應(yīng)用化學(xué)專業(yè)試驗(yàn)講義

沈陽(yáng)理工大學(xué)環(huán)境與化學(xué)工程學(xué)院

3月

序言

為了愈加好的落實(shí)理論聯(lián)系實(shí)際的教學(xué)標(biāo)準(zhǔn)，鞏固和加深所學(xué)專業(yè)工藝基礎(chǔ)

理論知識(shí)的了解，加強(qiáng)實(shí)際操作技能的基本訓(xùn)練，提升學(xué)生分析問(wèn)題的能力，培

養(yǎng)合格的腐蝕和防護(hù)應(yīng)用型高級(jí)技術(shù)人才，依照本專業(yè)大綱和專業(yè)特點(diǎn)，編寫了

專業(yè)工藝試驗(yàn)講義。

本試驗(yàn)講義分三部分，上部分為電鍍與氧化工藝試驗(yàn)部分，由周琦編寫；中

冊(cè)為防銹與表面涂層試驗(yàn)部分，由郭賢烙編寫。下冊(cè)為涂料與涂裝工藝試驗(yàn)剖分,

由易翔、肖鑫編寫。

因?yàn)榫幷咚接邢蓿瑫r(shí)間倉(cāng)促，講義中缺陷和錯(cuò)誤在所難免，敬請(qǐng)各位讀者批評(píng)

指正，以便修改和完善。

編者

3月

目錄

試驗(yàn)一陰極電流效率的測(cè)定

試驗(yàn)二電鍍分散能力的測(cè)定

試驗(yàn)三覆蓋能力測(cè)定

試驗(yàn)四化學(xué)鍍銀

試驗(yàn)五赫爾槽試驗(yàn)

試驗(yàn)六鋁的陽(yáng)極氧化和電解著色

試驗(yàn)一陰極電流效率的測(cè)定

一、試驗(yàn)?zāi)繕?biāo)與內(nèi)容

通過(guò)試驗(yàn)了解電鍍工藝測(cè)定陰極電流效率最常用的措施，銅庫(kù)侖計(jì)的結(jié)構(gòu)和工作原理，

并學(xué)會(huì)使用，測(cè)定DE型鋅酸鹽鍍鋅液在不一樣電流密度下的陰極電流效率。

二、試驗(yàn)原理

電鍍過(guò)程中，陰極上除沉積欲鍍金屬外，往往還發(fā)生像氫禽子還原等副反應(yīng)，就會(huì)消耗

掉一部分電流，這就存在電流的利用率即電流效率的問(wèn)題。

電流效率就是在電極上析出某物質(zhì)，如鍍液，所需的電量，與通過(guò)電解槽的總電量之比,

常以百分率表示，即

依照法拉第的電解定律，當(dāng)直流電通過(guò)電解質(zhì)溶液時(shí)，在陰極上析出物質(zhì)的量與通過(guò)

的電量成正比，因此，析出某物質(zhì)所需要的電量可依照稱量析出物質(zhì)的質(zhì)量由電解定律求出

WnF

Q=K=AW

式中：Q—通過(guò)電解質(zhì)溶液的電量

W—析出物質(zhì)的重量g;

K—析出物質(zhì)的電化當(dāng)量g/Ah;

A—析出物質(zhì)的原子量;

n—電極反應(yīng)得失的電子數(shù)；

F-法拉第常數(shù)。

電流效率也等于電極上實(shí)際析出物質(zhì)的量（W）與依照通過(guò)的量按電解定律計(jì)算應(yīng)

得到該物質(zhì)的量（Wo）的之比，即

Hk=W/WoX100%（3）

Wo=KCb=（A/nF）Qo（4）

電鍍液中電流效率的大小反應(yīng)了通過(guò)鍍槽的電量的利用率。當(dāng)電流密度相同時(shí)，電流效

率越高，由該鍍液的陰極沉積的速度越快，即功效就高。不一樣的被種，或同一個(gè)被種不一

樣的配方電流效率都不一樣，電流效率是評(píng)定電鍍工藝優(yōu)劣的技術(shù)指標(biāo)之一。

電流效率可通過(guò)試驗(yàn)求出，由（1）、（2）式或（3）（4）式可知，只要測(cè)出物質(zhì)的重量

及通過(guò)電解槽的總電量就可求出電流效率。電解析出物質(zhì)的重量可用稱量的措施求出，而通

過(guò)的電晟則需要庫(kù)侖計(jì)（或電吊計(jì)）測(cè)出。

所謂庫(kù)侖計(jì)就是這么的電解槽，其中通過(guò)的電量與電極上析出物質(zhì)的重量符合電解定

律，即它的電流效率為100%,因此，能夠依照電極上析出物質(zhì)之重量計(jì)算電解槽中通過(guò)的

電量，其關(guān)系式為（2）式。

要求庫(kù)侖計(jì)必須具備下述條件：

（1）電極反應(yīng)中沒(méi)有副反應(yīng)；

（2）電解槽中沒(méi)有漏電現(xiàn)象：

（3）電極上析出的物質(zhì)能所有搜集起來(lái)而無(wú)怎樣損失。

庫(kù)侖計(jì)種類諸多，最常用的是銅庫(kù)侖計(jì)和銀庫(kù)侖計(jì)，銅庫(kù)侖計(jì)組成如下:

，密度

CuSO4-5H20125g/LH2so1.84)25ml/L

乙醉(95%)50ml/L

溶液中加入乙醇的目標(biāo)是預(yù)防Cu2++Cu-2Cu+反應(yīng)的發(fā)生。通過(guò)此庫(kù)侖計(jì)的

電量是稱量陰極銅片質(zhì)量來(lái)確定的。依照(2)式可得出庫(kù)侖計(jì)測(cè)量的電量；

Qo=(nF/A)?Wo=(2X26.8/63.54)?w。=w。/1.185(安時(shí))

