ICS25.010

CCSJ70

CASME

團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)

T/CASMEXXXX—2024

磁控濺射鍍膜機(jī)

Magnetronsputteringcoater

（征求意見稿）

在提交反饋意見時(shí)，請(qǐng)將您知道的相關(guān)專利連同支持性文件一并附上。

2024-XX-XX發(fā)布2024-XX-XX實(shí)施

中國(guó)中小商業(yè)企業(yè)協(xié)會(huì)??發(fā)布

T/CASMEXXXX—2024

目次

前言........................................................................................................................................................................II

1范圍...................................................................................................................................................................1

2規(guī)范性引用文件..............................................................................................................................................1

3術(shù)語和定義......................................................................................................................................................1

4基本參數(shù)..........................................................................................................................................................1

5技術(shù)要求..........................................................................................................................................................2

6試驗(yàn)方法..........................................................................................................................................................3

7檢驗(yàn)規(guī)則..........................................................................................................................................................4

8標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸與貯存..............................................................................................................................5

I

T/CASMEXXXX—2024

磁控濺射鍍膜機(jī)

1范圍

本文件規(guī)定了磁控濺射鍍膜機(jī)的術(shù)語和定義、基本參數(shù)、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、

包裝、運(yùn)輸和貯存內(nèi)容。

本文件適用于磁控濺射鍍膜機(jī)。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中，注日期的引用文件，

僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改單）適用于本

文件。

GB/T191包裝儲(chǔ)存圖示標(biāo)志

GB/T2828.1計(jì)數(shù)抽樣檢驗(yàn)程序第1部分：按接收質(zhì)量限（AQL）檢索的逐批檢驗(yàn)抽樣計(jì)劃

GB/T3768聲學(xué)聲壓法測(cè)定噪聲源聲功率級(jí)和聲能量級(jí)采用反射面上方包絡(luò)測(cè)量面的簡(jiǎn)易法

GB/T3797電氣控制設(shè)備

GB/T6070真空技術(shù)法蘭尺寸

GB/T13306標(biāo)牌

GB/T13384機(jī)電產(chǎn)品包裝通用技術(shù)條件

GB/T19678.1使用說明的編制構(gòu)成、內(nèi)容和表示方法第1部分：通則和詳細(xì)要求

GB/T24468半導(dǎo)體設(shè)備可靠性、可用性和維修性（RAM）的定義和測(cè)量規(guī)范

GB/T30574機(jī)械安全安全防護(hù)的實(shí)施準(zhǔn)則

JB/T10463真空磁流體動(dòng)密封件

SJ/T11512集成電路用電子漿料性能試驗(yàn)方法

IEC60204-33機(jī)械電氣安全機(jī)械電氣設(shè)備第33部分：半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)條件（Safetyofmachinery–

Electricalequipmentofmachines-Part33：Requirementsforsemiconductorfabricationequipment，IDT）

IEC60364-4-41低壓電氣裝置第4-41部分：安全防護(hù)電擊防護(hù)（Low-voltageelectricalinstallations

Part4-41：Protectionforsafety-Protectionagainstelectricshock）

IEC60364-4-43低壓電氣裝置第4-43部分：安全防護(hù)過電流保護(hù)（Low-voltageelectrical

installations-Part4-43：Protectionforsafety-Protectionagainstovercurrent）

3術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本文件。

磁控濺射鍍膜機(jī)magnetronsputteringcoater

是一種采用真空磁控濺射技術(shù)的設(shè)備，它通過陰極表面施加的磁場(chǎng)約束電子運(yùn)動(dòng)，增強(qiáng)氣體離化率，

從而實(shí)現(xiàn)高速、低溫、低損傷地在基材上沉積金屬、半導(dǎo)體或絕緣體等多種材料的薄膜層，是物理沉積

技術(shù)的重要應(yīng)用之一。

4基本參數(shù)

基本參數(shù)見表1。

表1基本參數(shù)

序號(hào)項(xiàng)目要求

1

T/CASMEXXXX—2024

序號(hào)項(xiàng)目要求

100×100、200×200、300×300、450×650、650×1200、1000×2000、1200×2400

1基材尺寸/mm

等

2基片厚度/mm0.01~100

3電力3相380V±10%，50Hz（3AC，N，PE），（接地電阻≤4Ω）

4腔體漏率/（Pa·m3/s）1×10-12

5真空計(jì)測(cè)量范圍/Pa1.0×10-6～大氣壓

6工藝真空度/Pa5×10-4（20min達(dá)到）

7極限真空度/Pa1.0×10-6

8工藝氣體數(shù)量五路（可定制）

平面矩形陰極旋轉(zhuǎn)靶槍圓柱靶槍平面圓柱旋轉(zhuǎn)靶槍雙旋轉(zhuǎn)靶槍變距平

靶槍種類/////

9面靶槍

10靶基距/mm60~150（根據(jù)工藝要求確定）

11冷卻方式水冷（超純水）

12傳動(dòng)系統(tǒng)臥式輸送方式/水平旋轉(zhuǎn)平臺(tái)/立式輸送方式

13片間膜厚穩(wěn)定性≤2%

5技術(shù)要求

工作環(huán)境

磁控濺射鍍膜機(jī)工作環(huán)境條件應(yīng)滿足以下條件：

——溫度：20℃~28℃；

——相對(duì)濕度：20%~55%；

——潔凈度：百萬級(jí)。

基本要求

5.2.1磁控濺射鍍膜機(jī)應(yīng)按制造企業(yè)規(guī)定程序批準(zhǔn)的圖樣和技術(shù)文件制造。

5.2.2基片架輸送平臺(tái)應(yīng)運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，無異常聲響，無卡阻現(xiàn)象。

5.2.3真空系統(tǒng)應(yīng)無泄漏，泵組運(yùn)行平穩(wěn)無異常聲音，抽速符合要求。

5.2.4執(zhí)行機(jī)構(gòu)動(dòng)作應(yīng)協(xié)調(diào)準(zhǔn)確、順暢。

5.2.5水冷系統(tǒng)應(yīng)暢通，各冷卻部件應(yīng)供水充分，無滲漏現(xiàn)象。

5.2.6設(shè)備中外購的配套產(chǎn)品，應(yīng)有質(zhì)量合格證。設(shè)備中自制的配套產(chǎn)品，經(jīng)制造廠檢驗(yàn)部門檢驗(yàn)合

