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文檔簡介
ICS31.080
CCSL40/49
團體標(biāo)準(zhǔn)
T/CASAS045—202X(征求意見稿)
碳化硅金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管
(SiCMOSFET)動態(tài)柵偏試驗方法
Dynamicgatestresstestmethodforsiliconcarbidemetal-oxide-
semiconductorfield-effect-transistor(SiCMOSFET)
(征求意見稿)
在提交反饋意見時,請將您知道的相關(guān)專利連同支持性文件一并附上。
XXXX-XX-XX發(fā)布XXXX-XX-XX實施
第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟發(fā)布
T/CASAS045—202X(征求意見稿)
引言
碳化硅(SiC)基功率金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)具有擊穿電壓高、導(dǎo)通電流大、開
關(guān)速度快、功率損耗小、高溫穩(wěn)定性好、驅(qū)動簡單等優(yōu)點,被認為是最具前景的功率半導(dǎo)體器件之一,
它具有能夠大幅提高現(xiàn)有電力系統(tǒng)的功率密度、效率、高溫工作能力以及抗輻射的能力,與此同時還降
低了系統(tǒng)的體積和重量,因此在電力電子、光伏發(fā)電、新能源等領(lǐng)域,都具有非常廣闊的應(yīng)用前景。SiC
MOSFET在各類動態(tài)過程中會出現(xiàn)各類物理變化的遲滯,從而發(fā)生由于內(nèi)部結(jié)構(gòu)與外電路的不匹配,或內(nèi)
部各結(jié)構(gòu)之間的不匹配而引發(fā)的應(yīng)力疊加,或瞬態(tài)失效問題。
特別的,在SiCMOSFET開關(guān)過程中,柵極在動態(tài)電壓應(yīng)力作用下會造成的電特性參數(shù)退化,其中閾
值電壓漂移是最嚴重的。在柵極應(yīng)力作用下的閾值電壓漂移量產(chǎn)生的機理包含不同部分,包括由于
SiC/SiO2界面固有的界面缺陷導(dǎo)致的閾值電壓漂移,由于柵氧層充電造成的閾值電壓漂移,這些閾值電
壓漂移一部分在釋放應(yīng)力后可恢復(fù),一部分是永久存在的退化。SiCMOSFET的動態(tài)柵偏試驗是器件承受
重復(fù)正負變換的柵電壓,以使柵極界面及近界面缺陷發(fā)生的俘獲和/或釋放過程。當(dāng)柵極電壓在快速變
換過程中,由于界面態(tài)或近界面陷阱的填充或釋放速度并不足以響應(yīng)外加偏置的切換速度,導(dǎo)致局部電
場增強。氧化層在這個過程中會承受高于外加?xùn)牌妷旱膽?yīng)力,從而使得閾值電壓相較于靜態(tài)偏壓漂移
更大。柵氧層中由于電子和空穴的復(fù)合所產(chǎn)生的能量,也會破壞其附近的鍵合,導(dǎo)致缺陷的引入。動態(tài)
柵偏試驗造成的器件柵極可靠性問題是多種失效機理的復(fù)合,其中偏置應(yīng)力與所施加偏置條件的高低
電平值、頻率、占空比、切換速度等參數(shù)有很大關(guān)系,從而影響了偏置試驗的閾值電壓的漂移。因此,
在規(guī)定應(yīng)力條件下進行閾值電壓漂移程度的測試,是評估器件在實際應(yīng)用中柵極可靠性的重要手段。
現(xiàn)有的SiCMOSFET動態(tài)柵偏試驗方法并未完全從傳統(tǒng)恒定應(yīng)力可靠性試驗方法中分離,在試驗條
件、方法以及參數(shù)等重要細節(jié)內(nèi)容沒有具體規(guī)范,從而影響對SiCMOSFET器件柵極可靠性的評估,本文
件給出了適用于SiCMOSFET器件的動態(tài)柵偏試驗方法。
III
T/CASAS045—202X(征求意見稿)
碳化硅金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(SiCMOSFET)動態(tài)柵偏試
驗方法
1范圍
本文件描述了碳化硅金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(SiCMOSFET)動態(tài)柵偏試驗方法,包括:試
驗條件、測試方法、應(yīng)用范圍以及失效判據(jù)。
本文件適用于對SiCMOSFET柵氧質(zhì)量的評估,主要包括芯片、分立器件、模塊。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中,注日期的引用文件,
僅該日期對應(yīng)的版本適用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本
文件。
GB/T4586半導(dǎo)體器件分立器件第8部分場效應(yīng)晶體管
T/CASAS006—2020碳化硅金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管通用技術(shù)規(guī)范