式中：W—銅庫(kù)侖計(jì)陰極的增重。Qo—通過(guò)庫(kù)侖計(jì)陰極的總質(zhì)量

三、試驗(yàn)儀器及線路

1一銅庫(kù)侖計(jì)2,3,4—被測(cè)電鍍槽

K一開關(guān)A一直流電流表E一整流電源或直流電源

圖1電流效率測(cè)量電路圖

四、試驗(yàn)步驟

1.電極準(zhǔn)備，銅庫(kù)侖計(jì)的陰、陽(yáng)極為紫銅，鍍鋅槽陰極也使用銅片，測(cè)量鍍鋅槽陰

極片面積，分別做上標(biāo)識(shí)，然后用清水清洗，用電吹風(fēng)吹干，存儲(chǔ)在干燥器內(nèi)。

2.取銅庫(kù)侖計(jì)陰極一片和鍍鋅陰極三片(其面積比1：1/2：m)。先用臺(tái)秤稱取其大

體重量，再用分析天平分別稱重，并統(tǒng)計(jì)其重量。

3.將銅庫(kù)侖計(jì)溶液，鋅鍍液分別倒入各槽中，然后按圖1線路連接好，控制鍍鋅槽

所需的電流進(jìn)行電鍍，并統(tǒng)計(jì)其試驗(yàn)溫度。

4.通電20分鐘后，取出銅庫(kù)侖計(jì)和鍍鋅槽的陰極片，然后斷電，用水清洗潔得，用

電吹風(fēng)吹干試片，最后稱重，統(tǒng)計(jì)成果，即可計(jì)算出陰極電流效率。按上述步驟重

做一次，把統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)填好，在計(jì)算平均值。

5.清洗臺(tái)面，收拾儀器，保持臺(tái)面整潔潔凈。

五、數(shù)據(jù)處理

1.將試驗(yàn)數(shù)據(jù)列入下表，進(jìn)行電流效率的計(jì)算，并討論之。

n=Q/Qoxioo%=（Arnm/Km）/（Amcu/Kcu）xioo%

=Umm?Kcu）/（Amcu?Km）xioo%

Km=1.220g/A-h

Kcu=1.185g/A?h

鍍鋅陰極面積一dm）溫度一oc梧液成份一

7極試片增

\圖變化銅度侖計(jì)陰極（g）鍍鋅槽陰極（g）

通電前通電后增重通電前通電后增重HK

電流強(qiáng)重

重a重bWcu=b-a31重bibi-ai

lA/dm2

2A/dm2

3A/dm2

Z7=-^x100%=^x-^LxlOO%

%%必

KQ

Kcu=1.185g/AhK;u=1.220g/Ah

2.以Dk為槽軸，小為縱軸，做出陰極電流密度與陰極電流效率取兩次的平均值的

關(guān)系曲線。并討論電流效率與分散能力的關(guān)系。

六、思考題

1.若庫(kù)侖計(jì)或任一鍍鋅槽的陰極和陽(yáng)極接觸，對(duì)試驗(yàn)成果有何影響？

2.庫(kù)侖計(jì)的銅陰極片面積做得很大，為何？

3.停鍍后，若不及時(shí)從鍍鋅槽取出試片，會(huì)引起正偏低還是偏高？

試驗(yàn)二電鍍液分散能力的測(cè)定

試驗(yàn)?zāi)繕?biāo)和內(nèi)容

1.通過(guò)試驗(yàn)加深了解電鍍液分散能力的概念。

2.學(xué)會(huì)用彎曲陽(yáng)極化測(cè)定DE型酸鹽鍍鋅溶液的分散能力。

3.了解電液液成份對(duì)分散能力的影響。

二、試驗(yàn)原理

分散能力乂稱均鍍能力，它是指電鍍液所具備的使金屬在陰極表面上均勻分布的能力。

對(duì)電鍍不但要求結(jié)晶細(xì)致，與基體金屬結(jié)合牢靠，并且要求鍍層在各處厚度均勻。不過(guò)，在

電鍍中往往有凸出較厚，凹處太薄的不均勻現(xiàn)象。鍍層厚度的均勻性與電鍍液的電導(dǎo)、電流

效率及陰極極化等電化學(xué)原因，與電鍍時(shí)陰極的形狀、位置、電解槽形狀、大小等幾何原因

及基體金屬的形狀性質(zhì)有關(guān)。其中電化學(xué)原因是重要原因，因?yàn)殡婂円旱碾娀瘜W(xué)原因直接影

響到電流的分布，亦即影響到金屬鍍層的均勻性。

三、分散能力的測(cè)定措施

鍍液的分散能力常如卜三種措施，其中哈林槽法最為常用。

1.哈林槽法，即直接測(cè)最法

哈林槽是一個(gè)內(nèi)腔尺寸為150X50X70mm的矩形槽，測(cè)定期槽的兩端各放一個(gè)陰極，

在兩個(gè)陰極之間放入一個(gè)與陰極尺寸（50X70mm）相同的網(wǎng)狀陽(yáng)極或帶孔的陽(yáng)極，（寬

50mm，高80mm以上），陰極到遠(yuǎn)陰極及近陰極的距離之比為2:1。在通電一段時(shí)間后用

稱量法求得遠(yuǎn)近陰極上的鍍層的質(zhì)量，用下面公式計(jì)算鍍液的分散能力：

圖3哈林槽

-M遠(yuǎn)

TP=--------1009（

M近

式中T-P一一均鍍能力即分散能力（％）;

M近---近陰極鍍后增重（g）；

M遠(yuǎn)一一遠(yuǎn)陰極鍍后增重（g）o

用此式計(jì)算分散能力時(shí)，最佳值為100%，最差為一100%。

應(yīng)用哈林槽測(cè)分散能力尚有多個(gè)其他公式，寫報(bào)告時(shí)應(yīng)注明采取哪種計(jì)算公式。

注意：

（1）進(jìn)行分散能力比較時(shí)，應(yīng)用同一儀器，同一計(jì)算公式；鍍前、鍍后必須用相同措施稱

量遠(yuǎn)、近陰極。

（2）遠(yuǎn)、近陰極應(yīng)同時(shí)通電和斷電，并同時(shí)取出。對(duì)鍍層在鍍液中會(huì)發(fā)生化學(xué)溶解時(shí)，斷

電后應(yīng)立即將遠(yuǎn)、近陰極從測(cè)試槽中取出。

（3）測(cè)試電流應(yīng)控制在確保遠(yuǎn)、近陰極背面取得良好的鍍層的范圍內(nèi)。

（4）測(cè)試時(shí)，遠(yuǎn)、近陰極在鍍液中面積必須相同。

數(shù)據(jù)處理

統(tǒng)計(jì)表試驗(yàn)溫度:

陰陰極面積電流電流稱重稱重增重鍍液分散能力

極(dm2)(A/dm2)強(qiáng)度前(g)后(g)(g)

名(A)uM遠(yuǎn)

稱M近

TP=---------------X10031

“J近，

M近

近

陰

極

遠(yuǎn)