格后方可使用。

5.2.7需用潤(rùn)滑脂的動(dòng)密封處應(yīng)充入適量真空油脂。

外觀質(zhì)量

5.3.1外露加工不應(yīng)有磕碰、劃傷、銹蝕等有損質(zhì)量的缺陷。

5.3.2外露非加工表面不應(yīng)有凸瘤、凹陷、氣孔等影響質(zhì)量的缺陷。

5.3.3焊縫應(yīng)牢固，連接焊縫不應(yīng)出現(xiàn)間斷、焊瘤、表面氣孔和裂紋等缺陷。

5.3.4涂漆件的涂層應(yīng)光滑、平整、顏色、光澤應(yīng)均勻一致，外觀不應(yīng)出現(xiàn)明顯凹陷不平、砂紙道痕、

流掛、氣泡等缺陷。

5.3.5安全防護(hù)罩應(yīng)表面平整，間隙均勻，圓弧光滑，不應(yīng)有凸起、凹陷和翹曲等現(xiàn)象。

5.3.6水路、氣動(dòng)等管路布置應(yīng)整齊有序固定牢靠，管路不應(yīng)產(chǎn)生扭曲、折疊等現(xiàn)象。

5.3.7標(biāo)牌應(yīng)平整、光潔、固定應(yīng)牢靠，不應(yīng)有鉚裂、偏斜等缺陷。

5.3.8設(shè)備鍍膜室內(nèi)表面及各密封表面的表面應(yīng)平整，且應(yīng)對(duì)工作時(shí)處于真空狀態(tài)的各表面應(yīng)進(jìn)行有

效的真空清潔處理并予以干燥。

5.3.9設(shè)備尺寸應(yīng)符合GB/T6070的要求，靜動(dòng)密封零部件應(yīng)符合JB/T10463的要求。

真空要求

5.4.1系統(tǒng)從干燥氣體保護(hù)下開始抽氣，真空工藝腔室20min可達(dá)到5×10-4Pa。

2

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5.4.2經(jīng)烘烤除氣后，極限真空≤1.0×10-5Pa，腔體漏率≤1.0×10-12Pa·m3/s。

5.4.3在保壓測(cè)試環(huán)節(jié)，系統(tǒng)抽至高真空后停泵關(guān)機(jī)保壓24h后，真空度≤10Pa。

控制系統(tǒng)

5.5.1磁控濺射鍍膜機(jī)控制系統(tǒng)功能應(yīng)具備以下要求：

——真空系統(tǒng)控制與監(jiān)測(cè)；

——靶槍運(yùn)行功率和電流控制與監(jiān)測(cè)；

——基片平臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制與監(jiān)測(cè)；

——工藝氣體系統(tǒng)控制與監(jiān)測(cè)：

——異常報(bào)警提示，可查詢異常報(bào)警記錄。

5.5.2磁控濺射鍍膜機(jī)的基片平臺(tái)運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)應(yīng)運(yùn)行平穩(wěn)、靈活、輕便、無阻滯、無異常聲音。

5.5.3氣路和水路管路應(yīng)連接可靠，無泄漏現(xiàn)象。

5.5.4磁控濺射鍍膜機(jī)的操作按鍵應(yīng)靈敏可靠，執(zhí)行機(jī)構(gòu)動(dòng)作應(yīng)協(xié)調(diào)準(zhǔn)確、無卡阻或自發(fā)性移動(dòng)。

5.5.5磁控濺射鍍膜機(jī)的零部件、緊固件的連接應(yīng)牢固可靠，無松動(dòng)現(xiàn)象。

5.5.6磁控濺射鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)運(yùn)行流暢、無泄漏。

5.5.7磁控濺射鍍膜機(jī)的靶槍系統(tǒng)可以正常啟動(dòng)且濺射正常。

安全防護(hù)

5.6.1關(guān)鍵部位的水冷卻系統(tǒng)中應(yīng)有斷電或水壓不足的報(bào)警裝置，并與電源、真空系統(tǒng)、傳動(dòng)系統(tǒng)相

關(guān)聯(lián)部分有連鎖保護(hù)機(jī)構(gòu)。

5.6.2設(shè)備與其附屬的電氣裝置之間的連接導(dǎo)線應(yīng)有防止磨損或碰傷的保護(hù)措施。

5.6.3設(shè)備與電氣線路及電氣原件應(yīng)保證不受冷卻液、潤(rùn)滑油及其他有害物質(zhì)的影響。

5.6.4電控系統(tǒng)中，應(yīng)采取相應(yīng)的短路保護(hù)、過電流保護(hù)等必要的防護(hù)措施。

5.6.5外露的齒輪、皮帶輪等應(yīng)有可靠的防護(hù)裝置。

5.6.6液壓和氣壓系統(tǒng)應(yīng)有壓力指示儀表及調(diào)節(jié)壓力的安全裝置。

5.6.7設(shè)備有關(guān)部位應(yīng)裝設(shè)為操作和安全所必需的標(biāo)牌和標(biāo)記。

5.6.8防護(hù)裝置應(yīng)符合GB/T30574、IEC60364-4-41、IEC60364-4-43的要求。

電氣安全

5.7.1電氣設(shè)備和機(jī)械的所有外露可導(dǎo)電部分應(yīng)連接到保護(hù)接地電路上，所有保護(hù)導(dǎo)線應(yīng)進(jìn)行端子連

接，一個(gè)端子應(yīng)連接一根保護(hù)導(dǎo)線，保護(hù)導(dǎo)線連接件不應(yīng)作任何別的機(jī)械緊固用。

5.7.2設(shè)備上的電氣線路及電氣元件應(yīng)保證不受冷卻液、潤(rùn)滑油及其他有害物質(zhì)的影響。

5.7.3設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)中突然停電后，恢復(fù)供電時(shí)電器不應(yīng)自行接通。

5.7.4在設(shè)備電氣線路中，針對(duì)負(fù)載情況應(yīng)有過電流、過載及過熱保護(hù)裝置。

5.7.5在動(dòng)力電路導(dǎo)線和保護(hù)聯(lián)結(jié)電路之間施加500V直流電壓時(shí)，測(cè)得的絕緣電阻不應(yīng)小于1MΩ。

5.7.6在動(dòng)力電路導(dǎo)線和保護(hù)聯(lián)接電路之間施加1000V的電壓、時(shí)間至少1s，不應(yīng)出現(xiàn)擊穿放電現(xiàn)

象。

5.7.7電保護(hù)聯(lián)結(jié)電路的連續(xù)性應(yīng)符合IEC60204-33的規(guī)定。

5.7.8電氣系統(tǒng)的光標(biāo)按鈕、指示燈和顯示器、標(biāo)記、警告標(biāo)志和參照代號(hào)，應(yīng)符合IEC60204-33的

