2026春招：北方華創(chuàng)面試題及答案

單項選擇題（每題2分，共10題）1.半導(dǎo)體制造中，光刻的主要作用是（）A.去除雜質(zhì)B.圖形轉(zhuǎn)移C.增加導(dǎo)電性D.改變材料性質(zhì)2.北方華創(chuàng)的主要業(yè)務(wù)不包括（）A.半導(dǎo)體裝備B.新能源汽車C.真空裝備D.鋰電裝備3.以下哪種氣體常用于等離子刻蝕（）A.氧氣B.氮氣C.氬氣D.氯氣4.薄膜沉積技術(shù)中，CVD是指（）A.物理氣相沉積B.化學(xué)氣相沉積C.原子層沉積D.磁控濺射沉積5.半導(dǎo)體生產(chǎn)中，潔凈室的主要目的是（）A.降低溫度B.減少灰塵C.提高濕度D.增加氣壓6.北方華創(chuàng)的企業(yè)文化核心不包含（）A.客戶為先B.以人為本C.創(chuàng)新驅(qū)動D.壟斷市場7.以下哪種設(shè)備用于晶圓表面平整度檢測（）A.光刻機B.刻蝕機C.平坦化設(shè)備D.檢測顯微鏡8.半導(dǎo)體材料中，常用的襯底材料是（）A.硅B.銅C.鋁D.金9.北方華創(chuàng)的產(chǎn)品主要應(yīng)用于（）A.消費電子B.航空航天C.半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)D.食品加工10.等離子體的主要特性是（）A.高溫B.高能量C.帶電粒子組成D.高速運動多項選擇題（每題2分，共10題）1.北方華創(chuàng)的半導(dǎo)體裝備包括（）A.刻蝕機B.光刻機C.薄膜沉積設(shè)備D.清洗設(shè)備2.半導(dǎo)體制造工藝包含（）A.光刻B.刻蝕C.摻雜D.封裝3.潔凈室的等級劃分依據(jù)有（）A.塵埃粒子大小B.塵埃粒子數(shù)量C.溫度D.濕度4.北方華創(chuàng)的發(fā)展戰(zhàn)略有（）A.技術(shù)創(chuàng)新B.市場拓展C.人才培養(yǎng)D.合作共贏5.以下屬于物理氣相沉積方法的有（）A.蒸發(fā)B.濺射C.化學(xué)氣相沉積D.原子層沉積6.半導(dǎo)體芯片制造的主要環(huán)節(jié)有（）A.設(shè)計B.制造C.封裝D.測試7.北方華創(chuàng)的企業(yè)文化包括（）A.誠信B.責(zé)任C.創(chuàng)新D.共贏8.等離子刻蝕的優(yōu)點有（）A.高選擇性B.高精度C.低損傷D.速度快9.薄膜沉積的質(zhì)量影響因素有（）A.氣體流量B.溫度C.壓力D.時間10.半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展趨勢有（）A.小型化B.高性能化C.綠色化D.智能化判斷題（每題2分，共10題）1.北方華創(chuàng)是一家專注于新能源汽車制造的企業(yè)。（）2.光刻是半導(dǎo)體制造中最關(guān)鍵的工藝之一。（）3.潔凈室的等級越高，環(huán)境越潔凈。（）4.化學(xué)氣相沉積只能沉積單一材料的薄膜。（）5.北方華創(chuàng)的產(chǎn)品只應(yīng)用于國內(nèi)市場。（）6.等離子刻蝕會對晶圓表面造成嚴(yán)重?fù)p傷。（）7.半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電性介于導(dǎo)體和絕緣體之間。（）8.北方華創(chuàng)不涉及真空裝備業(yè)務(wù)。（）9.封裝是半導(dǎo)體芯片制造的最后一個環(huán)節(jié)。（）10.物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積原理相同。（）簡答題（每題5分，共4題）1.簡述北方華創(chuàng)的主要業(yè)務(wù)領(lǐng)域。答：北方華創(chuàng)主要業(yè)務(wù)包括半導(dǎo)體裝備、真空裝備、鋰電裝備等。半導(dǎo)體裝備有刻蝕機、薄膜沉積設(shè)備等；真空裝備用于多種工業(yè)領(lǐng)域；鋰電裝備服務(wù)于鋰電池生產(chǎn)。2.光刻工藝在半導(dǎo)體制造中的重要性體現(xiàn)在哪里？答：光刻是將掩膜版圖形轉(zhuǎn)移到晶圓上的關(guān)鍵步驟。它決定了芯片的電路圖案和尺寸精度，直接影響芯片性能和集成度，是制造高性能、高集成度半導(dǎo)體器件的核心工藝。3.潔凈室對于半導(dǎo)體生產(chǎn)的意義是什么？答：半導(dǎo)體生產(chǎn)對環(huán)境要求極高，潔凈室可減少灰塵、微生物等污染物，防止其附著在晶圓上影響芯片性能和良率，保證生產(chǎn)過程穩(wěn)定和產(chǎn)品質(zhì)量。4.簡述等離子刻蝕的原理。答：等離子刻蝕利用等離子體中的活性粒子與晶圓表面材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或物理轟擊，將不需要的材料去除，實現(xiàn)圖形的刻蝕，具有高選擇性和高精度等特點。討論題（每題5分，共4題）1.討論北方華創(chuàng)在半導(dǎo)體裝備領(lǐng)域的競爭優(yōu)勢。答：北方華創(chuàng)技術(shù)實力強，有多種半導(dǎo)體裝備產(chǎn)品。注重研發(fā)創(chuàng)新，能緊跟技術(shù)趨勢。有良好客戶基礎(chǔ)和品牌聲譽，服務(wù)體系完善，還受益于國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的政策支持。2.分析半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展對北方華創(chuàng)的機遇和挑戰(zhàn)。答：機遇在于市場需求增長，推動產(chǎn)品銷售。技術(shù)進(jìn)步促使企業(yè)創(chuàng)新發(fā)展。挑戰(zhàn)是技術(shù)更新快，需持續(xù)投入研發(fā)；國際競爭激烈，要提升全球競爭力。3.探討如何提高北方華創(chuàng)產(chǎn)品的市場占有率。答：持續(xù)創(chuàng)新提升產(chǎn)品性能和質(zhì)量，滿足客戶需求。加強市場推廣，擴大品牌影響力。優(yōu)化服務(wù)體系，提高客戶滿意度。與上下游企業(yè)合作，拓展市場渠道。4.談?wù)劚狈饺A創(chuàng)未來的發(fā)展方向。答：未來可加大研發(fā)投入，突破關(guān)鍵技術(shù)，提升高端裝備競爭力。拓展海外市場，增強國際影響力。圍繞半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈，開展多元化業(yè)務(wù)，如拓展相關(guān)材料和服務(wù)領(lǐng)域。答案單項選擇題答案1.B2.B3.D4.B5.B6.D7.C8.A9.C10.C多項選擇題答案1.ACD2.ABCD3.AB4.ABCD5