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文檔簡(jiǎn)介
第7章核磁共振波譜法(NMR)
7.2實(shí)現(xiàn)核磁共振的方法和儀器
7.1核磁共振基本原理NuclearMagneticResonance
1945年,E.M.Purcell和F.Block分別發(fā)現(xiàn)了水和石蠟中氫核的核磁共振現(xiàn)象。
化合物中原子產(chǎn)生的核磁共振信號(hào)與其分子結(jié)構(gòu)密切相關(guān)。由有機(jī)化合物的核磁共振譜圖,可獲得相關(guān)原子在分子中所處化學(xué)環(huán)境的信息,因此可以確定化合物的分子結(jié)構(gòu)。7.1核磁共振基本原理
principlesofnuclearmagneticresonance
7.1.1原子核的自旋和磁矩
atominuclearspin
若原子核存在自旋運(yùn)動(dòng),便會(huì)產(chǎn)生核磁矩μ和自旋角動(dòng)量:
自旋量子數(shù)(I)可以為0、整數(shù)、半整數(shù)。
I=0的核,p=0,無自旋運(yùn)動(dòng)。
I不為零的核都具有核磁矩和自旋角動(dòng)量。
(1)
I=0的原子核:
16
O、12C、22S…….等,無自旋,沒有核磁矩,不產(chǎn)生共振吸收。(2)I>1/2的原子核:
I=1:2H,14N……
I=3/2:11B,35Cl,79Br,81Br……
I=5/2:17O,127I…….
這類原子核可看作電荷在核表面非均勻分布的旋轉(zhuǎn)橢球體,其電四極矩不為零,共振吸收復(fù)雜,譜線較寬,不利于NMR測(cè)量,研究應(yīng)用較少。
(3)I=1/2的原子核
:
1H,13C,19F,31P…….等。
這類原子核可看作核電荷均勻分布于球面的旋轉(zhuǎn)球體,并象陀螺一樣自旋,有自旋磁矩產(chǎn)生,其電四極矩為零,NMR譜線較窄,適宜于NMR測(cè)量,是核磁共振研究的主要對(duì)象。C、H也是有機(jī)化合物的主要組成元素。
I≠0的核有自旋運(yùn)動(dòng),其核磁矩μ與自旋角動(dòng)量P的關(guān)系為:
μ=γP
式中,γ為磁旋比,是核的特征常數(shù),其單位為:
rad.T-1.s-1
1H
核的γ
=26.752×107rad.T-1.s-1.
13C
核的γ
=6.728×107rad.T-1.s-1.
7.1.2核在外磁場(chǎng)中的自旋取向
I≠0
的核叫磁性核。
磁性核在外磁場(chǎng)中會(huì)發(fā)生自旋能級(jí)的裂分,產(chǎn)生不同的自旋取向。
共有2I+1
種量子化的自旋取向。
每一種取向都代表了原子核的某一特定的自旋能量狀態(tài),可用磁量子數(shù)m
來表示之。
磁量子數(shù)m
的取值為:
m=I,I-1,I-2,….(-I+1),-I。例如,
1H核:I=1/2,故m=+1/2,-1/2。
14N核:I=1,故m=+1,0,-1。
33S核:I=3/2,故m=
在外磁場(chǎng)B0中,氫核的自旋能級(jí)產(chǎn)生兩種自旋取向:(1)與外磁場(chǎng)平行,能量低,磁量子數(shù)m=+1/2;(2)與外磁場(chǎng)相反,能量高,磁量子數(shù)m=-1/2。1H14N
核自旋角動(dòng)量在Z軸上的投影PZ為:PZ=hm/2π
核磁矩在Z軸上的投影μZ為:
μZ=γPZ
=γhm/2π在外磁場(chǎng)B0中,核磁矩與B0相互作用,使核磁矩具有一定的能量:
E=-μZ
B0
對(duì)于I=1/2
核:m=+1/2時(shí),
E(+1/2)=-μZB0=-γhm/2π=-γhB0
/4π
m=-1/2時(shí),E(-1/2)=-μZB0=-γhm/2π=γhB0
/4π
此二能級(jí)的能量差
⊿E=E(-1/2)-
E(+1/2)=γhB0
/2π
⊿E=γhB0
/2π表明,在外磁場(chǎng)B0中,核自旋能級(jí)裂分后的能級(jí)差隨著B0強(qiáng)度的增大而增大,如下圖所示。
7.1.3
核磁共振
在與外磁場(chǎng)B0
垂直的方向上施加一個(gè)頻率為v
的交變射頻場(chǎng)B1,當(dāng)v
與核的回旋v0相等時(shí),自旋核能夠吸收射頻場(chǎng)的能量,由低能級(jí)的自旋狀態(tài)躍遷至高能級(jí)的自旋狀態(tài),產(chǎn)生自旋的倒轉(zhuǎn)和共振吸收信號(hào),這種現(xiàn)象叫核磁共振。即有:射頻頻率v
=v0=γB0/2π此時(shí),射頻v所具有的能量hv正好核在B0中產(chǎn)生的核自旋能級(jí)差相等。即:
hv=⊿E=γhB0/2π=hv0v
=v0=γB0/2π
對(duì)于同一種核,γ為一常數(shù),故當(dāng)B0增大時(shí),其共振頻率也要相應(yīng)增加。
例如,當(dāng)B0=1.4T
時(shí),1H
的共振頻率為60MHZ。而當(dāng)B0=2.3T
時(shí),1H
的共振頻率為100MHZ。
對(duì)于不同種類的核,其γ不同,因此,當(dāng)B0相同時(shí),它們的共振頻率各不相同。例如,當(dāng)B0=2.3T時(shí),1H
核的共振頻率為100MHZ,而13C核的共振頻率為25MHZ。
7.1.4弛豫過程(Relaxation)
在外磁場(chǎng)B0中,I
=1/2的核,有兩種自旋取向:
(1)低能級(jí)自旋取向,與外磁場(chǎng)平行,磁量子數(shù)m=+1/2;
(2)高能級(jí)自旋取向,與外磁場(chǎng)相反,磁量子數(shù)m=-1/2。
不同能級(jí)上分布的核數(shù)目可由Boltzmann方程計(jì)算:若取1H核的共振頻率為100MHZ,溫度為298K,可得:
計(jì)算結(jié)果表明,
兩能級(jí)上的核數(shù)目差約為1.610-5,處于低能態(tài)自旋取向的核僅占微弱多數(shù);
用適當(dāng)頻率的射頻照射時(shí),處于低能態(tài)自旋取向的核能夠吸收能量,躍遷至高能級(jí),故可測(cè)得核磁共振吸收信號(hào)。