規(guī)定。

噪聲

氣氛退火設(shè)備的整機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)噪聲不應(yīng)大于（65±2）dB(A)。

6試驗(yàn)方法

試驗(yàn)條件

磁控濺射鍍膜機(jī)在進(jìn)行試驗(yàn)前，應(yīng)完成所有安裝和調(diào)試工作，試驗(yàn)環(huán)境條件應(yīng)滿足5.1的要求。

基本要求試驗(yàn)

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應(yīng)采用目視檢查，結(jié)果應(yīng)滿足5.2的要求。

外觀質(zhì)量試驗(yàn)

設(shè)備尺寸、靜動(dòng)密封零部件應(yīng)按GB/T6070、GB/T24468、JB/T10463的要求進(jìn)行試驗(yàn)，其他采用

目視和手動(dòng)檢查，結(jié)果應(yīng)滿足5.3的要求。

真空要求試驗(yàn)

6.4.1真空密封性試驗(yàn)條件應(yīng)滿足以下要求：

——鍍膜室內(nèi)為空載（既不安放被鍍件），但不應(yīng)拆去設(shè)備正常工作應(yīng)安裝的靶槍；

——所用真空計(jì)應(yīng)校驗(yàn)合格且在使用有效期內(nèi)；

——出現(xiàn)密封性問題，應(yīng)使用檢漏儀進(jìn)行氦氣測(cè)漏檢驗(yàn)；

——真空腔室的測(cè)試應(yīng)滿足5.4的要求。

6.4.2試驗(yàn)方法應(yīng)按照以下要求進(jìn)行：

——對(duì)設(shè)備進(jìn)行抽真空操作，詳細(xì)記錄真空系統(tǒng)各部件啟動(dòng)時(shí)間，達(dá)到要求時(shí)間；

——進(jìn)行多次試驗(yàn)，對(duì)結(jié)過進(jìn)行比對(duì)；

——進(jìn)行極限真空測(cè)試，連續(xù)運(yùn)行測(cè)試；

——對(duì)設(shè)備抽真空后，停機(jī)保壓，進(jìn)行24h保壓測(cè)試。

控制系統(tǒng)試驗(yàn)

6.5.1應(yīng)按照GB/T3797、SJ/T11512的要求進(jìn)行試驗(yàn)，目視和操作檢査各操作部位及功能，結(jié)果應(yīng)

滿足5.5的要求。

6.5.2整機(jī)空運(yùn)轉(zhuǎn)試驗(yàn)合格后，應(yīng)進(jìn)行不小于30min的帶載濺射試驗(yàn)。在打靶試驗(yàn)過程中，檢查靶槍

啟輝、工藝氣體輸入、各執(zhí)行機(jī)構(gòu)運(yùn)行狀態(tài)、定長(zhǎng)控制正常、可靠情況，控制有效情況。帶載試驗(yàn)過程

中應(yīng)對(duì)鍍膜后的膜厚均勻性進(jìn)行測(cè)試，測(cè)試方法如下：

——膜厚采用專用儀進(jìn)行測(cè)試，膜層厚度應(yīng)100nm±10nm，每個(gè)測(cè)試點(diǎn)位測(cè)量3次，取3個(gè)測(cè)量

值的均值進(jìn)行相關(guān)計(jì)算。

——測(cè)試點(diǎn)平均分布于玻璃基板有效區(qū)域內(nèi)，不同尺寸基片測(cè)試點(diǎn)數(shù)量不同。

安全防護(hù)試驗(yàn)

應(yīng)按GB/T30574、IEC60364-4-41、IEC60364-4-43的要求進(jìn)行試驗(yàn)，目視和操作檢查各部位及防護(hù)

裝置，結(jié)果應(yīng)滿足5.6的要求。

電氣安全試驗(yàn)

6.7.1電氣系統(tǒng)的線路、導(dǎo)線等，用目測(cè)和感官檢査應(yīng)滿足5.7的規(guī)定。

6.7.2應(yīng)按IEC60204-33的要求進(jìn)行試驗(yàn)，檢測(cè)絕緣電阻其結(jié)果應(yīng)滿足5.7的規(guī)定。

6.7.3應(yīng)按IEC60204-33的要求進(jìn)行試驗(yàn)，檢測(cè)其耐壓強(qiáng)度其結(jié)果應(yīng)滿足5.7的規(guī)定。

6.7.4應(yīng)按IEC60204-33的要求進(jìn)行試驗(yàn)，目視電氣系統(tǒng)安全配置，檢查保護(hù)聯(lián)結(jié)電路的連續(xù)性。

6.7.5電氣系統(tǒng)的操動(dòng)器、指示燈和顯示器、配線及標(biāo)記、警告標(biāo)志和參照代號(hào)應(yīng)按IEC60204-33的

要求進(jìn)行試驗(yàn)。

噪聲試驗(yàn)

在磁控濺射鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)下，應(yīng)按GB/T3768規(guī)定的方法測(cè)量噪聲聲壓值。在環(huán)境噪聲不應(yīng)大于

50dB（A）的場(chǎng)地上進(jìn)行測(cè)量。機(jī)器以最高速度空運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，開啟機(jī)器所有噪聲源，用聲級(jí)計(jì)測(cè)量機(jī)器

四周的噪聲。機(jī)器的周圍不應(yīng)放置障礙物，且與墻壁的距離應(yīng)大于2m，測(cè)量點(diǎn)距地面高度為1.5m，距

機(jī)器四周外輪廓線1m，噪聲以各測(cè)量點(diǎn)噪聲值的最大值計(jì)，結(jié)果應(yīng)滿足5.8的要求。

7檢驗(yàn)規(guī)則

檢驗(yàn)項(xiàng)目

檢驗(yàn)可分為出廠檢驗(yàn)和型式檢驗(yàn)。

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組批

產(chǎn)品應(yīng)以批為單位進(jìn)行檢驗(yàn)，同一型號(hào)、同一工藝連續(xù)生產(chǎn)的產(chǎn)品為一批。

抽樣

7.3.1抽樣方法應(yīng)按GB/T2828.1的要求執(zhí)行。

7.3.2抽樣樣品批次應(yīng)粘貼標(biāo)簽，注明產(chǎn)品名稱、產(chǎn)品型號(hào)、生產(chǎn)批號(hào)、抽樣日期和抽樣者姓名等。

出廠檢驗(yàn)