陰

極

2.彎曲陰極測(cè)定法

彎曲陰極法是通過(guò)測(cè)量與陽(yáng)極不一樣距離、不一樣相對(duì)位置的陰極上的鍍層的厚度，然

后利用公式計(jì)算出鍍液的分散能力。

彎曲陰極法測(cè)定分散能力時(shí)，采取的裝置見(jiàn)圖4,電解槽緊貼于鍍槽一端，陰極用薄鋼

板制成，陰極規(guī)格及彎曲后的側(cè)視圖見(jiàn)5。

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圖4彎曲極法測(cè)試裝置圖5彎曲陰極規(guī)格及彎曲后測(cè)視圖

試時(shí)，槽內(nèi)鍍液量為3L、陰極電流密度為0.5~lA/dm2時(shí)，電鍍時(shí)間為20分鐘；當(dāng)電流密度

為1.5A/dm2時(shí)，電鍍時(shí)間為15分鐘；電流密度為3?5A/dm2,電鍍時(shí)間為10分鐘，沉積速

度慢的可適當(dāng)延長(zhǎng)電鍍時(shí)訶。鍍畢，將陰極取出清洗，干燥。

計(jì)算分散能力時(shí)，先測(cè)量A、B、C、E各面中央鍍層的厚度即SA、SB、SD、SE,然后按

下式計(jì)算分散能力：

SaSdSe

S

Tp=S55xlOQ%

分散能力最佳時(shí)為100%，最差時(shí)為0o

利用本措施測(cè)分散能力時(shí)，使用的電流密度必須適節(jié)，尤其是A面，鍍層必須良好，

切忌形成海綿狀鍍層或其他疏松、不平整鍍層。

本措施操作簡(jiǎn)便，測(cè)定所用時(shí)間短，能較全面的反應(yīng)陰極凹凸部分鍍層在去表面的分布

情況；缺陷是測(cè)厚法比測(cè)重法精準(zhǔn)度差。

數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)與處理：

電流密度：電鍍時(shí)間：

電極面積：鍍層厚度:A面B面C面D面

電流強(qiáng)度：分散能力：T.P=

3.梯形槽測(cè)定法

利用赫爾槽試驗(yàn)也能做分散能力的測(cè)定，赫爾槽結(jié)構(gòu)及其裝置見(jiàn)描爾槽試驗(yàn)一節(jié)。

作赫爾槽試驗(yàn)時(shí)，電流常選擇0.5?3A。常用的電流為1A,電鍍時(shí)間為5?14分鐘。

赫爾槽陰極樣板在被測(cè)鍍液中鍍覆以后,按照?qǐng)D6所示劃分8個(gè)部分,然后分別測(cè)出1?8

各主格中心的鍍層厚度山、d2……d8,最后依照下式求出分散能力：

TP=h100%

dl

式中dn是比選擇的任一方格的鍍層厚度，5為第一號(hào)方格的鍍層厚度。

分散能力最佳為100%，最差為。。

圖6測(cè)定分散能力時(shí)，赫爾槽眼極的劃分

,?:二'?■?.

試驗(yàn)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)及處理

陰極面積:電流1A電鍍時(shí)間：15min

鍍層厚度”）：12345678

分散能力:T1T2T3T4T5T6T7T8

四.藥物級(jí)溶液：堿性鋅酸鹽鍍鋅液

ZnO10-15g/LNaOH100-150g/l

EDTA二鈉0.5—lg/L香草醛O.O5-O.lg/L

DE4—6ml/L

溫度：10--40℃電流密度：l-3A/dm2

四、試驗(yàn)步驟

本試驗(yàn)采取彎曲陰極法測(cè)定鋅酸鹽鍍鋅液的分散能力。

（1）試片準(zhǔn)備：先將表面光滑的試片，通過(guò)除油除銹干燥后在試片背后及四個(gè)端面（非

工作面）涂上過(guò)氯乙烯絕緣漆，放到105-115C的烘箱里烘干。

（2）取出烘干的試片，在空氣中冷卻。（如需稱重，則在分析天平上稱重并統(tǒng)計(jì)）

（3）量取試片工作面積，以確定通過(guò)電鍍槽的總電流。

（4）按原理圖鏈接電路，電鍍20min

（5）電鍍完后，烘干試片并稱重或測(cè)鍍層厚度。

（6）切斷電源，將陰極取出并放入蒸儲(chǔ)水中保存。

（7）更換鍍液，用過(guò)的鍍液進(jìn)行回收，重復(fù)以上步驟。

（8）試驗(yàn)完成，倒回鍍液，清洗整頓。

六、思考題

（1）怎樣改在分散液的分散能力？

（2）用不一樣措施的分散能力能否進(jìn)行比較？為何？

試驗(yàn)三電解液覆蓋能力的測(cè)定

一、試驗(yàn)?zāi)繕?biāo)和內(nèi)容

1.通過(guò)試驗(yàn)加深和了解電解液覆蓋能力的概念，并學(xué)會(huì)用直角陰極及管型內(nèi)壁測(cè)定DE

型鋅酸鹽鍍鋅液的覆蓋能力。

2.了解鍍液成份對(duì)深鍍能力的影響。

二、試驗(yàn)原理

覆蓋能力（也叫深鍍能力）是指電解液在鍍件的深凹部位或內(nèi)孔中是否沉積鍍層的能力。

它也是電解液性能的重要指標(biāo)之一。電鍍時(shí)，在陰極上要沉積相出金屬，陰極的電極電位必

須要達(dá)成某一最小值，此時(shí)它所對(duì)應(yīng)的能析出的金屬的最小電流密度稱為臨界電流密度（i

臨）。臨界電流密度的大小取決于被沉枳金屬和基體金屬的本性以及電解液的組成和溫度等。

如在酸性鍍銅中i臨為幾個(gè)mA/dm2,而在鍍格時(shí)為10?20A/dm?。

因?yàn)殡娏鞣植嫉牟痪鶆?，在零件的深凹部位的?shí)際電流密度，也許大大低于臨界電流密

度，因而該處就沒(méi)有發(fā)生金屬沉積。為使這些部位也能鍍上金屬，必須提升平均電流密度。

電流密度分布越不均勻，則要求平均電流密度也越大。但因?yàn)槭艿綐O限電流密度的限制，它

又不能限制的提升，否則尖端部位就會(huì)被燒焦。因此，電解液的覆蓋能力取決電流分布以及

極限電流密度id對(duì)臨界電流密度的比值id/i臨，極化值愈大，電解液的覆蓋能力愈好。

另外，基體金屬的本性、結(jié)構(gòu)以及表面狀態(tài)對(duì)覆蓋能力也有較大的影響。例如在鍍輅時(shí)