飽和(saturated)——低能態(tài)的核數(shù)等于高能態(tài)的核數(shù)。
弛豫(relaxation)——高能態(tài)的核以非輻射的方式回到低能態(tài)。弛豫過程包括縱向弛豫和橫向弛豫兩種。
一.自旋-晶格弛豫(縱向弛豫)
為高能態(tài)的核與周圍環(huán)境(固體晶格、液體中溶劑分子等)進(jìn)行能量交換的過程。其所經(jīng)歷的時(shí)間為T1。
T1與核的種類、樣品狀態(tài)、環(huán)境溫度等有關(guān)。
T1愈小,縱向弛豫過程效率越高。液體樣品T1約為10-4~102s,固體樣品T1為數(shù)小時(shí)以上。二.自旋-自旋弛豫(橫向弛豫)
為高能態(tài)自旋核將能量傳遞給相鄰的低能態(tài)自旋核的過程。該過程所經(jīng)歷的時(shí)間為T2。液體樣品的T2約為1s,固體樣品或高分子樣品的T2約為10-3s。
弛豫時(shí)間T1、T2中的較小者,決定了自旋核在某一高能態(tài)滯留的平均時(shí)間。根據(jù)海森堡(Heisenberg)測(cè)不準(zhǔn)原理,有:⊿E.⊿
t≈h
又⊿E=h
⊿v
h
⊿v.⊿t≈h
故有:⊿v≈1/⊿t
這說明,譜線寬度⊿v
與弛豫時(shí)間⊿t
成反比。
固體樣品的T2很?。s10-3s),故譜線很寬,不利于分析。
液體樣品的平均弛豫時(shí)間大小適當(dāng),故譜線較窄,有利于測(cè)量。儀器磁場(chǎng)不均勻會(huì)使譜線加寬。樣品中的順磁性物質(zhì)(如氧、鐵等),也會(huì)加寬譜線。7.2實(shí)現(xiàn)核磁共振的方法和儀器
7.2.1實(shí)現(xiàn)核磁共振的方法對(duì)于I=1/2的核,在外磁場(chǎng)中,其自旋能級(jí)產(chǎn)生裂分,在與外磁場(chǎng)垂直的方向上用頻率為v0的射頻照射樣品原子,若
0=
B0/(2)則可產(chǎn)生核磁共振。
對(duì)于I=1/2的核,核磁共振條件:
0=
B0/(2)
對(duì)于同一種核,磁旋比
為定值,B0可變,
0可變。對(duì)于不同原子核,磁旋比
不同,產(chǎn)生共振的件不同,需要的磁場(chǎng)強(qiáng)度B0和射頻頻率
0不同。
一.掃頻:固定B0,逐漸改變
0,直至滿足上式,產(chǎn)生核磁共振。
二.掃場(chǎng):固定
0,逐漸改變B0,直至滿足上式,產(chǎn)生核磁共振。一般儀器都采用掃場(chǎng)方式。
7.2.2核磁共振儀
nuclearmagneticresonancespectrometer
一.儀器的分類按射頻頻率分類:60MHZ、100MHZ、240MHZ、600MHZ……等。按磁體類型分類:永磁體型、電磁體型、超導(dǎo)磁體型等。按射頻源分類:連續(xù)波核磁共振儀(CW-NMR)、
脈沖傅立葉變換核磁共振儀(PFT-NMR)。二.連續(xù)波核磁共振儀簡(jiǎn)介
1.永久磁鐵:提供外磁場(chǎng),要求穩(wěn)定性好,均勻,不均勻性小于六千萬分之一。
2.射頻振蕩器:產(chǎn)生所需射頻,并通過垂直于外磁場(chǎng)的射頻振蕩器線圈,將電磁輻射信號(hào)作用于樣品。
3.掃描發(fā)生器:
可在小范圍內(nèi)改變外磁場(chǎng)強(qiáng)度。通過掃場(chǎng)線圈使施加于樣品的磁場(chǎng)強(qiáng)度由低到高變化,進(jìn)行掃場(chǎng),以滿足核磁共振條件。
4.射頻信號(hào)接受器(檢測(cè)器):當(dāng)自旋核的進(jìn)動(dòng)頻率與輻射頻率相匹配時(shí),發(fā)生能級(jí)躍遷,吸收能量,在接收器線圈中產(chǎn)生感應(yīng)信號(hào)。5.記錄系統(tǒng):將感應(yīng)信號(hào)放大并記錄下來。
此外,還有去偶儀、溫度可變裝置、信號(hào)累積平均儀(CAT)等擴(kuò)展儀器功能的裝置。
6.樣品管:為外徑5mm的玻璃管,測(cè)量過程中以40~60周/s的速度旋轉(zhuǎn),使樣品感受到的磁場(chǎng)作用更加均勻,防止譜線變寬。核磁共振波譜儀樣品的制備:試樣濃度:5~10%;一般需要純樣品15-30mg;傅立葉變換核磁共振波譜儀需要純樣品1mg。標(biāo)樣濃度:(四甲基硅烷TMS):1%。溶劑:1H譜四氯化碳,二硫化碳。氘代溶劑:氯仿,丙酮、苯、二甲基亞砜的氘代物。三.傅立葉變換核磁共振儀(PFT-NMR)恒定磁場(chǎng),施加全頻脈沖,使所有待測(cè)核都產(chǎn)生共振,采集產(chǎn)生的自由感應(yīng)衰減信號(hào),經(jīng)過傅立葉變換獲得一般核磁共振譜圖。
PFT-NMR在CW-NMR的基礎(chǔ)上增加了脈沖程序控制器和數(shù)據(jù)采集及處理系統(tǒng)。
脈沖程序控制器用一個(gè)周期性的脈沖方波系列來調(diào)制射頻連續(xù)波,從而輸出強(qiáng)而短的射頻脈沖序列,當(dāng)發(fā)射脈沖時(shí),樣品中的所有的待測(cè)核都被同時(shí)激發(fā);當(dāng)脈沖終止時(shí),及時(shí)準(zhǔn)確地啟動(dòng)接收系統(tǒng),接收到激發(fā)核通過弛豫過程返回到低能態(tài)時(shí)所產(chǎn)生的自由感應(yīng)衰減信號(hào)(FID)。然后再發(fā)射下一個(gè)脈沖并同時(shí)準(zhǔn)確關(guān)閉接收系統(tǒng),重復(fù)上述過程。
用計(jì)算機(jī)對(duì)自由感應(yīng)衰減信號(hào)進(jìn)行傅里葉變換,將其由時(shí)間域函數(shù)轉(zhuǎn)換為頻率域函數(shù),就能得到人們能夠識(shí)別的核磁共振譜圖。
PFT-NMR可方便地對(duì)少量樣品(≤1mg)進(jìn)行n次累加測(cè)定,使儀器的信噪比提高倍,同時(shí)數(shù)秒即可完成所有FID信號(hào)的傅里葉變換,故儀器的靈敏度很高,可以測(cè)定天然豐度極低的核。