7.4.1磁控濺射鍍膜機(jī)出廠前，應(yīng)經(jīng)質(zhì)檢部門檢驗(yàn)合格后方可出廠，并附有產(chǎn)品合格證和使用說明。

7.4.2出廠檢驗(yàn)項(xiàng)目見表2。

7.4.3出廠檢驗(yàn)判定為不合格時(shí)，應(yīng)允許重新進(jìn)行修正，再次進(jìn)行出廠檢驗(yàn)，合格后方可出廠。

型式檢驗(yàn)

7.5.1有下列情況之一時(shí)，應(yīng)進(jìn)行型式檢驗(yàn)：

——新產(chǎn)品試制定型鑒定時(shí)；

——正式生產(chǎn)后，如結(jié)構(gòu)、材料、工藝有較大改變，可能影響產(chǎn)品性能時(shí)；

——正常生產(chǎn)時(shí)，每?jī)赡赀M(jìn)行一次；

——產(chǎn)品停產(chǎn)一年以上，恢復(fù)生產(chǎn)時(shí)；

——出廠檢驗(yàn)結(jié)果與上次型式檢驗(yàn)的結(jié)果有較大差異時(shí)；

——各級(jí)質(zhì)量監(jiān)督機(jī)構(gòu)要求進(jìn)行型式檢驗(yàn)時(shí)。

7.5.2型式檢驗(yàn)項(xiàng)目見表2。

7.5.3型式檢驗(yàn)應(yīng)從出廠檢驗(yàn)的產(chǎn)品中隨機(jī)抽取1臺(tái)~2臺(tái)。

7.5.4型式檢驗(yàn)中若有不合格項(xiàng)，應(yīng)允許對(duì)樣機(jī)進(jìn)行調(diào)整修復(fù)或者加倍量抽檢，對(duì)不合格項(xiàng)進(jìn)行復(fù)檢，

若仍不合格，應(yīng)判定型式檢驗(yàn)為不合格。

表2檢驗(yàn)項(xiàng)目

序號(hào)檢驗(yàn)項(xiàng)目技術(shù)要求試驗(yàn)方法出廠檢驗(yàn)型式檢驗(yàn)

1基本要求5.26.2√√

2外觀質(zhì)量5.36.3√√

3真空要求5.46.4√√

4控制系統(tǒng)5.56.5√√

5安全防護(hù)5.66.6√√

6電氣安全5.76.7√√

7噪聲5.86.8—√

注：“√”為必選項(xiàng)目，“—”為可選項(xiàng)目。

8標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸與貯存

標(biāo)志

8.1.1磁控濺射鍍膜機(jī)標(biāo)志應(yīng)符合GB/T191的規(guī)定。

8.1.2每臺(tái)磁控濺射鍍膜機(jī)應(yīng)在明顯位置固定產(chǎn)品標(biāo)牌，且應(yīng)牢固、耐用，并能長(zhǎng)期地固定在醒目的

位置上，標(biāo)牌應(yīng)符合GB/T13306的規(guī)定。

8.1.3銘牌上應(yīng)包含以下內(nèi)容：

——制造廠名及商標(biāo)；

——產(chǎn)品型號(hào)及名稱；

——設(shè)備尺寸；

——設(shè)備重量；

——腔體材質(zhì)；

——靶材；

5

T/CASMEXXXX—2024

——濺射電源；

——執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)號(hào)；

——出廠編號(hào)及日期。

8.1.4使用說明書的編寫應(yīng)符合GB/T19678的規(guī)定。

8.1.5除銘牌的內(nèi)容外，說明書還應(yīng)包含下列內(nèi)容：

——結(jié)構(gòu)和工作原理；

——主要技術(shù)參數(shù)；

——設(shè)備啟動(dòng)和停止操作說明；

——安裝說明；

——常見故障和排除方法。

包裝

8.2.1包裝前應(yīng)對(duì)未做防銹處理的金屬表面涂以防銹油脂。對(duì)整機(jī)包裝的設(shè)備包裝前鍍膜室應(yīng)抽成真

空狀態(tài)并關(guān)閉所有閥門。

8.2.2包裝前應(yīng)將設(shè)備中的殘余積水或廢屑清除干凈，密封面不應(yīng)受損傷，對(duì)易繡金屬應(yīng)采取防銹措

施。

8.2.3包裝應(yīng)采取防震、防潮、防御等措施，不應(yīng)發(fā)生損壞、銹蝕及降低精度等。

8.2.4包裝箱上應(yīng)有防水且不易脫落的發(fā)貨標(biāo)志，包裝應(yīng)符合GB/T13384的規(guī)定。

8.2.5包裝箱應(yīng)有起吊、怕濕、重心點(diǎn)、防止傾倒等標(biāo)志。

8.2.6附件、備件、工具應(yīng)固定在包裝箱內(nèi)空隙處。隨機(jī)文件應(yīng)用塑料袋封裝，放入包裝箱內(nèi)，在包

裝箱外相應(yīng)部位上注明“箱內(nèi)裝有隨機(jī)文件”字樣。

運(yùn)輸

8.3.1運(yùn)輸工具應(yīng)清潔、衛(wèi)生，裝卸貨時(shí)，應(yīng)輕拿輕放，嚴(yán)禁扔摔撞擊、擠壓。

8.3.2在運(yùn)輸過程中有可能松脫的零部件應(yīng)有防松、墊、托等措施。

8.3.3運(yùn)輸過程中不應(yīng)受到日曬、雨淋和劇烈震動(dòng)。

8.3.4不應(yīng)與有毒、有害、有腐蝕性、易揮發(fā)或者有異味的物品混裝運(yùn)輸。

貯存

8.4.1產(chǎn)品應(yīng)貯存在陰涼、通風(fēng)、干燥的庫房中，嚴(yán)禁露天堆放、日曬、雨淋或靠近熱源。

8.4.2在貯存過程中，應(yīng)采用氮?dú)獗Ｗo(hù)。

8.4.3貯存期超過1年時(shí)，出廠前應(yīng)重新進(jìn)行出廠檢驗(yàn)，合格后方能出廠。

8.4.4產(chǎn)品不應(yīng)與有毒、有害、有腐蝕性、易揮發(fā)或者有異味的物品同庫貯存。

6

《磁控濺射鍍膜機(jī)》團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)

編制說明

一、工作簡(jiǎn)況

（一）任務(wù)來源

隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展和進(jìn)步，各種高性能、高質(zhì)量薄膜的需求

日益增加。磁控濺射鍍膜技術(shù)作為一種先進(jìn)的薄膜制備技術(shù)，以其精準(zhǔn)