T/CASAS021—202X碳化硅金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(SiCMOSFET)閾值電壓測試方法
3術(shù)語和定義
T/CASAS006界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件。
柵源電壓gatetosourcevoltage
VGS
器件的柵極和源極之間的電壓。
柵源漏電流gate-sourceleakagecurrent
IGSS
柵極和源極之間的泄漏電流。
漏源電壓draintosourcevoltage
VDS
器件的漏極和源極之間的電壓。
閾值電壓thresholdvoltage
Vth
漏極電流達到規(guī)定低值時的柵源電壓。
閾值電壓漂移thresholdvoltageshift
?Vth
閾值電壓從試驗初始值到最終值的變化量。
1
T/CASAS045—202X(征求意見稿)
柵極電壓變化率gatevoltageratechange
dVg/dt
柵極在高電壓與低電壓之間的變換速率。
4試驗裝置
所使用的試驗裝置應(yīng)能夠提供和控制試驗范圍內(nèi)的電壓應(yīng)力、溫度和試驗時長。試驗裝置的主要組
成部分如下,見圖1:
圖1動態(tài)柵偏試驗裝置的主要組成部分
a)動態(tài)柵壓單元。動態(tài)柵偏試驗通過使樣品器件在重復(fù)高低變換的柵極電壓下來驅(qū)動器件開關(guān),
動態(tài)柵壓單元應(yīng)能滿足高低電壓變換的頻率、變化速率以及時長要求;
b)溫度控制單元。應(yīng)滿足可設(shè)置試驗過程中需要的樣品器件工況溫度條件,并維持此溫度穩(wěn)定時
長與試驗時長一致;
c)閾值電壓測試單元。應(yīng)滿足在動態(tài)柵偏試驗前后及過程中進行閾值電壓在線監(jiān)測的功能,并通
過數(shù)據(jù)收集系統(tǒng)同步記錄閾值電壓測量值;
注:建議動態(tài)柵偏試驗采用閾值電壓測試單元進行閾值電壓原位監(jiān)測,不做規(guī)定,具體解釋見附錄A。
d)數(shù)據(jù)收集系統(tǒng)。能夠記錄相關(guān)的試驗數(shù)據(jù),包括溫度、試驗時間、電參數(shù)測試信息和結(jié)果。
5試驗步驟
試驗方法
動態(tài)柵偏試驗方法是為了測試器件在高低切換的柵極應(yīng)力下閾值電壓漂移情況,并在試驗過程中
收集試驗數(shù)據(jù)。試驗步驟的主要組成包括,但不限于柵極電壓驅(qū)動變換、參數(shù)測試、溫度控制方法。
試驗電路
建議采用如圖2所示的SiCMOSFET的動態(tài)柵偏試驗電路。閾值電壓測試電路可選用圖4所示的閾值
電壓測試電路,或根據(jù)用戶實際需求以及設(shè)備能力進行選擇。
如圖2所示,在對樣品器件進行動態(tài)柵極電壓應(yīng)力施加過程中,高低變換的電壓應(yīng)力加在器件柵極
和源極兩端,此時漏極和源極短接。其中,柵極偏置電壓的波形示意圖如圖3所示,VH、VL為柵極偏置
的高、低電壓值,dVHdt、dVLdt為偏置電壓高低電壓切換速率,VH-surge、VL-surge為高低電壓切換時的
過沖值,推薦過沖不超過高低偏置電壓的3%。其中,90%至90%的電壓變化率為,90%至
??VLVHdVHdtVH
90%V的電壓變化率為dVdt。
LL?
如圖4所示,采用柵極和漏極短接的閾值電壓測試方法,測試電壓源通過柵源極接入電路。測試方
?
法可參考T/CASAS021。
2
T/CASAS045—202X(征求意見稿)
圖2動態(tài)柵偏試驗電路圖
圖3柵極偏置電壓波形示意圖
圖4閾值電壓測試電路圖
3
T/CASAS045—202X(征求意見稿)
試驗夾具及安裝
動態(tài)柵偏試驗裝置的構(gòu)成,包括被測器件、動態(tài)柵壓驅(qū)動、溫度調(diào)整以及閾值電壓測試電路等都會
對試驗結(jié)果有顯著的影響。動態(tài)柵偏試驗的參數(shù)測試應(yīng)盡可能反映樣品試驗的真實狀態(tài)值。
試驗條件
試驗柵極偏置電壓等條件的選擇應(yīng)根據(jù)產(chǎn)品的規(guī)格手冊,不應(yīng)超過產(chǎn)品的最大額定值,同時以縮短
試驗時間為原則。
試驗柵極開關(guān)頻率、占空比建議根據(jù)樣品實際應(yīng)用條件,在參數(shù)條件范圍內(nèi)選擇。柵偏循環(huán)可根據(jù)
循環(huán)次數(shù)或者時間進行參數(shù)設(shè)置,設(shè)置的值與試驗失效判定條件不沖突。試驗溫度如無特殊應(yīng)用需求,
建議設(shè)置為樣品器件的最高結(jié)溫和室溫。其中,室溫為必選項,高溫可作為選做項目。進行閾值電壓原
位監(jiān)測時,需要考慮進行監(jiān)測的周期,以實際數(shù)據(jù)需求為主,原則上不能影響整體的試驗時長和結(jié)果。
表1動態(tài)柵偏試驗條件
參數(shù)數(shù)值
柵偏循環(huán)次數(shù)≥1011
溫度a)器件最高結(jié)溫;b)室溫
柵壓設(shè)置
VH=VGSMAX,VL=VGSMIN
漏源電壓
VDS=0V(柵偏試驗時)
開關(guān)頻率f≥50kHz(占空比≥20%)
dVgdt≥1V/ns
acycle/10min(建議)
Vth監(jiān)測周期
a
使用閾值電壓監(jiān)測時考慮?