PFT-NMR可以設(shè)計(jì)多種脈沖序列,完成多種CW-NMR無法完成的實(shí)驗(yàn)(如NMR二維譜、三維譜等),能記下瞬間信息,有利于反應(yīng)動(dòng)態(tài)研究,能測(cè)出弛豫時(shí)間等等。
PFT-NMR的性能是CW-NMR無法比擬的。*7.3.1屏蔽效應(yīng)7.3.2化學(xué)位移及其表示方法7.3.3影響化學(xué)位移的因素7.3.4各類H核的化學(xué)位移7.3氫核的化學(xué)位移
1H
chemicalshift*
7.3.1屏蔽效應(yīng)
(shieldingeffect)
對(duì)于理想化的、裸露的氫核,實(shí)現(xiàn)核磁共振的條件:
0=
B0/(2
)實(shí)際上,氫核受外圍不斷運(yùn)動(dòng)著的電子影響。在外磁場(chǎng)作用下,運(yùn)動(dòng)著的電子產(chǎn)生與外磁場(chǎng)相對(duì)抗的感生磁場(chǎng)(
B0),對(duì)H核起到屏蔽作用,使氫核實(shí)際受到的外磁場(chǎng)作用減小。
*
因此,對(duì)于氫核來說,相當(dāng)于產(chǎn)生了一種減弱外磁場(chǎng)的屏蔽,使氫核實(shí)受磁場(chǎng)減小。
Beff
=B0-
B0=(1-
)B0
:屏蔽常數(shù)。
越大,屏蔽效應(yīng)越大,實(shí)受磁場(chǎng)越小。
實(shí)現(xiàn)核磁共振的條件應(yīng)改為:
0=
Beff
/2=
(1-
)B0/2
由于屏蔽效應(yīng)的存在,產(chǎn)生共振需更強(qiáng)的外磁場(chǎng)。
B0=2
0
/(
(1-
))*
此式表明,若固定射頻v0,改變外磁場(chǎng)強(qiáng)度,產(chǎn)生共振吸收的場(chǎng)強(qiáng)僅僅取決于
。
增大,所需B0增大;
減小,所需B0減小。
*
在化合物中,不同基團(tuán)上的H核的化學(xué)環(huán)境不同,其外圍的電子云密度不同,故它們的
也不同。
當(dāng)用固定頻率的射頻照射時(shí),不同H核共振所需要的外磁場(chǎng)強(qiáng)度B0也不相同。
因此,不同化學(xué)環(huán)境的H核的共振峰將出現(xiàn)在NMR譜圖上的不同磁場(chǎng)強(qiáng)度的位置。
例如,CH3-CH2-Cl中,兩種不同環(huán)境的H核將不同場(chǎng)強(qiáng)處產(chǎn)生共振吸收峰。*
由此可得出以下結(jié)論:
如果H核外圍的電子云密度減小,則其屏蔽效應(yīng)減小,
減小,實(shí)現(xiàn)共振所需要的外磁場(chǎng)B0亦減小,共振峰出現(xiàn)在低場(chǎng)。
如果H核外圍的電子云密度增大,則其屏蔽效應(yīng)增強(qiáng),
增大,實(shí)現(xiàn)共振所需要的外磁場(chǎng)B0亦增大,共振峰出現(xiàn)在高場(chǎng)。掃場(chǎng)低場(chǎng)高場(chǎng)CH3-CH2-Cl*
7.3.2化學(xué)位移及其表示方法
分子中處于不同化學(xué)環(huán)境的氫核的外圍電子云密度不同,使它們產(chǎn)生共振需要不同大小的外磁場(chǎng)強(qiáng)度來抵消屏蔽效應(yīng)的影響。
當(dāng)用同一射頻照射樣品時(shí),樣品分子中處于不同化學(xué)環(huán)境的氫核,所產(chǎn)生的共振峰將出現(xiàn)在不同磁場(chǎng)強(qiáng)度的區(qū)域。這種共振峰位置的差異稱為化學(xué)位移。*一.化學(xué)位移的表示方法
用待測(cè)核共振峰所在位置的場(chǎng)強(qiáng)Bs和某標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)磁性核共振峰所在位置的場(chǎng)強(qiáng)Br
進(jìn)行比較,用這一相對(duì)位置來表示化學(xué)位移:δ=(Bs-Br)Br
亦可表示為:δ=(vs-vr)vr
樣品核和標(biāo)準(zhǔn)核的共振頻率雖有差異,但都在儀器射頻附近變化,相差僅約萬分之一。為了表示方便,通常用下式計(jì)算化學(xué)位移:
δ=((vs-vr)v0
)
×106(ppm)*
二.標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)
用TMS作為基準(zhǔn)的原因:
(1)12個(gè)氫處于完全相同的化學(xué)環(huán)境,只產(chǎn)生一個(gè)尖峰;(2)屏蔽強(qiáng)烈,位移最大,共振峰在最高場(chǎng)區(qū),與其他有機(jī)化合物中的質(zhì)子峰不重迭;(3)化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定;易溶于有機(jī)溶劑;沸點(diǎn)低,易回收。
當(dāng)用重水作溶劑時(shí),標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)可選用:
DSS(2,2-二甲基-硅戊烷-5磺酸鈉)
四甲基硅Si
(CH3)4
(TMS)
規(guī)定四甲基硅的
TMS
=0*
規(guī)定
TMS=0ppm,在其左側(cè)的峰的
為正值,在其右側(cè)的峰的
為負(fù)值。
化學(xué)位移也曾經(jīng)用τ來表示。τ=10-
屏蔽效應(yīng)強(qiáng),共振需要的磁場(chǎng)強(qiáng)度大,共振峰在高場(chǎng)出現(xiàn),其
值小。屏蔽效應(yīng)弱,共振需要的磁場(chǎng)強(qiáng)度小,共振峰在低場(chǎng)出現(xiàn),其
值大。*
解:δ=(vs-vr)/
v0×106=60/(60×106)×106=1(ppm)
例2.當(dāng)v0=100MHZ時(shí),若樣品H核的化學(xué)位移為1ppm,其共振峰與TMS峰的頻率差為多少?
例1.若v0=60MHZ,樣品H核共振峰與TMS峰的頻率差為60Hz,該樣品H
核的化學(xué)位移是多少?