控制膜層質(zhì)量、工藝配方參數(shù)以及高沉積速率和良好膜層均勻性等優(yōu)點(diǎn)，

在半導(dǎo)體、微電子、光學(xué)、汽車、航空航天等多個(gè)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。

然而，目前國(guó)內(nèi)市場(chǎng)上的高端磁控濺射鍍膜設(shè)備多依賴進(jìn)口，這不僅增

加了生產(chǎn)成本，也限制了國(guó)內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。盡管磁控濺射鍍膜技術(shù)

具有諸多優(yōu)勢(shì)，但在實(shí)際應(yīng)用過程中仍面臨一些挑戰(zhàn)和問題，如鍍膜過

程中可能會(huì)出現(xiàn)膜層質(zhì)量不穩(wěn)定、離化率低、均勻性和可重復(fù)性較差等

問題，這主要是由于設(shè)備性能、工藝控制以及材料特性等多種因素的綜

合影響。

因此，為了提升在該領(lǐng)域的自主研發(fā)能力，打破技術(shù)壟斷，立項(xiàng)開

展磁控濺射鍍膜機(jī)項(xiàng)目顯得尤為重要。開展磁控濺射鍍膜機(jī)項(xiàng)目具有重

要意義。首先，通過自主研發(fā)和創(chuàng)新，可以打破國(guó)外技術(shù)壟斷，提升我

國(guó)在該領(lǐng)域的核心競(jìng)爭(zhēng)力，推動(dòng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展。其次，項(xiàng)目將針

對(duì)磁控濺射鍍膜過程中存在的問題進(jìn)行深入研究和改進(jìn)，優(yōu)化設(shè)備性能

和工藝控制，提高鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量和穩(wěn)定性，滿足市場(chǎng)需求。同時(shí)，項(xiàng)

目還將注重環(huán)保和可持續(xù)發(fā)展，推動(dòng)磁控濺射鍍膜技術(shù)向綠色、低碳方

向發(fā)展。最后，項(xiàng)目的成功實(shí)施將帶動(dòng)上下游產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展，促進(jìn)相關(guān)

企業(yè)的技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)升級(jí)，為我國(guó)制造業(yè)的轉(zhuǎn)型升級(jí)和高質(zhì)量發(fā)展貢

獻(xiàn)力量。

—1—

（二）編制過程

為使本標(biāo)準(zhǔn)在鍍膜機(jī)市場(chǎng)管理工作中起到規(guī)范信息化管理作用，標(biāo)

準(zhǔn)起草工作組力求科學(xué)性、可操作性，以科學(xué)、謹(jǐn)慎的態(tài)度，在對(duì)我國(guó)

現(xiàn)有鍍膜機(jī)市場(chǎng)相關(guān)管理服務(wù)體系文件、模式基礎(chǔ)上，經(jīng)過綜合分析、

充分驗(yàn)證資料、反復(fù)討論研究和修改，最終確定了本標(biāo)準(zhǔn)的主要內(nèi)容。

標(biāo)準(zhǔn)起草工作組在標(biāo)準(zhǔn)起草期間主要開展工作情況如下：

1、項(xiàng)目立項(xiàng)及理論研究階段

標(biāo)準(zhǔn)起草組成立伊始就對(duì)國(guó)內(nèi)外鍍膜機(jī)相關(guān)情況進(jìn)行了深入的調(diào)查

研究，同時(shí)廣泛搜集相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)和國(guó)外技術(shù)資料，進(jìn)行了大量的研究分析、

資料查證工作，確定了鍍膜機(jī)市場(chǎng)標(biāo)準(zhǔn)化管理中現(xiàn)存問題，結(jié)合現(xiàn)有產(chǎn)

品實(shí)際應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)，為標(biāo)準(zhǔn)起草奠定了基礎(chǔ)。

標(biāo)準(zhǔn)起草組進(jìn)一步研究了鍍膜機(jī)需要具備的特殊條件，明確了技術(shù)

要求和指標(biāo)，為標(biāo)準(zhǔn)的具體起草指明了方向。

2、標(biāo)準(zhǔn)起草階段

在理論研究基礎(chǔ)上，起草組在標(biāo)準(zhǔn)編制過程中充分借鑒已有的理論

研究和實(shí)踐成果，基于我國(guó)市場(chǎng)行情，經(jīng)過數(shù)次修訂，形成了《磁控濺

射鍍膜機(jī)》標(biāo)準(zhǔn)草案。

3、標(biāo)準(zhǔn)征求意見階段

形成標(biāo)準(zhǔn)草案之后，起草組召開了多次專家研討會(huì)，從標(biāo)準(zhǔn)框架、

標(biāo)準(zhǔn)起草等角度廣泛征求多方意見，從理論完善和實(shí)踐應(yīng)用多方面提升

標(biāo)準(zhǔn)的適用性和實(shí)用性。經(jīng)過理論研究和方法驗(yàn)證，起草組形成了《磁

控濺射鍍膜機(jī)》（征求意見稿）。

（三）主要起草單位及起草人所做的工作

1、主要起草單位

—2—

協(xié)會(huì)、企業(yè)等多家單位的專家成立了規(guī)范起草小組，開展標(biāo)準(zhǔn)的編

制工作。

經(jīng)工作組的不懈努力，在2024年9月，完成了標(biāo)準(zhǔn)征求意見稿的編

寫工作。

2、起草人所做工作

廣泛收集相關(guān)資料。在廣泛調(diào)研、查閱和研究國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)、

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的基礎(chǔ)之上，形成本標(biāo)準(zhǔn)草案稿。

二、標(biāo)準(zhǔn)編制原則和主要內(nèi)容

（一）標(biāo)準(zhǔn)編制原則

本標(biāo)準(zhǔn)依據(jù)相關(guān)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，標(biāo)準(zhǔn)編制遵循“前瞻性、實(shí)用性、統(tǒng)一性、

規(guī)范性”的原則，注重標(biāo)準(zhǔn)的可操作性，本標(biāo)準(zhǔn)嚴(yán)格按照《標(biāo)準(zhǔn)化工作指

南》和GB/T1.1《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第一部分：標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)和編寫》的要

求進(jìn)行編制。標(biāo)準(zhǔn)文本的編排采用中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)編寫模板TCS2009版進(jìn)行

