精細陶瓷晶粒尺寸的手工
測量方法本方法不能得到真實的平均晶粒尺寸而是得到一個略小的參數(shù)具體取決于用于分析二維
。,,
截面的方法本方法測定結(jié)果與真實晶粒尺寸的關(guān)系取決于晶粒形狀和微觀結(jié)構(gòu)的各向異性程度本
。。
文件包含兩類方法方法和方法
:AB。
方法是平均線性截距法分為方法和方法方法適用于單相致密陶瓷以及主要晶
A,A1A2。A1,
相和玻璃晶界相體積分?jǐn)?shù)小于約的陶瓷此時截距計數(shù)已足夠方法適用于孔隙或第二相體積
5%,。A2
分?jǐn)?shù)大于約的陶瓷或具有多個主要晶相的陶瓷此時需要測量單個截距長度并可選擇用于尺寸
5%,,,
分布的測定方法基于區(qū)分氣孔或物相之間顯微結(jié)構(gòu)差異分別計算得到其平均線性截距
。A2。
注給出了第二相體積分?jǐn)?shù)的測定方法
:ISO13383-2。
方法為平均等效圓直徑法該方法適用于所有類型的陶瓷材料無論是否存在第二相晶粒尺
B,()
寸晶粒長徑比和尺寸分布的測定
、。
一些用戶對顯微照片或直接捕獲的顯微結(jié)構(gòu)圖像應(yīng)用自動或半自動圖像分析只要所采用的技術(shù)
溫馨提示
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