解:δ=⊿v
/
v0×106
,故⊿v=δ×v0/106=1×100×106/106=100(HZ)*
由此可見,
對(duì)于60MHZ的儀器來說,1ppm相當(dāng)于60HZ,對(duì)于100MHZ的儀器來說,1ppm相當(dāng)于100HZ,對(duì)于500MHZ的儀器來說,1ppm相當(dāng)于500HZ……
結(jié)論:隨著照射頻率的增大,NMR譜圖橫坐標(biāo)δ的單位長(zhǎng)度也相應(yīng)增大,這意味著譜圖上各峰間距離增大,分辨率提高。*
解:v0=60MHZ時(shí),δ
1=⊿v/v0×106=2.23(ppm)當(dāng)v0=100MHZ時(shí),δ
2=⊿v/v0×106=2.23(ppm)即:δ1=δ2
結(jié)論:在不同射頻的儀器上測(cè)得的同類H核的化學(xué)位移值相等。
例3.分別用60MHZ和100MHZ的儀器測(cè)定CH3CCl2CH2Cl中的-CH3上的H核,其共振峰與TMS峰的頻率差分別為134HZ和223HZ,求該H核的δ。*
例4.當(dāng)v0=60MHZ時(shí),樣品H核與TMS峰的頻率差⊿v1=180HZ,若改用照射頻率為100MHZ的儀器,該樣品H核與TMS峰的頻率差為多少?解:*
例4.當(dāng)v0=60MHZ時(shí),樣品H核與TMS峰的頻率差⊿v1=180HZ,若改用照射頻率為100MHZ的儀器,該樣品H核與TMS峰的頻率差為多少?
解:
δ1=(180
/60×106)×106=3.0(ppm)
δ2=(⊿v2
/100×106)×106=3.0(ppm)故⊿v2=300HZ
一般有機(jī)化合物中H核的化學(xué)位移值在0~20ppm范圍內(nèi)。*三.1HNMR譜圖示例
乙苯的1HNMR譜圖如下:
此圖的橫坐標(biāo)為化學(xué)位移,有δ(ppm)和v
(HZ)兩種標(biāo)度,其縱坐標(biāo)表示共振峰強(qiáng)度。圖內(nèi)的三組共振峰分別代表了化合物中的三類不同的H核。每組共振峰的面積與其代表的H核數(shù)成正比。積分曲線的高度正比于峰面積。
故
積分曲線高度比=H核數(shù)目比
。0v/Hz60120180240δ
/ppm300360420480*
7.3.3影響化學(xué)位移的因素
factorsinfluencedchemicalshift一.誘導(dǎo)效應(yīng)
與H核相連的電負(fù)性取代基具有親電誘導(dǎo)作用,使H核外圍電子云密度降低,屏蔽效應(yīng)減弱,即產(chǎn)生了去屏蔽效應(yīng),其結(jié)果導(dǎo)致H核共振峰移向低場(chǎng),δ增大。此現(xiàn)象叫誘導(dǎo)效應(yīng)。*
在H-CH3中:
CH3=0.23,位于高場(chǎng)。在CH3CH2I中:
CH3=1.7,
CH2=3.2
在CH3OH中:
-O-H-CH3
大
小低場(chǎng)高場(chǎng)*電負(fù)性對(duì)化學(xué)位移的影響:誘導(dǎo)效應(yīng)的傳遞——δCH3值的變化:*二.共軛效應(yīng)在共軛效應(yīng)中,推電子基和吸電子基的影響各不相同。
推電子基——p-π共軛——電子云密度——δ。
吸電子基——π-π共軛——電子云密度——δ。*
實(shí)驗(yàn)表明:
CH2=CH2CH=CHCH3-CH3
δ/ppm:~5.251.8~2.50.7~1
是否能從誘導(dǎo)效應(yīng)的角度解釋來實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象?C
原子的電負(fù)性強(qiáng)弱的順序?yàn)椋?/p>
sp雜化C>sp2雜化C>sp3雜化C似乎應(yīng)有δ
CH=CH>δCH2=CH2>δCH3-CH3?
δAr-H≈7.3ppmδ醛氫≈9~10ppm原因何在?三.磁各向異性效應(yīng)(magneticanisotropiceffect)*
磁各向異性效產(chǎn)生的原因?由于與H核相鄰的基團(tuán)的成鍵電子云分布的不均勻性,產(chǎn)生了各向異性的感生磁場(chǎng)(第二磁場(chǎng));它通過空間的傳遞作用影響H核,在某些地方,它與外磁場(chǎng)地方向一致,將加強(qiáng)外磁場(chǎng),使該處的H核產(chǎn)生去屏蔽效應(yīng),化學(xué)位移值增大;而在另一些地方,它與外磁場(chǎng)的方向相反,將削弱外磁場(chǎng),使該處的H核產(chǎn)生屏蔽效應(yīng),化學(xué)位移值減小。這種現(xiàn)象叫磁各向異性效應(yīng)。
*
(一)芳環(huán)的磁各向異性
苯環(huán)上的6個(gè)
電子產(chǎn)生較強(qiáng)的感生磁場(chǎng),芳H位于其去屏蔽區(qū),其化學(xué)位移增大。苯環(huán)平面的上下方為屏蔽區(qū)。
**
(二)C=X的磁各向異性(X=C、O、S、N)**(三)炔烴的磁各向異性
*
*
隨著甲基中的H被取代,去屏蔽效應(yīng)增大,故δCH>δCH2>
δCH3
δHe-δHa
≈0.1~0.7ppm(四)C-C單鍵的磁各向異性*四.范德華(Vanderwaals)效應(yīng)分子中空間距離很近的兩個(gè)原子,其核外電子云相互排斥,使得它們周圍的電子云密度相對(duì)降低,屏蔽作用減弱,共振峰移向低場(chǎng),δ值增大,這種現(xiàn)象叫范德華效應(yīng)。*
五.氫鍵效應(yīng)
形成氫鍵后,1H核屏蔽作用減少,產(chǎn)生去屏蔽效應(yīng),
增大。H鍵愈強(qiáng),
增大愈顯著;締合程度愈大,
增大愈多。
通常締合與游離態(tài)之間會(huì)建立快速平衡,產(chǎn)生一個(gè)單峰。10.5~16ppm。*
濃度和溫度會(huì)影響分子間氫鍵德形成。增加濃度,有利于分子間H鍵締合,致使δ
。
H鍵締合為一放熱過程,故升高體系溫度,不利于H鍵締合,使δ。(一)分子間氫鍵*(二)分子內(nèi)氫鍵