排版，確保標(biāo)準(zhǔn)文本的規(guī)范性。

（二）標(biāo)準(zhǔn)主要技術(shù)內(nèi)容

本標(biāo)準(zhǔn)報(bào)批稿包括8個(gè)部分，主要內(nèi)容如下：

1范圍

本文件規(guī)定了磁控濺射鍍膜機(jī)的術(shù)語和定義、基本參數(shù)、技術(shù)要求、

試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存內(nèi)容。

本文件適用于磁控濺射鍍膜機(jī)。

2規(guī)范性引用文件

—3—

下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的

條款。其中，注日期的引用文件，僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件；

不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改單）適用于本文件。

GB/T191包裝儲(chǔ)存圖示標(biāo)志

GB/T2828.1計(jì)數(shù)抽樣檢驗(yàn)程序第1部分：按接收質(zhì)量限（AQL）

檢索的逐批檢驗(yàn)抽樣計(jì)劃

GB/T3768聲學(xué)聲壓法測(cè)定噪聲源聲功率級(jí)和聲能量級(jí)采用反射

面上方包絡(luò)測(cè)量面的簡(jiǎn)易法

GB/T3797電氣控制設(shè)備

GB/T6070真空技術(shù)法蘭尺寸

GB/T13306標(biāo)牌

GB/T13384機(jī)電產(chǎn)品包裝通用技術(shù)條件

GB/T19678.1使用說明的編制構(gòu)成、內(nèi)容和表示方法第1部分：

通則和詳細(xì)要求

GB/T24468半導(dǎo)體設(shè)備可靠性、可用性和維修性（RAM）的定義

和測(cè)量規(guī)范

GB/T30574機(jī)械安全安全防護(hù)的實(shí)施準(zhǔn)則

JB/T10463真空磁流體動(dòng)密封件

SJ/T11512集成電路用電子漿料性能試驗(yàn)方法

IEC60204-33機(jī)械電氣安全機(jī)械電氣設(shè)備第33部分：半導(dǎo)體設(shè)備

技術(shù)條件（Safetyofmachinery–Electricalequipmentofmachines-Part33：

Requirementsforsemiconductorfabricationequipment，IDT）

—4—

IEC60364-4-41低壓電氣裝置第4-41部分：安全防護(hù)電擊防護(hù)

（Low-voltageelectricalinstallationsPart4-41：Protectionforsafety-

Protectionagainstelectricshock）

IEC60364-4-43低壓電氣裝置第4-43部分：安全防護(hù)過電流保護(hù)

（Low-voltageelectricalinstallations-Part4-43：Protectionforsafety-

Protectionagainstovercurrent）

3術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本文件。

3.1

磁控濺射鍍膜機(jī)magnetronsputteringcoater

是一種采用真空磁控濺射技術(shù)的設(shè)備，它通過陰極表面施加的磁場(chǎng)

約束電子運(yùn)動(dòng)，增強(qiáng)氣體離化率，從而實(shí)現(xiàn)高速、低溫、低損傷地在基

材上沉積金屬、半導(dǎo)體或絕緣體等多種材料的薄膜層，是物理沉積技術(shù)

的重要應(yīng)用之一。

4基本參數(shù)

基本參數(shù)見表1。

表1基本參數(shù)

序號(hào)項(xiàng)目要求

100×100、200×200、300×300、450×650、

1基材尺寸/mm

650×1200、1000×2000、1200×2400等

2基片厚度/mm0.01~100

—5—

序號(hào)項(xiàng)目要求

3相380V±10%，50Hz（3AC，N，PE），（接

3電力

地電阻≤4Ω）

腔體漏率/

41×10-12

（Pa·m3/s）

真空計(jì)測(cè)量范圍

51.0×10-6～大氣壓

/Pa

6工藝真空度/Pa5×10-4（20min達(dá)到）

7極限真空度/Pa1.0×10-6

8工藝氣體數(shù)量五路（可定制）

平面矩形陰極/旋轉(zhuǎn)靶槍/圓柱靶槍/平面圓柱

9靶槍種類

旋轉(zhuǎn)靶槍/雙旋轉(zhuǎn)靶槍/變距平面靶槍

10靶基距/mm60~150（根據(jù)工藝要求確定）

11冷卻方式水冷（超純水）

12傳動(dòng)系統(tǒng)臥式輸送方式/水平旋轉(zhuǎn)平臺(tái)/立式輸送方式

13片間膜厚穩(wěn)定性≤2%

5技術(shù)要求

5.1工作環(huán)境

磁控濺射鍍膜機(jī)工作環(huán)境條件應(yīng)滿足以下條件：

——溫度：20℃~28℃；

——相對(duì)濕度：20%~55%；

——潔凈度：百萬級(jí)。

5.2基本要求

—6—

5.2.1磁控濺射鍍膜機(jī)應(yīng)按制造企業(yè)規(guī)定程序批準(zhǔn)的圖樣和技術(shù)文件制

造。

5.2.2基片架輸送平臺(tái)應(yīng)運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，無異常聲響，無卡阻現(xiàn)象。

5.2.3真空系統(tǒng)應(yīng)無泄漏，泵組運(yùn)行平穩(wěn)無異常聲音，抽速符合要求。

5.2.4執(zhí)行機(jī)構(gòu)動(dòng)作應(yīng)協(xié)調(diào)準(zhǔn)確、順暢。

5.2.5水冷系統(tǒng)應(yīng)暢通，各冷卻部件應(yīng)供水充分，無滲漏現(xiàn)象。

5.2.6設(shè)備中外購的配套產(chǎn)品，應(yīng)有質(zhì)量合格證。設(shè)備中自制的配套產(chǎn)

品，經(jīng)制造廠檢驗(yàn)部門檢驗(yàn)合格后方可使用。

5.2.7需用潤(rùn)滑脂的動(dòng)密封處應(yīng)充入適量真空油脂。

5.3外觀質(zhì)量

5.3.1外露加工不應(yīng)有磕碰、劃傷、銹蝕等有損質(zhì)量的缺陷。

5.3.2外露非加工表面不應(yīng)有凸瘤、凹陷、氣孔等影響質(zhì)量的缺陷。

5.3.3焊縫應(yīng)牢固，連接焊縫不應(yīng)出現(xiàn)間斷、焊瘤、表面氣孔和裂紋等

缺陷。

5.3.4涂漆件的涂層應(yīng)光滑、平整、顏色、光澤應(yīng)均勻一致，外觀不應(yīng)

