石墨烯導熱膜工藝工程師崗位招聘考試試卷及答案試題部分一、填空題（共10題，每題1分）1.石墨烯導熱膜的核心性能指標是______。2.CVD法制備石墨烯常用碳源氣體有甲烷、______等。3.CVD沉積石墨烯典型溫度范圍是______℃。4.輥壓設備可提高石墨烯膜的______和層間結合力。5.熱導率國際單位是______。6.氧化石墨烯還原后，______含量降低可提升熱導率。7.影響石墨烯層間熱傳遞的關鍵是______。8.石墨烯導熱膜在消費電子中主要用于______。9.CVD設備核心系統(tǒng)含加熱、氣體控制和______。10.膜厚度通常通過______工藝調控。二、單項選擇題（共10題，每題2分）1.適合大規(guī)模生產的石墨烯導熱膜制備方法是？A.機械剝離B.CVD法C.液相剝離D.氧化還原2.石墨烯理論熱導率最高可達______W/(m·K)。A.5000B.3000C.1000D.5003.輥壓時提高溫度的主要作用是？A.降硬度B.促層間擴散C.增厚度D.減缺陷4.對CVD石墨烯質量影響最大的前驅體是？A.氮氣B.氫氣C.甲烷D.氬氣5.CVD中真空度的主要作用是？A.防氧化B.提沉積速度C.降成本D.減噪音6.顯著降低熱導率的缺陷是？A.晶界B.單空位C.邊緣缺陷D.以上都是7.石墨烯膜比銅箔的優(yōu)勢是？A.成本低B.熱導率高C.柔韌性好D.B+C8.氧化還原法不包含的步驟是？A.氧化插層B.超聲剝離C.CVD沉積D.化學還原9.工藝優(yōu)化核心目標是？A.提產量B.降成本C.保一致性D.以上都是10.安全防護重點不包括？A.高溫燙傷B.易燃氣體泄漏C.化學品腐蝕D.電磁輻射三、多項選擇題（共10題，每題2分，多選錯選不得分）1.影響熱導率的因素有？A.層數(shù)B.晶界密度C.層間接觸D.前驅體純度2.常用制備工藝含？A.CVDB.氧化還原C.液相剝離D.機械剝離3.CVD關鍵參數(shù)有？A.沉積溫度B.氣體流量C.真空度D.沉積時間4.應用領域含？A.消費電子B.新能源汽車C.航空航天D.LED散熱5.輥壓作用含？A.提密度B.改善層間結合C.降厚度D.增孔隙6.氧化石墨烯還原方法含？A.熱還原B.水合肼還原C.電化學還原D.光還原7.CVD設備核心組成含？A.加熱爐B.氣體管路C.真空系統(tǒng)D.冷卻裝置8.質量檢測指標含？A.熱導率B.厚度均勻性C.平整度D.電阻率9.需管控的氣體含？A.氫氣B.甲烷C.氬氣D.氮氣10.影響生長均勻性的因素含？A.襯底溫度均勻性B.氣體分布C.真空度穩(wěn)定D.沉積時間四、判斷題（共10題，每題2分，√/×）1.CVD石墨烯純度高于氧化還原法。（）2.熱導率隨層數(shù)增加持續(xù)上升。（）3.輥壓僅降厚度，不改善熱導率。（）4.甲烷是CVD常用碳源。（）5.真空度對生長無顯著影響。（）6.表面涂覆可提高耐腐蝕性。（）7.液相剝離適合大規(guī)模生產。（）8.氧含量越高熱導率越高。（）9.實時監(jiān)控是批量一致性關鍵。（）10.石墨烯膜熱導率低于銅箔。（）五、簡答題（共4題，每題5分）1.簡述CVD法制備石墨烯導熱膜的核心步驟。2.影響石墨烯導熱膜熱導率的主要因素有哪些？3.輥壓工藝對膜性能的作用是什么？4.生產中常見質量缺陷及解決思路？六、討論題（共2題，每題5分）1.如何優(yōu)化CVD工藝參數(shù)提高批量生產一致性？2.對比氧化還原法和CVD法的優(yōu)缺點及應用場景選擇？答案部分一、填空題答案1.熱導率2.乙炔（或乙烯）3.800-11004.密度5.W/(m·K)6.氧（O）7.層間接觸面積8.芯片散熱9.真空系統(tǒng)10.輥壓二、單項選擇題答案1.B2.A3.B4.C5.A6.D7.D8.C9.D10.D三、多項選擇題答案1.ABCD2.ABCD3.ABCD4.ABCD5.ABC6.ABCD7.ABCD8.ABCD9.AB10.ABCD四、判斷題答案1.√2.×3.×4.√5.×6.√7.×8.×9.√10.×五、簡答題答案1.核心步驟：①襯底預處理（銅箔清洗、退火）；②真空下通入碳源（甲烷）；③控溫800-1100℃沉積；④PMMA輔助轉移石墨烯；⑤輥壓、摻雜等后處理得導熱膜。2.因素：①石墨烯質量（晶界、缺陷、層數(shù)）；②層間接觸狀態(tài)；③膜密度（孔隙率）；④后處理（輥壓、還原程度）；⑤雜質殘留（氧、金屬離子）。3.作用：①提高密度，減少聲子散射；②改善層間接觸，增強熱傳遞；③調控厚度均勻性；④降低表面粗糙度，提升貼合性。4.缺陷及解決：①熱導率不均→優(yōu)化CVD溫度均勻性、輥壓壓力；②厚度偏差→調控沉積時間、輥壓參數(shù)；③層間剝離→提高輥壓溫度/壓力；④雜質殘留→提升前驅體純度、加強清洗。六、討論題答案1.優(yōu)化措施：①設備升級（多溫區(qū)加熱、均勻氣體分布）；②參數(shù)標準化（固定溫度、流量、真空度）；③實時監(jiān)控（傳感器反饋調整）；④前處理統(tǒng)一（襯底清洗、退火）；⑤連續(xù)