對(duì)基體銅，銀，黃銅、鋼進(jìn)行覆蓋能力的測(cè)定，測(cè)定的成果，覆蓋能力按下述次序遞減:

銅＞銀＞黃銅＞鋼

為了改進(jìn)覆蓋能力，在生產(chǎn)中常采取兩種措施：在開始電鍍的瞬間采取沖擊電流；在基

體上先鍍一層覆蓋能力好的中間鍍層。

基體金屬組織不均勻或含有其他金屬雜質(zhì)及化合物，則因?yàn)槌练e金屬在不一樣基體上析

出的難易程度不一樣，而引起金屬分布不均勻。依照試驗(yàn)成果，金屬析出的過(guò)電位與氫的過(guò)

電位依基體材料大體有下列關(guān)系：

氫的過(guò)電位增大

Pt、Pd、Ni、Fe、Ag、Cu、Zn、Sn、Hg、Cd、Pb

金屬的過(guò)電位增大

雖然上述次序并非永遠(yuǎn)如此，但它表白了氫的過(guò)電位低的基體金屬，析出就困難.因此,

若基體金屬材料不均勻或其表面上含有能減少氫的過(guò)電位的金屬雜質(zhì)，則在此表面位置上就

也許無(wú)鍍層析出。

基體金屬的表面狀態(tài)對(duì)覆蓋能力有較大的影響。在基體的不潔凈部位，金屬的沉積就比

較困難，甚至有也許沒(méi)有金屬鍍層。例如，基體表面有銹、不連續(xù)的薄油膜、肉眼不易察覺(jué)

的氧化膜以其表面活性物質(zhì)等的污染?；w金屬的表面清潔度也會(huì)影響到金屬的沉積。因?yàn)?

在粗糙的表面上其真實(shí)面積比體現(xiàn)面枳大得多，這就明顯的減少真實(shí)電流密度。若某些部位

的真實(shí)電流密度小于臨界電流密度，則該處的電位就達(dá)不到金屬的析出電位，從而就不也許

在該處有金屬沉枳。由上可知，光潔度越高，覆蓋能力越好。

三、儀器、藥物、原理圖

1.儀器設(shè)備：電源、導(dǎo)線、試片、鑲子、銅管；

2.藥物:NaOIKZnO、DPE-IIK三乙醇胺；

覆蓋能力常用C-P表示，其測(cè)定目前尚無(wú)統(tǒng)一措施。下面簡(jiǎn)介的角形陰極法（如直

角陰極）適合用于深鍍能力差的鍍液，如鍍銘溶液。管型內(nèi)壁法及凹穴法適合用于一般鍍液。

1.角形能極測(cè)定法

角形陰極材料一般選1?2mm的銅板。陰極長(zhǎng)7.5cm,寬2.5cm,在離一端2.5cm

處將極板彎折90,如圖10,陽(yáng)極為與工業(yè)生產(chǎn)相同材料的平板.電解槽內(nèi)腔為90o45o用玻

璃、硬聚氯乙烯等絕緣材料制成。測(cè)試裝置如圖11所示。

國(guó)10直角陰極測(cè)定口盆旋力

圖11角形陰極試后裝或

測(cè)試時(shí)，將陰極做必要的前處理，使壁面緊貼槽壁，需鍍部分浸入鍍液中，使角形陰極

受鍍面積為10mmX5mm,電流密度按工藝要求選用，時(shí)間5?lOmin,鍍后用帶小方格劃線

的有機(jī)玻璃板復(fù)上，量取渡層占應(yīng)鍍表面積的百分比。

2.管形內(nèi)壁測(cè)量法

用內(nèi)徑05?30mm,長(zhǎng)30?10()mm的鋼管或銅管，對(duì)其內(nèi)壁電鍍，鍍后將其剖開，觀測(cè)

鍍層達(dá)成的深度，評(píng)定鍍液的覆蓋能力。為簡(jiǎn)便起見(jiàn)，也可用給絕緣材料制成的管子，內(nèi)徑

與長(zhǎng)

S12管形內(nèi)壁法測(cè)定覆蓋能力裝置

度與上述相同，其中插入一根與管子相同長(zhǎng)的狹銅皮或軟鐵皮，鍍后取出，依照鍍層達(dá)成的

深度評(píng)定覆蓋能力。一般用鍍層達(dá)成的深度比內(nèi)徑的百分?jǐn)?shù)表示。覆蓋能力好的也可將管子

一頭封閉，采取單陽(yáng)極電踱，鍍后用同樣措施評(píng)定覆蓋能力。測(cè)試裝置如圖12所示。

因?yàn)闇y(cè)定鍍液覆蓋能力的措施不一，因此，寫試驗(yàn)報(bào)告時(shí)除將C-P的百分比表示出來(lái)外,

還應(yīng)將試驗(yàn)裝置交代清楚或用圖闡明。

三、試驗(yàn)步驟

本試驗(yàn)采取管形內(nèi)壁法測(cè)鋅酸鹽鍍鋅液的覆蓋能力。

1.把剖開的銅管內(nèi)壁仔細(xì)打磨光亮，經(jīng)除油，除銹(除去被鍍層)，清洗潔凈，同時(shí)

把兩塊鋅陽(yáng)極進(jìn)行打磨并清洗潔凈。

2.測(cè)量銅管的截面積、長(zhǎng)度。

3.銅管對(duì)接好，并在其外壁纏上一層絕緣膠布，以防外壁上鍍上鋅層，然后按路線圖

所示接好路線。

4.接通電流，進(jìn)行電鍍，電流密度為200mA/dm2,電鍍時(shí)間為3min。

5.先取出銅管，后斷電，去掉絕緣膠布，將銅管鋸開，測(cè)量管內(nèi)壁無(wú)鍍層的長(zhǎng)度（或

有鍍層的長(zhǎng)度），并將測(cè)量成果統(tǒng)計(jì)于表中。

6.評(píng)定鍍液的深鍍能力。

四、試驗(yàn)數(shù)據(jù)處理

陽(yáng)極材料：溫度：

陰極材料：電流：

陰極內(nèi)徑：時(shí)間：

陰極長(zhǎng)度：鍍層覆蓋長(zhǎng)度：

深鍍能力：

五.注意事項(xiàng)