若分子內(nèi)H鍵以五元環(huán)或六元環(huán)的狀態(tài)存在,通常比較穩(wěn)定,其強(qiáng)度基本上不受濃度、溫度、溶劑等的影響。
能形成分子內(nèi)H鍵的化合物的H鍵H核的化學(xué)位移值一般大于10ppm。*六、質(zhì)子交換對(duì)化學(xué)位移的影響
與O、S、N等原子直接相連的H原子,比較易于電離,故稱為酸性H核,這類化合物之間能發(fā)生質(zhì)子交換:
ROHa+R’OHb
ROHb+R’OHa
快速質(zhì)子交換的結(jié)果,會(huì)產(chǎn)生一個(gè)位于原先的兩個(gè)酸性H核共振峰之間的新的平均峰。當(dāng)加入酸、堿、或加熱時(shí),可大大加快質(zhì)子交換的速度。*七.溶劑效應(yīng)
由于溶劑的影響而使溶質(zhì)的化學(xué)位移改變的現(xiàn)象叫溶劑效應(yīng)。通常,溶劑的極性、磁化率、磁各向異性等性質(zhì),都會(huì)對(duì)溶質(zhì)H核產(chǎn)生一定的影響,使其δ變化。
氘代溶劑不含H核,不會(huì)干擾樣品H核的譜圖。常用氘代溶劑:OOD2O、CDCl3
、CD3-C-CD3
、CD3-S-CD3....等。*試解釋酚羥基在氯仿中時(shí),δ=7.3ppm,在二甲亞砜中時(shí)δ=8.2ppm的原因。
試解釋用三乙胺稀釋時(shí),CHCl3上H核共振峰移向低場(chǎng)的原因。*八.溫度對(duì)化學(xué)位移的影響
在某些情況下,溫度會(huì)對(duì)化學(xué)位移產(chǎn)生較大的影響。例如,苯酚在水溶液中的溶解度隨溫度而變化,因此在不溫度下酚羥基的共振峰位置將發(fā)生改變?;顫姎涞幕顫娦浴⒒プ儺悩?gòu)、環(huán)的翻轉(zhuǎn)、受阻旋轉(zhuǎn)等,通常都會(huì)受到溫度的影響,使相應(yīng)H核的化學(xué)位移值發(fā)生變化。*
7.3.4各類氫核的化學(xué)位移一.烷烴-CH3:
CH3=0.791.10ppm-CH2:
CH2=0.981.54ppm-CH:
CH=CH3+(0.50.6)ppm
H=3.2~4.0ppm
H=2.2~3.2ppm
H=1.8ppm
H=2.1ppm
H=2~3ppm*(1)單取代烷烴(RY)中的CH3、CH2、CH的δ值:
可直接由p.115表4-1查出。*
(2)取代烷烴的δ值:
而取代烷烴中相應(yīng)氫核的化學(xué)位移,可以在單取代烷烴的基礎(chǔ)上疊加其他取代基相對(duì)于無取代時(shí)(表中Y=H)的增加值。*
二.烯烴
烯H的約為5.25ppm左右,隨取代基種類和數(shù)量而變化,范圍大致為4.5~7.5ppm。
三.芳香族化合物
苯氫約7.30ppm,取代苯芳?xì)涞囊蛉〈N類、位置的不同而7.30ppm左右變化,約為6.0~9.5ppm。由于稠環(huán)芳烴的磁各向異性效應(yīng)比苯的強(qiáng),故位于其去屏蔽區(qū)的芳?xì)涞幕瘜W(xué)位移值比苯的略大,在7.4~9ppm左右。
*(二)稠環(huán)芳烴
為平面分子,其磁各向異性比苯更強(qiáng)。例如:
萘蒽菲*(三)雜芳環(huán)
其芳H的δ與它與雜原子的相對(duì)位置有關(guān),并且受溶劑絮狀的影響。例如:呋喃吡咯噻吩
吡啶喹啉*四.活潑氫與O、N、S等原子相連的H叫活潑氫,其化學(xué)位移的大小與鍵連原子的電負(fù)性、氫鍵的形成、質(zhì)子交換速度等密切相關(guān),并且受濃度、溫度、溶劑等的影響。*五.炔氫
七.某些環(huán)狀化合物
化學(xué)位移值約為1.8~3.0ppm,隨取代基的不同而有所變化。易與其他H核共振峰重疊。六.醛類醛H的化學(xué)位移約為9~10ppm,一般變化不大。*八.重氫溶劑殘留氫的干擾峰
o
CDCl3D2OCD3CNCD3CCD3δ/ppm
7.274.751.952.05
OOCD3OD
CD3C-ODCD3SCD3C6D6δ/ppm3.352.052.57.34.8411.537.4.1自旋偶合產(chǎn)生的原因7.4.2偶合常數(shù)(J)7.4.3核的等價(jià)性和產(chǎn)生自旋干擾的條件7.4.4裂分小峰數(shù)和面積比7.4.5自旋系統(tǒng)的分類7.41HNMR譜中的自旋偶合與自旋系統(tǒng)
spin-spincoupling7.41HNMR譜中的自旋偶合與自旋系統(tǒng)在化合物CH3CH2I
的NMR譜圖中,兩類不同的H核產(chǎn)生了兩組峰:δ1.8
處的三重峰為-CH3
產(chǎn)生,δ3.05
處的四重峰為-CH2產(chǎn)生。
兩組相鄰的不同基團(tuán)上的H核相互影響,使它們的共振峰產(chǎn)生了裂分,這種現(xiàn)象叫自旋偶合。也叫自旋干擾。
7.4.1自旋偶合產(chǎn)生的原因
自旋偶合是自旋核之間的相互作用,是一種自旋干擾現(xiàn)象。例如,HF
分子中F核與H核之間的自旋偶合:19FI=1/2mF=+1/2,-1/2當(dāng)mF=+1/2
時(shí),自旋取向與外磁場(chǎng)平行,會(huì)增強(qiáng)外磁場(chǎng)作用,使H核實(shí)受磁場(chǎng)強(qiáng)度增大,故其共振峰移向低場(chǎng)。
當(dāng)mF=-1/2
時(shí),自旋取向與外磁場(chǎng)相反,會(huì)減弱外磁場(chǎng)作用,使H核實(shí)受磁場(chǎng)強(qiáng)度減小,故其共振峰移向高場(chǎng)。
mF=+1/2mF=-1/2無自旋干擾有F核的自旋干擾1H核共振峰
同樣的道理,HF分子中的H核也會(huì)對(duì)F核自旋干擾作用,使19F核的共振峰裂分為二等強(qiáng)度的峰。
由自旋偶合引起的裂分小峰間的距離叫偶合常數(shù),用J表示,單位為HZ。1H核之間的J
≤20HZ。
J反映了自旋干擾核之間相互干擾的強(qiáng)弱。
J的大小與外磁場(chǎng)強(qiáng)度無關(guān),與干擾核之間的鍵數(shù)、鍵的性質(zhì)等有關(guān),也與取代基的電負(fù)性、分子的立體結(jié)構(gòu)、極化作用等有關(guān),偶合常數(shù)是一個(gè)很重要的結(jié)構(gòu)參數(shù)。
