儀器分析 課件 4.3 溶出伏安分析法_第1頁
儀器分析 課件 4.3 溶出伏安分析法_第2頁
儀器分析 課件 4.3 溶出伏安分析法_第3頁
儀器分析 課件 4.3 溶出伏安分析法_第4頁
儀器分析 課件 4.3 溶出伏安分析法_第5頁
已閱讀5頁，還剩4頁未讀， 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權(quán)，請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

*第四章

伏安分析法第三節(jié)溶出伏安分析法4.3.1

基本原理4.3.2影響峰電流的因素4.3.3

操作條件選擇4.3.4應(yīng)用VoltammetryStrippingvoltammetry*4.3.1基本原理與過程它是集電解富集與伏安分析相結(jié)合的一種極譜分析技術(shù)。1.過程（1）被測物質(zhì)在適當(dāng)電壓下恒電位電解，還原沉積在陰極上。（2）施加反向電壓，使還原沉積在陰極(此時變陽極)上的金屬離子氧化溶解，形成較大的峰電流。（3）峰電流與被測物質(zhì)濃度成正比，定量依據(jù)。（4）檢出限一般可達(dá)10-8～10-9

mol·L-1。（5）信號呈峰形，便于測量，可同時測量多種金屬離子。*2.Cu2+、Pb2+、Cd2+

的溶出伏安圖*4.3.2影響溶出峰電流的因素

化學(xué)計量：被測物完全電積在陰極上。精確性好，時間長。非化學(xué)計量(常用方法)：約2%～3%電積在陰極上。在攪拌下，電解富集一定時間。2.溶出過程

掃描電壓變化速率保持恒定。1.富集過程*4.3.3操作條件的選擇1.底液

一定濃度的電解質(zhì)溶液(鹽濃度增加，峰電流降低)。2.預(yù)電解電位

比半波電位負(fù)0.2～0.5V，或?qū)嶒灤_定。

3.預(yù)電解時間

預(yù)電解時間長可增加靈敏度,但線性關(guān)系差。

4.除氧

通N2或加入Na2SO3。*5.電極汞膜電極：銀電極或玻碳電極上鍍上一薄層汞，汞膜很薄，沉積的金屬濃度高，擴(kuò)散出來的速度快，用汞膜電極要比使用懸汞電極時的靈敏度高1～2個數(shù)量級。玻碳電極：

用一種玻璃態(tài)石墨制成的電極。懸汞電極：*4.3.4

溶出伏安分析法的應(yīng)用1.定量方法

測量峰高:標(biāo)準(zhǔn)曲線法:略標(biāo)準(zhǔn)加入法:*2.應(yīng)用（1）金屬元素測定不需分離可同時測定各種金屬離子，可測定約30多種元素。（2）檢出限10-8～10-9

mol·L-1。（3）應(yīng)用領(lǐng)域

化學(xué)、化工；食品衛(wèi)生；金屬腐蝕；環(huán)境檢測；超純半導(dǎo)體材料。*選擇內(nèi)容：結(jié)束4.1經(jīng)典極譜分析法

4.2現(xiàn)代極譜分析方法

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽，若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理，對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容，請與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

最新文檔

評論

0/150

提交評論