出現(xiàn)明顯凹陷不平、砂紙道痕、流掛、氣泡等缺陷。

5.3.5安全防護(hù)罩應(yīng)表面平整，間隙均勻，圓弧光滑，不應(yīng)有凸起、凹

陷和翹曲等現(xiàn)象。

5.3.6水路、氣動(dòng)等管路布置應(yīng)整齊有序固定牢靠，管路不應(yīng)產(chǎn)生扭曲、

折疊等現(xiàn)象。

5.3.7標(biāo)牌應(yīng)平整、光潔、固定應(yīng)牢靠，不應(yīng)有鉚裂、偏斜等缺陷。

5.3.8設(shè)備鍍膜室內(nèi)表面及各密封表面的表面應(yīng)平整，且應(yīng)對(duì)工作時(shí)處

于真空狀態(tài)的各表面應(yīng)進(jìn)行有效的真空清潔處理并予以干燥。

—7—

5.3.9設(shè)備尺寸應(yīng)符合GB/T6070的要求，靜動(dòng)密封零部件應(yīng)符合JB/T

10463的要求。

5.4真空要求

5.4.1系統(tǒng)從干燥氣體保護(hù)下開始抽氣，真空工藝腔室20min可達(dá)到

5×10-4Pa。

5.4.2經(jīng)烘烤除氣后，極限真空≤1.0×10-5Pa，腔體漏率≤1.0×10-12Pa·m3/s。

5.4.3在保壓測(cè)試環(huán)節(jié)，系統(tǒng)抽至高真空后停泵關(guān)機(jī)保壓24h后，真空

度≤10Pa。

5.5控制系統(tǒng)

5.5.1磁控濺射鍍膜機(jī)控制系統(tǒng)功能應(yīng)具備以下要求：

——真空系統(tǒng)控制與監(jiān)測(cè)；

——靶槍運(yùn)行功率和電流控制與監(jiān)測(cè)；

——基片平臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制與監(jiān)測(cè)；

——工藝氣體系統(tǒng)控制與監(jiān)測(cè)：

——異常報(bào)警提示，可查詢異常報(bào)警記錄。

5.5.2磁控濺射鍍膜機(jī)的基片平臺(tái)運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)應(yīng)運(yùn)行平穩(wěn)、靈活、輕便、

無阻滯、無異常聲音。

5.5.3氣路和水路管路應(yīng)連接可靠，無泄漏現(xiàn)象。

5.5.4磁控濺射鍍膜機(jī)的操作按鍵應(yīng)靈敏可靠，執(zhí)行機(jī)構(gòu)動(dòng)作應(yīng)協(xié)調(diào)準(zhǔn)

確、無卡阻或自發(fā)性移動(dòng)。

5.5.5磁控濺射鍍膜機(jī)的零部件、緊固件的連接應(yīng)牢固可靠，無松動(dòng)現(xiàn)

象。

5.5.6磁控濺射鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)運(yùn)行流暢、無泄漏。

5.5.7磁控濺射鍍膜機(jī)的靶槍系統(tǒng)可以正常啟動(dòng)且濺射正常。

—8—

5.6安全防護(hù)

5.6.1關(guān)鍵部位的水冷卻系統(tǒng)中應(yīng)有斷電或水壓不足的報(bào)警裝置，并與

電源、真空系統(tǒng)、傳動(dòng)系統(tǒng)相關(guān)聯(lián)部分有連鎖保護(hù)機(jī)構(gòu)。

5.6.2設(shè)備與其附屬的電氣裝置之間的連接導(dǎo)線應(yīng)有防止磨損或碰傷的

保護(hù)措施。

5.6.3設(shè)備與電氣線路及電氣原件應(yīng)保證不受冷卻液、潤(rùn)滑油及其他有

害物質(zhì)的影響。

5.6.4電控系統(tǒng)中，應(yīng)采取相應(yīng)的短路保護(hù)、過電流保護(hù)等必要的防護(hù)

措施。

5.6.5外露的齒輪、皮帶輪等應(yīng)有可靠的防護(hù)裝置。

5.6.6液壓和氣壓系統(tǒng)應(yīng)有壓力指示儀表及調(diào)節(jié)壓力的安全裝置。

5.6.7設(shè)備有關(guān)部位應(yīng)裝設(shè)為操作和安全所必需的標(biāo)牌和標(biāo)記。

5.6.8防護(hù)裝置應(yīng)符合GB/T30574、IEC60364-4-41、IEC60364-4-43的要

求。

5.7電氣安全

5.7.1電氣設(shè)備和機(jī)械的所有外露可導(dǎo)電部分應(yīng)連接到保護(hù)接地電路上，

所有保護(hù)導(dǎo)線應(yīng)進(jìn)行端子連接，一個(gè)端子應(yīng)連接一根保護(hù)導(dǎo)線，保護(hù)導(dǎo)

線連接件不應(yīng)作任何別的機(jī)械緊固用。

5.7.2設(shè)備上的電氣線路及電氣元件應(yīng)保證不受冷卻液、潤(rùn)滑油及其他

有害物質(zhì)的影響。

5.7.3設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)中突然停電后，恢復(fù)供電時(shí)電器不應(yīng)自行接通。

5.7.4在設(shè)備電氣線路中，針對(duì)負(fù)載情況應(yīng)有過電流、過載及過熱保護(hù)

裝置。

—9—

5.7.5在動(dòng)力電路導(dǎo)線和保護(hù)聯(lián)結(jié)電路之間施加500V直流電壓時(shí)，測(cè)

得的絕緣電阻不應(yīng)小于1MΩ。

5.7.6在動(dòng)力電路導(dǎo)線和保護(hù)聯(lián)接電路之間施加1000V的電壓、時(shí)間至

少1s，不應(yīng)出現(xiàn)擊穿放電現(xiàn)象。

5.7.7電保護(hù)聯(lián)結(jié)電路的連續(xù)性應(yīng)符合IEC60204-33的規(guī)定。

5.7.8電氣系統(tǒng)的光標(biāo)按鈕、指示燈和顯示器、標(biāo)記、警告標(biāo)志和參照

代號(hào)，應(yīng)符合IEC60204-33的規(guī)定。

5.8噪聲

氣氛退火設(shè)備的整機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)噪聲不應(yīng)大于（65±2）dB(A)。

6試驗(yàn)方法

6.1試驗(yàn)條件

磁控濺射鍍膜機(jī)在進(jìn)行試驗(yàn)前，應(yīng)完成所有安裝和調(diào)試工作，試驗(yàn)

環(huán)境條件應(yīng)滿足5.1的要求。

6.2基本要求試驗(yàn)

應(yīng)采用目視檢查，結(jié)果應(yīng)滿足5.2的要求。

6.3外觀質(zhì)量試驗(yàn)