相互偶合的核,其偶合常數(shù)必然相等。例如,JHF=JFH。7.4.2偶合常數(shù)J(couplingconstantJ)7.4.3核的等價(jià)性和產(chǎn)生自旋干擾的條件
7.4.3核的等價(jià)性和產(chǎn)生自旋干擾的條件
一、
磁等價(jià)核
分子中若有一組自旋核,其化學(xué)位移相同,它們對(duì)組外任何一個(gè)磁性核的偶合常數(shù)都相等,則這些自旋核稱為磁等價(jià)核。從幾何關(guān)系上看,若分子中有一組自旋核對(duì)其他組中的每個(gè)自旋核的鍵距和鍵角都相同,則這組核對(duì)其他組核的偶合常數(shù)相同,這組核即為磁等價(jià)核,否則為磁不等價(jià)核。
例如,CH3-CH2-Cl
中,-CH3
的三個(gè)H核是磁等價(jià)的,-CH2
的兩個(gè)H核是磁等價(jià)的。
下面的標(biāo)記H是否是磁等價(jià)的?HaFC=CHbFCH3NO2HaHbHb’Ha’二.磁不等價(jià)核1.化學(xué)環(huán)境不同的H核是磁不等價(jià)核。2.與不對(duì)稱碳相連的-CH2上的兩個(gè)H核是磁不等價(jià)核。
3.取代烯的同碳H核是磁不等價(jià)核。HaCH3C=CHbCH3
4.單鍵帶有雙鍵的性質(zhì)時(shí),會(huì)產(chǎn)生磁不等價(jià)核。5.單鍵旋轉(zhuǎn)受阻時(shí),會(huì)產(chǎn)生磁不等價(jià)核。6.構(gòu)象固定的環(huán)上的CH2的兩個(gè)H核是磁不等價(jià)核。HHHHaHbHaHbHbHaBrBrBr
RRRRRR
HdHdHcHc7.鄰位或?qū)ξ欢〈綍?huì)產(chǎn)生磁不等價(jià)核。
三取代苯呢?CH3NO2HaHa’
Hb
Hb’
BrBrHaHa’HbHb’
Cl
Cl
ClHa
HbHc
Cl
ClHa
HbHcNO2三.產(chǎn)生自旋干擾的條件
一、自旋量子數(shù)
I
>0的核對(duì)相鄰H核可能產(chǎn)生自旋干擾,I=0的核不會(huì)產(chǎn)生自旋干擾。例如CH3-CH2-OH
二、35Cl、79Br、127I等原子的自旋量子數(shù)I分別為3/2、3/2、5/2,但其電四極矩很大,會(huì)引起相鄰H核的自旋去偶作用,故不會(huì)H核的共振峰裂分,也不會(huì)出現(xiàn)鹵-鹵裂分的現(xiàn)象。例如CH3-CHCl-CH2-Cl
三、只有磁不等價(jià)的H核之間發(fā)生偶合時(shí),才會(huì)產(chǎn)生共振峰的裂分。
例如CH3-CH2-CH3
四、若H核之間的單鍵數(shù)>3,則二者通常不會(huì)產(chǎn)生自旋偶合作用,也不會(huì)產(chǎn)生共振峰的裂分。
例如CH3-CH2-O-CH3
7.4.4裂分小峰數(shù)目及面積比
一.裂分小峰數(shù)的計(jì)算
1.n+1規(guī)律若有n個(gè)自旋量子數(shù)為I的磁等價(jià)核,則它們?cè)谕獯艌?chǎng)中會(huì)產(chǎn)生2nI+1種不同的自旋取向組合,使與其偶合的其他自旋核的共振峰裂分為2nI+1個(gè)峰。
1H核的I=1/2,故一組n
個(gè)磁等價(jià)H核會(huì)使組外的與其偶合的其他磁等價(jià)H核產(chǎn)生的峰裂分小數(shù)為:
N=n+1若有兩組個(gè)數(shù)n和n’的磁等價(jià)H核都與另一組磁等價(jià)H核相偶合,并且它們的偶合常數(shù)不相等,則后者的共振峰裂分?jǐn)?shù)為:N=(n+1)(n’+1)
abcd
例.求CH3-CH2-CH2-O-CH3中各H核的裂分小峰數(shù),并畫出該化合物的NMR峰草圖。
2.峰裂分的向心規(guī)則:
相互偶合的裂分峰,內(nèi)側(cè)偏高,外側(cè)偏低,并且二組峰的化學(xué)位移差越小,內(nèi)側(cè)峰越高。1:11:3:3:11:11:2:1(nb+1)(nc+1)(nd+1)=2×2×2=8Ha裂分為8重峰1:3:3:11:2:11:11:6:15:20:15:6:1下面的化合物中的Ha、Hb、Hc各會(huì)裂分為多少重峰?01234JcaJbaJca
JbaHa裂分峰:(3+1)(2+1)=12實(shí)際Ha裂分峰:(5+1)=6強(qiáng)度比近似為:1:5:10:10:5:1
二.裂分小峰面積比的計(jì)算
當(dāng)氫核只與n個(gè)磁等價(jià)氫核偶合時(shí),它所產(chǎn)生的裂分小峰的面積比近似地等于二項(xiàng)式(a+b)n的展開式的各項(xiàng)系數(shù)比。例如,n=1時(shí),面積比=1∶1;n=2時(shí),面積比=1∶2∶1;n=3時(shí),面積比=1∶3∶3∶1;n=4時(shí),面積比=1∶4∶6∶4∶1……等等。7.4.5
自旋系統(tǒng)的分類
分子中相互偶合的核所組成的孤立系統(tǒng)叫自旋系統(tǒng)。系統(tǒng)內(nèi)部的偶合核不與系統(tǒng)外部的任何核偶合;但在系統(tǒng)內(nèi)部,某個(gè)核不一定與其他每一個(gè)核都偶合。一個(gè)分子中有可能同時(shí)存在幾個(gè)偶合系統(tǒng)。例如,
CH3CH2-O-CH2CH2CH3
中有兩個(gè)自旋系統(tǒng)。在自旋系統(tǒng)內(nèi),相互偶合的核的化學(xué)位移差(⊿v/HZ)和偶合常數(shù)(J/HZ)的大小,反映了偶合作用的強(qiáng)弱。
一.低級(jí)偶合系統(tǒng)如果自旋系統(tǒng)中偶合核的⊿v
》J,表明二者干擾作用較弱,這種偶合系統(tǒng)叫做低級(jí)偶合系統(tǒng),其譜圖叫一級(jí)譜圖。低級(jí)偶合中涉及到的H核通常用字母表上相距較遠(yuǎn)的字母來表示,字母右下角的數(shù)字表示某種磁等價(jià)H核的個(gè)數(shù)。例如,CH3-CH2-CHCl2可表示為:A3M2XOCH3CH2-O-C-CH3可表示為:A3-M2X3