試驗設(shè)置
首先,在試驗前完成樣品的電參數(shù)測試,根據(jù)試驗樣品的應(yīng)用完成各個試驗參數(shù)的選擇,以柵偏循
環(huán)次數(shù)確定實驗時長時,在試驗參數(shù)確定后,保證樣品試驗溫度達到設(shè)定值。樣品電路連接為試驗電路
(VDS=0V)即可開始試驗。試驗過程中,監(jiān)測柵極電壓偏置值以及開關(guān)頻率等,直至試驗完成設(shè)置循
環(huán)。柵極偏置循環(huán)結(jié)束,進行閾值電壓移位測試。
其中,進行閾值電壓監(jiān)測時,在試驗開始前溫度設(shè)置前后各完成一次室溫及試驗溫度下的閾值電壓
原位測試,隨后開始試驗過程中的閾值電壓原位監(jiān)測。試驗完成時,保持試驗溫度及降溫后再各進行一
次閾值電壓原位測量。
試驗控制和測量
試驗的柵極偏置電平高低(VH、VL)、開關(guān)頻率、以及dVdt在試驗前后必須保持不變,直到試驗
結(jié)束。試驗過程中對I進行監(jiān)測。對閾值電壓進行原位監(jiān)控時,需滿足在試驗前后保持試驗條件一致。
GSS?
樣品測量包括但不限于電參數(shù)測試,測量過程應(yīng)按照產(chǎn)品的詳細規(guī)范進行。
試驗結(jié)束后器件電參數(shù)測量應(yīng)在器件從規(guī)定試驗條件下移出后盡快完成,測量完成時間不超過24h。
6試驗數(shù)據(jù)處理
失效判據(jù)應(yīng)包括但不限于表2內(nèi)的參數(shù),測試方法依據(jù)GB/T4586,測試條件按照產(chǎn)品規(guī)范測試常溫
下的參數(shù)變化,其余靜態(tài)參數(shù)如、、、,以及其它動靜態(tài)參數(shù)等,可根據(jù)具體需求選擇
IDSSBVDSSVSDgfS
測試。
4
T/CASAS045—202X(征求意見稿)
表2動態(tài)柵偏試驗方法的失效判據(jù)
失效判據(jù)
參數(shù)符號
(相對于初始值的變化率)
閾值電壓正負20%或規(guī)格手冊范圍
Vth
導(dǎo)通電阻Rdson正負20%或規(guī)格手冊范圍
500%;若初始值<10nA,則試驗后不
柵源漏電流I
GSS超過50nA
漏源漏電流IDSS500%
漏源擊穿電壓BVDSS正負20%或規(guī)格手冊范圍
7試驗報告
試驗報告至少應(yīng)給出以下幾個方面的內(nèi)容:
a)試驗樣品規(guī)格;
b)樣品數(shù)量批次;
c)試驗條件;
d)試驗時長或試驗開關(guān)次數(shù);
e)測量間隔時長;
f)試驗過程中參數(shù)監(jiān)測結(jié)果;
g)參數(shù)測試結(jié)果。
5
T/CASAS045—202X(征求意見稿)
A
A
附錄A
(資料性)
SiCMOSFET器件動態(tài)柵偏試驗記錄表
A.1SiCMOSFET器件動態(tài)柵偏試驗記錄表
試驗記錄表如圖A.1。
表A.1高溫柵偏測試試驗表示例
產(chǎn)品名稱
組別
型號規(guī)格
檢測項目環(huán)境條件
型號:
測試儀器
計量有效期
儀表
編號:
檢測依據(jù)
樣品數(shù)量
標(biāo)準(zhǔn)條款
試驗時間:
試驗溫度:
試驗條件
及技術(shù)要
偏置電壓V:偏置電壓V:
求DSGS
其余補充說明:
1.
2.
…
測試結(jié)果
樣品編號試驗前參數(shù)試驗后參數(shù)
已失效
(勾選)
IDSSIGSSrDS(on)VGS(th)V(BR)DSSIDSSIGSSrDS(on)VGS(th)V(BR)DSS
1□
2□
3□
…□
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