1.電源的使用。

2.銅管放置應(yīng)位于槽的中央，處在水平狀態(tài)，槽液的深度。

3.電流強(qiáng)度大小，電流應(yīng)從零慢慢調(diào)到0.2A,不可超出0.2A。

六.思考題

1.怎樣提升鍍液的覆蓋能力？

2.用不一樣的測(cè)得的覆蓋能力值能否進(jìn)行比較？為何？

3.溶液中成份對(duì)深度能力有何影響？

七.計(jì)算公式

1.深鍍能力=鍍層長(zhǎng)度/銅管的總長(zhǎng)度。

2.深鍍能力=鍍層長(zhǎng)度/銅管的內(nèi)徑。

試驗(yàn)四化學(xué)鍍銀

一、試驗(yàn)?zāi)繕?biāo)：

L通過(guò)試驗(yàn)深入了解化學(xué)鍍銀的基本原理；

2.初步掌握化學(xué)鍍銀的配制措施和工藝操作要領(lǐng)。

二、試驗(yàn)原理

化學(xué)鍍是采取化學(xué)的措施使金屬離子沉積到其他機(jī)體上去的措施。被鍍件浸入對(duì)應(yīng)的鍍

液中提供電子使金屬離子還原沉積在制件表面。

還原作用僅發(fā)生在催化表面。一旦在制件表面開始有金屬沉積，則被沉積的金屬為了能

繼續(xù)下去，金屬自身應(yīng)具備催化劑的性質(zhì)。

化學(xué)鍍的特點(diǎn)如下：

1.鍍層具備良好的耐蝕性、耐磨性和磁性能，且鍍層硬度高，孔隙少等優(yōu)點(diǎn)；

2.均鍍能力好;

3.不需要電源、鍍層表面沒(méi)有導(dǎo)電觸點(diǎn)；

4.能夠在金屬、非金屬、半導(dǎo)體上產(chǎn)生金屬沉積。

化學(xué)鍍銀是化學(xué)鍍中應(yīng)用最為廣泛的一個(gè)措施。所用還原劑有次磷酸鹽、朧、硼氫化二

鈉和二甲基胺硼烷等。目前大多采取次磷酸鈉為還原劑，硼氫化二鈉和二甲基胺硼烷因價(jià)格

較貴，只有少許使用。

化學(xué)鍍銀層的結(jié)晶細(xì)致，孔隙率低，硬度高，鍍層均勻，可焊性好，鍍液深度能力好，化學(xué)

穩(wěn)定性高，目前已廣泛應(yīng)用于電子、航天、精密儀器、日用五金、電器和化學(xué)工業(yè)中。

目前廣泛用于生產(chǎn)是以亞磷酸鈉為還原劑的化學(xué)鍍保工藝，其化學(xué)鍍鍥反應(yīng)機(jī)理，尚無(wú)

統(tǒng)一的認(rèn)識(shí)，重要有三種理論，即：原子氫態(tài)理論、氫化物理論、電化學(xué)理論。

1.原子氫態(tài)理論

該理論以為：銀的沉積是依托鍍件表面的催化作用，使次亞磷酸根分解析出初生態(tài)原子

氫。

NaHzPOz====Na++H2P。2

催化表面

H2P。2一+H0-HPO32-+H++2Ho

H。在制件表面使Ni2+還原成金屬鍥：

Ni2++2H0—Ni+2H+

同時(shí)，原子態(tài)氫又與H2P。2作用使磷析出

H2P。2一+H0->H2O+OH+P

尚有部分原子態(tài)氫相互作用生成氫氣析出:

0

2H-H2f

由這一理論導(dǎo)出的次亞磷酸根的氧化和銀的還原反應(yīng)可綜合為：

Ni2++H2PO2--HPO32-+3H++Ni

1.氫化物理論

氫化物理論以為：次亞磷酸鈉在催化表面催化脫氫生成還原能力更強(qiáng)的氫負(fù)離子H-

2

H2PO2'+H2O一倚化表面HPO3-+2H++H-

在催化表面上，H使Ni2+還原成金屬銀：

Ni2++2H->Ni+H?T

同時(shí)在溶液中的H++HTH2T

磷起源于一個(gè)中間產(chǎn)物，如偏磷酸根(P02-)在酸性的界面條件下，由下述反應(yīng)生成:

2PO2-+6H-+4H2O—2P+3H2f+8H-

銀還原總反應(yīng)可表示為：

2+2+

Ni+H2POr+H20->HPO3-+3H+Ni

2.電化學(xué)理論

電化學(xué)理論以為：次亞磷酸根被氧化釋放出點(diǎn)子，使Ni2+還原成為金屬銀。

次亞磷酸根群放電子：

H2POr+H2O-H2P。3+2H++2e

金屬銀離子Ni2+得到電子還原成Ni:

Ni2++2e->Ni

氫離子得到電子還原為氫氣:

2H++2e-H2T

次亞磷酸根得到電子析出璘：

H2P。2+e—P+20K

保還原總反應(yīng)式；

2+

Ni+H2PO2-+H2O-H2PO3-+2H++Ni

電化學(xué)理論還以為：化學(xué)鍍銀過(guò)程是依托產(chǎn)生原電池的作用，在電池負(fù)極與正極將分別發(fā)生

下述反應(yīng)：

負(fù)極：HsPOz'+H2O-2etH2PO3-2H+

正極：Ni2++2e—?Ni

2H++2e-H2t

H2PO2+e—?P+20H'