Cl2CH-CH2Cl
一級(jí)譜圖的特點(diǎn):
1.偶合產(chǎn)生的裂分小峰數(shù)符合“n+1”規(guī)律。2.裂分小峰面積比約等于二項(xiàng)展開式(a+b)n的系數(shù)比。3.譜線以化學(xué)位移為中心,左右對(duì)稱,相互偶合的H核的偶合常數(shù)J相等。4.從譜圖中可直接讀出和J。二.高級(jí)偶合系統(tǒng)相互偶合的H核的⊿v≈J或⊿v<J
時(shí),它們的干擾作用比較強(qiáng)烈,形成高級(jí)偶合系統(tǒng),其譜圖通常很復(fù)雜,叫高級(jí)譜圖或二級(jí)譜圖。高級(jí)偶合中涉及的H核通常用字母表上鄰近的字母來表示,如AB、ABC、A2B2、AA’BB’、XY、ABCD等。
高級(jí)級(jí)譜圖(二級(jí)譜圖)的特點(diǎn):1.一般情況下,裂分小峰數(shù)不符合“n+1規(guī)律”,通常有更多的裂分小峰。
2.裂分小峰之間強(qiáng)度關(guān)系復(fù)雜,不符合二項(xiàng)展開式系數(shù)比規(guī)律。
3.裂分小峰間距不相等,
和J不能從譜圖中直接讀出。
例如,ABX系統(tǒng)。
有14條譜線A、B的化學(xué)位移相近。
AB2系統(tǒng)有9條譜線,A、B各4條,還有一條很弱的綜合峰。ABC系統(tǒng)
譜圖較復(fù)雜,最多可出現(xiàn)15條譜線,其中3條綜合峰很弱。單取代烯、某些三取代苯、二取代吡啶、一取代呋喃、一取代噻吩等等都具有這種自旋體系。
1,2,4-三氯苯的1HNMRHCHAHBClClClABC四旋系統(tǒng)常見的有:AX3、A2X2、A2B2、AA’BB’等系統(tǒng)。
1.AX32.A2X23.A2B2
A2B2系統(tǒng)共14條譜線,A部、B部各7條。左右對(duì)稱.A2B2系統(tǒng)AA’BB’系統(tǒng)。
譜線復(fù)雜,最多有28條譜線。AA’、BB’各占14條。譜線左右對(duì)稱。AA’BB’系統(tǒng)常見復(fù)雜譜圖787.4.6簡(jiǎn)化譜圖的方法
二級(jí)譜圖比一級(jí)譜圖復(fù)雜,解析難度大,可采取以下簡(jiǎn)化譜圖的措施:
1、使用高頻NMR儀;
2、采用雙照射自旋去偶技術(shù);
3、對(duì)活潑氫進(jìn)行重氫交換;
4、加入位移試劑;等等。7.51HNMR譜中的偶合常數(shù)與分子結(jié)構(gòu)的關(guān)系7.5.1偕偶、鄰偶和芳?xì)渑己?.5.2遠(yuǎn)程偶合7.5.1偶合常數(shù)與分子結(jié)構(gòu)的關(guān)系
偶合常數(shù)與分子結(jié)構(gòu)直接相關(guān),按相互偶合的H核之間的鍵數(shù)的多少,可將偶合作用分為偕偶、鄰偶和遠(yuǎn)程偶合三類。
7.5.1偕偶、鄰偶和芳?xì)渑己?/p>
1、偕偶(J同或2J)
偕偶為同一碳原子上的兩個(gè)H核之間的偶合,也是通過兩個(gè)單鍵傳遞的偶合。即H-C-H中的二H核之間的偶合。2J一般為負(fù)值,隨取代基的不同,其值變化較大。例如,
2-甲基-4-氧環(huán)戊酮的1HNMR譜圖
2-甲基-4-氧環(huán)戊酮的1HNMR譜圖a1cbedf26354109872、鄰偶(J鄰或3J)
相互偶合的H核分別位于相鄰的兩個(gè)碳原子上,通過3個(gè)鍵而傳遞的偶合。即H-C-C-H中的二H核之間的偶和。不同類型的化合物的3J的大小不同。飽和化合物的3J約為0~18HZ。
飽和開鏈化合物的3J
≈6~8Hz。不飽和化合物的3J約為幾至十幾Hz。7.5.3芳H及雜芳H的偶合
芳環(huán)中H核的偶合常數(shù)通常為正值。
J鄰=6~9HZ,J間=0.8~3HZ,J對(duì)=0~1.5HZ。J鄰隨著芳環(huán)的擴(kuò)大而增大。取代苯因J鄰、J對(duì)、J間的存在而產(chǎn)生復(fù)雜的多重峰。雜芳環(huán)的芳?xì)涞呐己吓c取代苯相類似,J的大小和芳?xì)渑c雜原子的相對(duì)位置有關(guān),其1HNMR譜圖通常比較復(fù)雜。7.5.2
遠(yuǎn)程偶合
為超過三個(gè)鍵的偶合作用通常含有π鍵體系,其偶合作用較弱,偶合常數(shù)往往較小,約為0~3HZ,難以觀察到,但它的影響常常使共振峰的寬度增加。一.取代苯的遠(yuǎn)程偶合取代苯芳?xì)渑c側(cè)鏈的偶合:J<1HZ
;間位芳?xì)涞呐己希篔≈0.8~3HZ
;對(duì)位芳?xì)涞呐己希篔≈0~1HZ
。CH3HaHbHcHd
He二.烯丙體系的遠(yuǎn)程偶合
為跨過一個(gè)雙鍵和三個(gè)單鍵的偶合作用:
Ha-C-C=C-Hb其偶合常數(shù)較小,約為0~-3HZ
(4J)。
HaCH3
(
c)
OHaC=CO=CC=CHbCH2
(X)
HbJab=0~-1.5HZJax=-1.94HZJbc=-1.6~-3.0HZJbx=-1.36HZ三.高丙稀體系的遠(yuǎn)程偶合
為跨過一個(gè)雙鍵和四個(gè)單鍵的偶合作用:
Ha-C-C=C-C-Hb
其
5J≈0~4HZ
。例如,CH3CH3C=CCH3CH3
5J
順=5J反≈1HZ
四.炔和累積雙鍵的遠(yuǎn)程偶合
炔和累積雙鍵易于傳遞偶合作用。例如,CH3-C=C-C=C-CH3
7J=1.3HZCH3-C=C-C=C-C=CH2-OH
9J=0.4HZCH3OOC
C=CH
4Jab=6.5HZ
5Jbd=1.1HZ
CH3
(c)
CH=C=CH2
7Jbc=1.3HZ(a)(b)(d)五.4J
“W”型和5J
折線型遠(yuǎn)程偶合
分子中的4個(gè)單鍵共處同一平面而構(gòu)成W型時(shí),其4J
≈1~2HZ。4Jab=1~2HZ4Jab=1~2HZ4Jab=7HZ5Jab=0.4~2HZ7.6.1有機(jī)化合物的結(jié)構(gòu)鑒定