設(shè)備尺寸、靜動(dòng)密封零部件應(yīng)按GB/T6070、GB/T24468、JB/T10463

的要求進(jìn)行試驗(yàn)，其他采用目視和手動(dòng)檢查，結(jié)果應(yīng)滿足5.3的要求。

6.4真空要求試驗(yàn)

6.4.1真空密封性試驗(yàn)條件應(yīng)滿足以下要求：

——鍍膜室內(nèi)為空載（既不安放被鍍件），但不應(yīng)拆去設(shè)備正常工作

應(yīng)安裝的靶槍；

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——所用真空計(jì)應(yīng)校驗(yàn)合格且在使用有效期內(nèi)；

——出現(xiàn)密封性問題，應(yīng)使用檢漏儀進(jìn)行氦氣測(cè)漏檢驗(yàn)；

——真空腔室的測(cè)試應(yīng)滿足5.4的要求。

6.4.2試驗(yàn)方法應(yīng)按照以下要求進(jìn)行：

——對(duì)設(shè)備進(jìn)行抽真空操作，詳細(xì)記錄真空系統(tǒng)各部件啟動(dòng)時(shí)間，達(dá)

到要求時(shí)間；

——進(jìn)行多次試驗(yàn)，對(duì)結(jié)過進(jìn)行比對(duì)；

——進(jìn)行極限真空測(cè)試，連續(xù)運(yùn)行測(cè)試；

——對(duì)設(shè)備抽真空后，停機(jī)保壓，進(jìn)行24h保壓測(cè)試。

6.5控制系統(tǒng)試驗(yàn)

6.5.1應(yīng)按照GB/T3797、SJ/T11512的要求進(jìn)行試驗(yàn)，目視和操作檢査

各操作部位及功能，結(jié)果應(yīng)滿足5.5的要求。

6.5.2整機(jī)空運(yùn)轉(zhuǎn)試驗(yàn)合格后，應(yīng)進(jìn)行不小于30min的帶載濺射試驗(yàn)。

在打靶試驗(yàn)過程中，檢查靶槍啟輝、工藝氣體輸入、各執(zhí)行機(jī)構(gòu)運(yùn)行狀

態(tài)、定長(zhǎng)控制正常、可靠情況，控制有效情況。帶載試驗(yàn)過程中應(yīng)對(duì)鍍

膜后的膜厚均勻性進(jìn)行測(cè)試，測(cè)試方法如下：

——膜厚采用專用儀進(jìn)行測(cè)試，膜層厚度應(yīng)100nm±10nm，每個(gè)測(cè)試

點(diǎn)位測(cè)量3次，取3個(gè)測(cè)量值的均值進(jìn)行相關(guān)計(jì)算。

——測(cè)試點(diǎn)平均分布于玻璃基板有效區(qū)域內(nèi)，不同尺寸基片測(cè)試點(diǎn)數(shù)

量不同。

6.6安全防護(hù)試驗(yàn)

應(yīng)按GB/T30574、IEC60364-4-41、IEC60364-4-43的要求進(jìn)行試驗(yàn)，

目視和操作檢查各部位及防護(hù)裝置，結(jié)果應(yīng)滿足5.6的要求。

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6.7電氣安全試驗(yàn)

6.7.1電氣系統(tǒng)的線路、導(dǎo)線等，用目測(cè)和感官檢査應(yīng)滿足5.7的規(guī)定。

6.7.2應(yīng)按IEC60204-33的要求進(jìn)行試驗(yàn)，檢測(cè)絕緣電阻其結(jié)果應(yīng)滿足

5.7的規(guī)定。

6.7.3應(yīng)按IEC60204-33的要求進(jìn)行試驗(yàn)，檢測(cè)其耐壓強(qiáng)度其結(jié)果應(yīng)滿

足5.7的規(guī)定。

6.7.4應(yīng)按IEC60204-33的要求進(jìn)行試驗(yàn)，目視電氣系統(tǒng)安全配置，檢

查保護(hù)聯(lián)結(jié)電路的連續(xù)性。

6.7.5電氣系統(tǒng)的操動(dòng)器、指示燈和顯示器、配線及標(biāo)記、警告標(biāo)志和

參照代號(hào)應(yīng)按IEC60204-33的要求進(jìn)行試驗(yàn)。

6.8噪聲試驗(yàn)

在磁控濺射鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)下，應(yīng)按GB/T3768規(guī)定的方法測(cè)量噪聲

聲壓值。在環(huán)境噪聲不應(yīng)大于50dB（A）的場(chǎng)地上進(jìn)行測(cè)量。機(jī)器以最

高速度空運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，開啟機(jī)器所有噪聲源，用聲級(jí)計(jì)測(cè)量機(jī)器四周的噪聲。

機(jī)器的周圍不應(yīng)放置障礙物，且與墻壁的距離應(yīng)大于2m，測(cè)量點(diǎn)距地面

高度為1.5m，距機(jī)器四周外輪廓線1m，噪聲以各測(cè)量點(diǎn)噪聲值的最大

值計(jì)，結(jié)果應(yīng)滿足5.8的要求。

7檢驗(yàn)規(guī)則

7.1檢驗(yàn)項(xiàng)目

檢驗(yàn)可分為出廠檢驗(yàn)和型式檢驗(yàn)。

7.2組批

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產(chǎn)品應(yīng)以批為單位進(jìn)行檢驗(yàn)，同一型號(hào)、同一工藝連續(xù)生產(chǎn)的產(chǎn)品

為一批。

7.3抽樣

7.3.1抽樣方法應(yīng)按GB/T2828.1的要求執(zhí)行。

7.3.2抽樣樣品批次應(yīng)粘貼標(biāo)簽，注明產(chǎn)品名稱、產(chǎn)品型號(hào)、生產(chǎn)批號(hào)、

抽樣日期和抽樣者姓名等。

7.4出廠檢驗(yàn)

7.4.1磁控濺射鍍膜機(jī)出廠前，應(yīng)經(jīng)質(zhì)檢部門檢驗(yàn)合格后方可出廠，并

附有產(chǎn)品合格證和使用說明。

7.4.2出廠檢驗(yàn)項(xiàng)目見表2。

7.4.3出廠檢驗(yàn)判定為不合格時(shí)，應(yīng)允許重新進(jìn)行修正，再次進(jìn)行出廠

檢驗(yàn)，合格后方可出廠。

7.5型式檢驗(yàn)

7.5.1有下列情況之一時(shí)，應(yīng)進(jìn)行型式檢驗(yàn)：

——新產(chǎn)品試制定型鑒定時(shí)；

——正式生產(chǎn)后，如結(jié)構(gòu)、材料、工藝