化學(xué)鍍銀的上述三種理論，對(duì)化學(xué)鍍銀過(guò)程都能作出一定解釋，但也都不完全。在書刊

和其他某些文獻(xiàn)中引用較多的是原子氫態(tài)理論，其次是氫化物理論，電化學(xué)理論引用較少。

三、試驗(yàn)用具

一般鐵片或不銹鋼片一塊燒杯若十

電爐一個(gè)鏡子一只溫度計(jì)一只

四、試驗(yàn)工藝配方及條件：

化學(xué)鍍銀配方及工藝條件：（配制溶液250ml為宜）

硫酸鎂(NiSO4-7H2O)25??30g/L乳酸25g/L

蘋果酸10g/L次亞磷酸鈉20?25g/L

pH值4.4-54.8溫度85?95℃

沉積速度15?22pm/h

五、試驗(yàn)措施及步驟

1.將鐵片按電鍍前處理要求規(guī)范進(jìn)行處理，即試樣除油除銹T水洗一1：1鹽酸浸蝕T水洗T

化學(xué)鍍銀一水洗一干燥

2.在燒杯中加入乳酸，用碳酸氫鈉溶液中和至PH值為4.6左右，領(lǐng)取一個(gè)燒杯用熱蒸鐳

水溶解硫酸銀，溶解后在不停攪拌下注入前述溶液中，所得混合液過(guò)濾入槽。

3.進(jìn)行化學(xué)鍍時(shí)，先把預(yù)先溶解好并通過(guò)過(guò)濾的次磷酸鈉溶液加入槽內(nèi)，攪拌均勻后加入蒸

儲(chǔ)水至所需體積，最后用10%稀硫酸或氫氧化鈉溶液調(diào)整PH值至要求范圍上限值。

4.把燒杯放在電爐上加熱，溫度控制在85?95℃之間，把鐵片放入的同時(shí)，用鐵絲引起，直

至有大最氣泡冒出后可停止引起，鍍30min后取出試片。

5.測(cè)量試片厚度，如要求鍍層厚度很厚，能夠繼續(xù)化學(xué)鍵。

6.化學(xué)鍍銀完成，立即過(guò)濾化學(xué)鍍銀液，留待下次試驗(yàn)使用。

7.沉積速度計(jì)算：

V=△mxIO,

A?T?P

式中△口】為試片增重（g）,P為鍍層密度（取7.8g-cm9

A為試片表面積（cm?）

T為施鍍時(shí)間（h）

V為鍍層沉積速度（4m/h）

四、思考題

1.試片在進(jìn)行化學(xué)鍍時(shí)，為何要進(jìn)行引起？

2.化學(xué)鍍和電鍍進(jìn)行比較，化學(xué)鍍有哪些優(yōu)點(diǎn)？

試驗(yàn)五赫爾槽試驗(yàn)

試驗(yàn)?zāi)繕?biāo)和內(nèi)容

1.掌握赫爾槽試驗(yàn)的原理和措施，并學(xué)會(huì)統(tǒng)計(jì)，觀測(cè)與分析赫爾槽試片;

2.通過(guò)對(duì)DE型鍍鋅液的赫爾槽試驗(yàn)，了解該獨(dú)有各組分的作用，重要雜質(zhì)的影響和消

除措施，以及陰極允許電流密度范圍之確定。

二、試驗(yàn)原理

赫爾槽是R-0-Hull于1935年設(shè)計(jì)的形似梯形的一個(gè)電鍍工藝試驗(yàn)儀，它具備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)

單，使用以便，速度快，效果好，消耗鍍液少等特點(diǎn)，是電鍍工藝者必須掌握的試驗(yàn)伎倆，

伴隨電鍍技術(shù)的發(fā)展，赫爾槽的用途和結(jié)構(gòu)都有了新的發(fā)展，不但用于研究鍍液組分的影響，

添加劑的選擇，查明故障，確定電流密度范圍等，并且用于測(cè)定分散能力，深鍍能力。鍍層

的其他性能(整平性、脆性、內(nèi)應(yīng)力、耐蝕性等)，能測(cè)定鍍液和鍍層的許多重要性能。

在電鍍中，陰極和陽(yáng)極總是平行放置的，如圖14(a)所示，為的是陰極上各部位電流

密度趨向均勻分布。但假如把陰極斜放，使陰極各部位與陽(yáng)極的距離不一樣，如圖14(b)

所示，則陰極上的電流密度就隨各部位而異，赫爾槽就是應(yīng)用這個(gè)原理設(shè)計(jì)的。

在赫爾槽中，陰極兩端與陽(yáng)極距離不一樣，離陽(yáng)極近的一端叫近端，電流密度大，伴隨

遠(yuǎn)離陽(yáng)極電流密度逐漸變小，距陽(yáng)極最遠(yuǎn)的一端稱為遠(yuǎn)端，電流密度最小，如267亳升的赫

爾槽試片上近端與遠(yuǎn)端電流密度相差50倍，因此通過(guò)一次赫爾槽試驗(yàn)就能夠直接從陰極試

片上觀測(cè)到不一樣電流密發(fā)下鍍層的情況，變化電鍍液的組分和工藝參數(shù)并分別做赫爾槽試

驗(yàn)，對(duì)陰極試片進(jìn)行比較和分析從而可確定合理的配方和工作規(guī)范。

圖14

本試驗(yàn)選267ml赫爾槽中加250ml鍍液進(jìn)行試驗(yàn)，這么往赫爾槽中加1克物質(zhì)，則相

稱與于每升鍍液中加了4克物質(zhì)。

267ml赫爾槽斜置陰極上的各點(diǎn)的電流密度值與該點(diǎn)距陽(yáng)極距離的對(duì)數(shù)成反比關(guān)系可

按下式計(jì)算：

i?=Z（5.1—5.24logl）

i一一陰極上的某點(diǎn)的電流強(qiáng)度（A/dnf）；

I一一試驗(yàn)時(shí)電流強(qiáng)度（A）；

1一一陽(yáng)極上某點(diǎn)距近端的距離（cm）

為了便于對(duì)比和總結(jié)各種經(jīng)驗(yàn)條件選的鍍層情況，可將試驗(yàn)成果用繪圖方式統(tǒng)計(jì)下

來(lái)，不過(guò)在同?距離處赫爾槽陰極試片伴隨高度的不一樣，其鍍層質(zhì)量情況不一致，如圖（A）,

一般選圖16所示的符號(hào)統(tǒng)計(jì)鍍層的表面狀態(tài)，如這些符號(hào)還不足以闡明情況時(shí)還可配合文

字闡明。（單位：mm）

?i

[?AAM

l_***????????,

光

、

丁

圖17地層外觀符號(hào)裊示法

三、實(shí)驗(yàn)儀器及線路

(a)W

圖13赫爾愕試驗(yàn)線路圖

三、試驗(yàn)步驟

(1)將背面涂々過(guò)氯乙烯清漆的陰極試片進(jìn)行除油，除銹，用清水洗描爾槽和鋅陽(yáng)極'

按圖5接好線路:

(2)取已配好的DE型鋅酸鹽基基礎(chǔ)鍍液(ZnO12g/LNaOH120g/L)250ml倒入

赫爾槽內(nèi)，在室溫下，用1安培電流鍍5分鐘，取出試片，用水清洗，熱風(fēng)吹干，將成果填

入統(tǒng)計(jì)表中(下同)；

(3)加DE添加劑1ml(即4ml/L)于⑵溶液中，攪拌均勻進(jìn)行試驗(yàn)；

(4)加EDTA0.25克(即lg/L)和香草醛0.025克(0.Ig/L)于溶液(3)中，攪拌均勻，

進(jìn)行試驗(yàn)，電鍍水洗干燥后，先出光，繼低格鈍化約30nlm高度。

(5)在溶液(4)中，加醋酸鉛0.04g/L,攪拌后電鍍?cè)囼?yàn)；試片干燥后出光，鈍化約30nlm

高度，對(duì)比觀測(cè)統(tǒng)計(jì)成果；

(6)往(5)中再加醋酸鉛0.04克/升重做一次。

(7)重新取DE鍍鋅液(并非基礎(chǔ)液)250亳升放入赫爾槽中，加醋酸銅0.04g/L攪拌后

進(jìn)行試驗(yàn)；

(8)往(7)中再加醋酸銅0.4g/L,試片吹干后鈍化約30mm高度，將(7)(8)試片進(jìn)行對(duì)比；

(9)將(8)倒入燒杯中，加鋅粉1?2克，攪拌10分鐘，靜止傾瀉過(guò)濾，濾液倒回已清洗

的赫爾槽中。若陽(yáng)極鋅板有置換銅，應(yīng)在退鋅槽中退除，重做一次試驗(yàn)，并與(7)(8)對(duì)比。

四、試驗(yàn)成果討論

3.DE型添加劑、EDTA.香草醛等在溶液中有何作用？

4.DE型鍍鋅溶液最佳的工作電流密度范圍？

5.Pb'Cu’金屬離子對(duì)鍍層質(zhì)量和鈍化膜有何影響，怎樣消除？

6.赫爾槽陰極片繪圖統(tǒng)計(jì)表如下：(參考用)

六、赫爾槽試驗(yàn)操作及注意事項(xiàng)

1.赫爾槽試驗(yàn)操作

首先按赫爾槽試驗(yàn)裝置的要求連接好線路，量取250ml試驗(yàn)鍍液，置于267ml赫爾槽中，

控制鍍液溫度在指定的范弱內(nèi)。放入準(zhǔn)備好的并經(jīng)充足洗凈的陽(yáng)極和陰極，分別使它便緊貼

在各自的槽壁上。然后將電源正極接在陽(yáng)極上，負(fù)極接在電源陰極上，要求接觸導(dǎo)電良好。

打開電源開關(guān)，調(diào)整至試驗(yàn)所需的電流強(qiáng)度（一般用1A或2A,鍍銘用5?10A）。試驗(yàn)時(shí)，

保持電流恒定，預(yù)防因?yàn)殛?yáng)極鈍化或其他原因引起電流下降或上升。試驗(yàn)時(shí)間一般為5min

或lOmin,特殊情況下可□行決定。試驗(yàn)結(jié)束后，取出陰極樣板經(jīng)充足清洗、干燥，最后將

樣板上的鍍層繪圖統(tǒng)計(jì)。陽(yáng)極樣板如需保存，應(yīng)涂上清漆后干燥，并在樣板上注明鍍液類型,

固定條件電流時(shí)間溫度電流強(qiáng)度

試片電流密度（DR）5.453.742.782.081.541.090.720.400.11

片表觀描述

變動(dòng)條件

1、基礎(chǔ)液

2、（1）+DE

3、（2）+EDTA+香草醛

4、（3）+0.04g/L醋酸鉛

5、⑶+0.08g/L醋酸鉛

6、（3）+0.04g/L醋酸銅

7、（3）+0.08g/L醋酸銅

8、（7）+鋅粉處理后

試驗(yàn)日期，試驗(yàn)條件以其編號(hào)等。

2.試驗(yàn)操作注意事項(xiàng)

①取樣和加料：赫爾槽試驗(yàn)的首要問(wèn)題是取得具備代表性的鍍液，假如是從生產(chǎn)鍍槽中

取樣，要將鍍液攪拌均勻后取樣，使所取鍍液的成份與鍍槽中鍍液成份一致。赫爾槽試驗(yàn)加

料時(shí)，固體（可溶性）可直接加入鍍液中，攪拌至完全溶解。不宜直接加入鍍液的原料，要

配備成盡也許濃的溶液，按量加入，攪拌均勻。

②試驗(yàn)溫度控制和攪攔：試驗(yàn)鍍液的溫度，要與實(shí)際生產(chǎn)時(shí)相同，生產(chǎn)時(shí)要加溫的鍍液,

赫爾槽試驗(yàn)時(shí)鍍液也要加溫。因赫爾槽不宜直接加熱。一般是將試驗(yàn)鍍液放入在杯中，加熱

至高于控制溫度上限3?EC,然后倒入赫爾槽中，待溫度降至操作溫度上限時(shí)開始試驗(yàn)，

經(jīng)5?lOmin,溫度也許降至操作溫度的下限左右，這么可使試驗(yàn)溫度基本上控制在要求的

范圍內(nèi)。冬天因鍍液降溫較快，最佳將赫爾槽浸在盛有熱水的容器中隔水保溫，以預(yù)防試驗(yàn)

鍍液溫度降溫太快而影響試驗(yàn)成果。在電鍍生產(chǎn)中，有的鍍液需要攪拌或陰極移動(dòng)攪拌，而

赫爾槽中的陰極不能移動(dòng)，可用玻璃棒以手工輕微攪動(dòng)鍍液或裝上小型攪拌裝置。試驗(yàn)中是

否需要攪拌鍍液，要看詳細(xì)情況，凡是不需攪拌同樣能反應(yīng)生產(chǎn)中情況的試驗(yàn)，一般可無(wú)須

攪拌試驗(yàn)鍍液。

七、鈍化時(shí)的要求

（1）高格鈍化要求空停，鈍化膜在空氣中形成，低格鈍化不需要空停，鈍化膜在鈍化液中

就能形成，但必須嚴(yán)格控制時(shí)間，時(shí)間段不能形成鈍化膜，時(shí)間長(zhǎng)也許是鍍層退掉（鈍化鍍

液強(qiáng)酸性）。

（2）溫度要求：必須嚴(yán)格控制溫度。

試驗(yàn)六鋁的陽(yáng)極氧化和電解著色

一、試驗(yàn)?zāi)繕?biāo)與內(nèi)容

通過(guò)試驗(yàn)深入掌握鋁的硫酸陽(yáng)極氧化基本原理，并了解鋁的裝飾性陽(yáng)極氧化及染色和電

解著色的一般工藝過(guò)程。

二、試驗(yàn)基本原理

鋁及其合金在大氣中其表面會(huì)自然形成一層厚度為40?50A薄的氧化膜。雖然能使金屬

稍微有些鈍化，但因?yàn)樗。紫堵蚀?，機(jī)械強(qiáng)度低，不能有效地預(yù)防金屬腐飩。用電化

學(xué)措施即陽(yáng)極氧化處理后，能夠在其表面上取得厚達(dá)幾十到幾百微米的氧化膜。后者的耐蝕

性力很好。硫酸陽(yáng)極氧化所得的氧化膜厚度在5?20微米之間，硬度較高，孔隙率大，吸附

性強(qiáng)，輕易染色和封閉。并且具備操作簡(jiǎn)便、穩(wěn)定、成本低等特點(diǎn)，故應(yīng)用最為廣泛。

當(dāng)把零件掛在陽(yáng)極上，陰極用鉛棒，通入電流后，發(fā)生如下反應(yīng)：

陰極上：2H++2e-H2T

陽(yáng)極上：Al-3e->AI3+

6OH-3H2。+3O2-

3+2

2AI+3O->AI2O3+399（卡）

硫酸還能夠與發(fā)生反應(yīng)