化合物1HNMR譜圖中的結(jié)構(gòu)信息:(1)峰的組數(shù):分子中磁不等價(jià)H核的種類;(2)每組峰的面積比(積分曲線高度比):每類H核的相對(duì)數(shù)目比;(3)峰的化學(xué)位移(
):每類H核所處的化學(xué)環(huán)境;(4)峰的裂分?jǐn)?shù):相互偶合的相鄰碳原子上的H核數(shù);(5)偶合常數(shù)(J):相互偶合的程度,確定化合物構(gòu)型。7.61HNMR譜的應(yīng)用示例7.6.1.1譜圖解析的一般步驟:一.測(cè)得化合物的分子量、分子式,并計(jì)算不飽和度,以判斷分子是否有環(huán)、雙鍵、三鍵、芳環(huán)等。二.檢查譜圖質(zhì)量。三.識(shí)別干擾峰。四.由積分曲線高度比確定每組峰對(duì)應(yīng)的H核數(shù)。若積分曲線高度簡(jiǎn)比數(shù)字之和等于分子中H核總數(shù)的1/2,則該分子可能有對(duì)稱結(jié)構(gòu)。
五.解析孤立甲基、亞甲基等形成的單峰:
O
CH3-O-,CH3-N-,CH3-Ar,CH3-C-,
CH3-C=
再解析:-COOH、-CHO
(低場(chǎng)信號(hào))最后解析:芳烴質(zhì)子和其它質(zhì)子。六、由化學(xué)位移對(duì)照有關(guān)圖表數(shù)據(jù),判斷各組峰所代表的H核的性質(zhì)。七、根據(jù)化學(xué)位移、裂分峰數(shù)目和形狀、偶合常數(shù)等分析各組峰之間的關(guān)系,以確定各基團(tuán)的鍵合狀態(tài)和空間關(guān)系。
八、連接各基團(tuán),推出可能的結(jié)構(gòu)式。用經(jīng)驗(yàn)公式或類比法核對(duì)該結(jié)構(gòu)式是否合理,或?qū)φ找阎锏臉?biāo)準(zhǔn)譜圖,參考IR,UV,MS和其它數(shù)據(jù)推斷解構(gòu)得出結(jié)論。
驗(yàn)證結(jié)構(gòu),確定出正確的結(jié)構(gòu)式。九、1HNMR譜的檢索。6個(gè)質(zhì)子處于完全相同的化學(xué)環(huán)境,單峰。沒有直接與吸電子基團(tuán)(或元素)相連,在高場(chǎng)出現(xiàn)。7.6.1.2
解析示例
例1例2
質(zhì)子a與質(zhì)子b所處的化學(xué)環(huán)境不同,兩個(gè)單峰。
注意:烷基無相鄰碳原子,或相鄰碳原子上無質(zhì)子均產(chǎn)生單峰。
質(zhì)子b直接與電負(fù)性強(qiáng)的O原子相連,產(chǎn)生去屏蔽效應(yīng),共振峰出現(xiàn)在低場(chǎng)(相對(duì)與質(zhì)子a)。質(zhì)子a受O影響,其峰與烷烴甲基相比也明顯移向低場(chǎng)。例3考慮:裂分小峰與化學(xué)位移例4苯環(huán)上的質(zhì)子在低場(chǎng)出現(xiàn)。為什么?為什么1H比6H的化學(xué)位移大?每組峰的個(gè)數(shù)是多少?10.34.14.146.2例5.求化合物C10H12O2的結(jié)構(gòu)。876543210
δ2.1δ4.30δ3.0δ7.3解:可能結(jié)構(gòu):
=(2×10-12+2)/2=5δ2.1單峰三個(gè)氫,—CH3峰
結(jié)構(gòu)中有氧原子,可能具有:δ7.3芳?xì)洌榛鶈稳〈ǔo@單峰。δ3.0δ4.30δ2.1
δ3.0和δ4.30三重峰和三重峰:
O—CH2CH2—相互偶合峰
積分曲線高度簡(jiǎn)比數(shù)字和=5+2+2+3=12
例6.9δ5.30δ3.38δ1.37化合物分子式為C7H16O3,試推斷其結(jié)構(gòu)。61解:C7H16O3,
=(7×2-16+2)/2=0積分曲線高度簡(jiǎn)比數(shù)字之和=1+6+9=16
δ3.38四重峰和δ1.37三重峰:
—CH2CH3相互偶合峰。δ3.38含有—O—CH2—結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)中有三個(gè)氧原子,可能具有(—O—CH2—)3。δ5.3:CH上氫吸收峰,低場(chǎng),應(yīng)與多個(gè)電負(fù)性基團(tuán)相連。正確結(jié)構(gòu):例7.
化合物的分子式為C10H12O2,試推斷其結(jié)構(gòu)。δ7.3δ5.21δ1.2δ2.35223解:
C10H12O2,
=(2×10-12+2)/2=5簡(jiǎn)比數(shù)字之和=5+2+2+3=12δ
2.32和δ1.2:—CH2CH3相互偶合峰,δ7.3:芳環(huán)上氫,單峰,烷基單取代,δ5.21:—CH2上氫,低場(chǎng),與電負(fù)性基團(tuán)相連。哪個(gè)正確?為什么?正確:B。例8.化合物分子式為C8H8O2,試推斷其結(jié)構(gòu)。987654310122
3解:化合物C8H8O2,
=(2×8-8+2)/2=5簡(jiǎn)比數(shù)字和=1+2+2+3=8δ7-8—芳環(huán)上氫,四個(gè)峰對(duì)位取代δ9.87—醛基上氫,δ3.87—CH3上氫,向低場(chǎng)移動(dòng),與電負(fù)性強(qiáng)的元素相連:—O—CH3可能結(jié)構(gòu):例9.化合物C6H12O的IR譜圖和NMR譜圖如下,求其可能的結(jié)構(gòu)。解:Ω=(2×6-12+2)/2=1
~1700cm-1,為醛、酮的VC=0,
<
3000cm-1,為飽和烴的VC-H。
1800140030003500100020002500600化合物C6H12O1HNMR譜圖33210415δ/ppm
33210415δ/ppm
Ω=1,兩種H核簡(jiǎn)比數(shù)字之和=1+3=4,而分子中H核數(shù)為12,表明每一數(shù)字相當(dāng)于12/4=3個(gè)H核。無裂分,即無相互偶合H核。故有-CH3、
-
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