AIZAI2O3

2AI+3H2so4TAi2（SO4）3+3H2T

AI2O3+3H2so4TAl2（SO4）3+3H2。

鋁陽(yáng)極氧化膜的“生長(zhǎng)”和“溶解”這對(duì)矛盾中發(fā)生和發(fā)展的。通電后的最初數(shù)秒鐘首

先生成無(wú)孔的致密層（叫無(wú)孔層，或阻擋層），它雖只有0.01?0.015um?？墒蔷邆浜芨叩慕^

緣性。硫酸對(duì)膜產(chǎn)生腐蝕溶解。因?yàn)槿芙獾牟痪鶆蛐?，薄的地方（孔穴）電阻小，離子也許

過(guò)，反應(yīng)繼續(xù)進(jìn)行，氧化膜生長(zhǎng)，又伴伴隨氧化膜溶解。循環(huán)往復(fù)?？刂埔欢ǖ墓に嚄l件尤

其是硫酹濃度和溫度可使膜的牛長(zhǎng)占主導(dǎo)地位。

必須注意，氧化膜的生成和成長(zhǎng)過(guò)程是因?yàn)檠蹼x子穿過(guò)無(wú)孔層與鋁離子結(jié)合成氧化膜

的，與電鍍過(guò)程恰恰相反，電極反應(yīng)是在氧化膜與金屬鋁的交界處進(jìn)行，膜向內(nèi)側(cè)面生長(zhǎng)。

鋁陽(yáng)極氧化膜的生長(zhǎng)和溶解規(guī)律可用其電壓一時(shí)間曲線來(lái)闡明。見(jiàn)圖26、圖27.

A區(qū)：

在最初10秒鐘內(nèi)曲線直線上升，電壓激劇增高，闡明生成了無(wú)孔層電阻增大，這時(shí)成

膜占主導(dǎo)，妨礙了反應(yīng)繼續(xù)進(jìn)行。當(dāng)外電壓高時(shí)，［。2］能穿過(guò)薄的地方繼續(xù)反應(yīng)。故無(wú)孔層

的厚度取決于電壓、即電壓高時(shí)，無(wú)孔層對(duì)應(yīng)增厚，反之亦然。

B區(qū)

陽(yáng)極電位達(dá)成最高值開始下降，闡明無(wú)孔層達(dá)成極限（一定電壓下），因?yàn)榱蛩岣g溶

解導(dǎo)致孔穴，電阻下降，電壓減少。

1一鋁2一無(wú)孔層3-多空層

圖26氧化膜生長(zhǎng)階段示意圖圖27時(shí)間一電壓曲線

C區(qū)：

20秒鐘后，電壓穩(wěn)定，這時(shí)膜在不停增厚（多孔層），無(wú)孔層則生長(zhǎng)和溶解在達(dá)成動(dòng)態(tài)

平衡溶解和生長(zhǎng)在孔穴底部進(jìn)行，時(shí)間延長(zhǎng)孔穴變成孔隙，逐漸形成一定厚度的氧化膜。

硫酸氧化膜，多孔隙，有很強(qiáng)的化學(xué)活性，利用這一特點(diǎn)，人們?cè)阡X陽(yáng)極氧化膜上進(jìn)

行染色或電解著色，達(dá)成耐蝕和裝飾雙重目標(biāo)。

有機(jī)染色是將氧化制品放入有機(jī)染色槽中，利用氧化膜的化學(xué)和物理吸附作用，將染

料分子吸附于氧化膜微孔中而成色。有機(jī)染色色種多，艷麗是其優(yōu)點(diǎn)，但耐磨，耐曬，耐光

性能差，只適合于室內(nèi)裝而和日用五金制品之裝飾。

電解著色是將氧化制品浸入含有金屬鹽的水溶液中，通入低壓交流電，因?yàn)檠趸さ?/p>

阻擋層具備整流作用，金屬離子在鋁陰極的阻擋層上還原成金屬膠態(tài)粒子，因?yàn)榻饘冫}種類

不一樣，或因?yàn)榻饘俪练e量不一樣，膠態(tài)粒子大小和粒度分布不一樣，對(duì)光波產(chǎn)生選擇性吸

取和散射作用而顯示出不一樣顏色。電解著色膜耐曬、耐熱、耐光、耐磨性好，耐蝕性高，

廣泛用作建筑鋁材，交通車輛等室內(nèi)外防護(hù)裝飾。

鋁陽(yáng)極氧化膜無(wú)論著色是否，用于何場(chǎng)所，都必須進(jìn)行封孔處理，以達(dá)成防蝕，抗沾

污等目標(biāo)。常用的措施有沸水中煮沸約30分鐘，氧化膜與水反應(yīng)生成川2。3?3出0,體積膨

脹而將孔封閉。當(dāng)水溫低于-30℃時(shí)，也許生成AI2O3?3出0,這是不穩(wěn)定的，可性的逆水化

物，耐蝕性差，因此沸水法一定在95?100C下進(jìn)行。

為節(jié)約能源，提升封閉質(zhì)量和速度，八十年代研制出常溫迅速封閉劑，它是利用金屬

的水能作用，氧化膜的水化作用以及形成表面絡(luò)合物等三種作用的綜合，可在常溫下迅速達(dá)

成封閉的目標(biāo)，其速度可提升1?2倍。質(zhì)量亦明顯提升，湖大研制的GKG—F封孔閉劑已在

國(guó)內(nèi)普及應(yīng)用。

三、試驗(yàn)儀器及線路

E一直流電源A—電流表V—電壓表K一單刀開關(guān)

1一陰極鉛板2—陽(yáng)極鋁片3一氧化槽R—電阻

圖