1、 HYPERLINK / 股票報告網(wǎng)整理目 錄 HYPERLINK l _TOC_250010 盈利拐點陸續(xù)突破，本土初創(chuàng)企業(yè)開啟新征程3 HYPERLINK l _TOC_250009 三段式成長路徑明確，IC 設備為關鍵路標4 HYPERLINK l _TOC_250008 初創(chuàng)期：體量小費率高，突破盈利拐點是發(fā)展關鍵5 HYPERLINK l _TOC_250007 成長期：規(guī)模效應逐漸顯著，公司競爭力提高7 HYPERLINK l _TOC_250006 優(yōu)勢穩(wěn)定期：業(yè)務建設更加全面，各項指標相對穩(wěn)定9 HYPERLINK l _TOC_250005 政府補助推動 IC 設備突破，業(yè)務

2、多面開花降低經(jīng)營風險11 HYPERLINK l _TOC_250004 政策導向助力企業(yè)研發(fā)，IC 設備成補助重點11 HYPERLINK l _TOC_250003 平臺策略多面開花，助力企業(yè)穩(wěn)健成長13 HYPERLINK l _TOC_250002 IC 設備盈利拐點陸續(xù)突破，初創(chuàng)企業(yè)向新階段邁進14 HYPERLINK l _TOC_250001 投資建議15 HYPERLINK l _TOC_250000 風險提示15 HYPERLINK / 股票報告網(wǎng)整理盈利拐點陸續(xù)突破，本土初創(chuàng)企業(yè)開啟新征程通過對半導體設備公司 IC 設備業(yè)務的營收體量及盈利水平等方面的分析，我們刻畫出從“初

3、創(chuàng)期”到“成長期”再到“競爭優(yōu)勢穩(wěn)定期”三 段式的企業(yè)成長路徑，同時重點分析了處于不同階段的企業(yè)在利潤水平、研發(fā)占比以及政府補助中的差異。目前國內半導體設備商的 IC 設備業(yè)務營收體量較小，并且該業(yè)務盈利能力表現(xiàn)較弱，目前正處于初創(chuàng)期階段。盡管北方華創(chuàng)、中微半導體和盛美半導體三家公司總體已實現(xiàn)較好盈利，但這主要得益于政府補助和泛半導體設備業(yè)務版塊的拉動（備注：三家企業(yè)均有政府補助，中微與北方華創(chuàng)兩家企業(yè)有泛半導體業(yè)務），IC 設備業(yè)務版塊貢獻有限且盈利能力表現(xiàn)并不理想。因而 IC 設備盈利拐點的突破對于初創(chuàng)期企業(yè)來說具有重大意義。（備注：本文的盈利拐點指的是當 IC 設備的營收達到一定水平之后

4、，IC 業(yè)務版塊將能實現(xiàn)較好盈利，使得企業(yè)逐漸向成長期邁進；下述營收無特殊說明外均指 IC 設備版塊營收）因而在討論初創(chuàng)期企業(yè)的成長與發(fā)展時，我們需要重點關注：（1）目前企業(yè)整體能夠實現(xiàn)盈利的支點是什么？（2）企業(yè)的 IC 設備業(yè)務的盈利拐點出現(xiàn)在什么區(qū)間？（3）國內企業(yè)何時會突破該盈利拐點？本篇報告從這些問題出發(fā)進行分析，得到如下結論：處于初創(chuàng)期、成長期和競爭優(yōu)勢穩(wěn)定期的 IC 設備企業(yè)主要有以下差異：初創(chuàng)期企業(yè)利潤不穩(wěn)定，研發(fā)投入占比較高；成長期公司已有一定的客戶資源和規(guī)模效應，研發(fā)投入占比及其他費用占比下降；優(yōu)勢穩(wěn)定期公司營收體量很大，同時利潤、費用相對穩(wěn)定。政府補助在企業(yè)處于初創(chuàng)期時較

5、高，預計在 IC 設備營收達到 20 億元左右開始逐漸減少，并在 50-70 億元左右停止。目前國內 IC 設備廠商處于初創(chuàng)期階段。當前國內初創(chuàng)期企業(yè)整體能夠實現(xiàn)盈利主要得益于政府補助以及平臺型泛半導體業(yè)務的支撐。（i）政府對于半導體設備企業(yè)的扶持力度不斷增大，政府補助是國內半導體設備廠商發(fā)展的重要營養(yǎng)補劑，有助于本土公司打破國外的先進技術壁壘。2018 年北方華創(chuàng)以及中微半導體凈利潤分別為 2.82 億元與 0.91 億元，而計入當期損益的政府補助分別達到 1.77 億元與 1.70 億元?？梢娬a助對企業(yè)的經(jīng)營成果都有不小的影響。（ii）由于 IC 類設備本身研發(fā)以及后期進入產線難度更高

6、，需要更大部分的投入， 因此設備公司通過發(fā)展 LED、光伏等泛半導體設備以及電子元 器件等業(yè)務，可以更快實現(xiàn)盈利并進一步助力 IC 設備業(yè)務發(fā)展。當國內初創(chuàng)期企業(yè) IC 設備營收突破盈利拐點（7-10 億元）時， 企業(yè)盈利能力將進一步提升并逐步邁入成長期新階段?；跀?shù)據(jù)分析，我們認為初創(chuàng)期企業(yè)的盈利拐點在 7-10 億元之間，當企業(yè)的 IC 設備單項業(yè)務營收突破該拐點后， IC 版塊業(yè)務的盈利能力將進一步提升。 HYPERLINK / 股票報告網(wǎng)整理國內廠商的 IC 設備業(yè)務營收陸續(xù)突破盈利拐點。根據(jù)我們測算， 隨著下游產線訂單拉動以及政府的大力支持，包括北方華創(chuàng)、中微半導體以及盛美半導體在內

7、的設備公司 IC 類設備業(yè)務營收將陸續(xù)突破拐點所在區(qū)間（7-10 億元）。三段式成長路徑明確，IC 設備為關鍵路標由于 IC 設備是產線的核心，其擁有充足的下游產線需求以及廣闊的國產替代空間；同時 IC 設備研發(fā)難度比其他泛半導體設備更高，業(yè)務研發(fā)投入更大。所以 IC 設備業(yè)務的突破將對企業(yè)尤其是初創(chuàng)期企業(yè)整體盈利水平有較大影響。因此本章中我們聚焦半導體設備企業(yè)的 IC 設備業(yè)務，所涉及到的收入均代指純 IC 設備營收。本章中我們通過對于不同階段公司的具體數(shù)據(jù)進行分析與對比，繪制出如下圖的典型設備公司的成長曲線圖。在企業(yè)從初創(chuàng)期到成長期再到優(yōu)勢穩(wěn)定期的過程中營收體量、毛利率凈利率、研發(fā)費率、政

8、府補助等都將有所變化。（1）營收方面：初創(chuàng)期公司多在 10 億元以下，當企業(yè)突破盈利拐點之后，將進一步進入成長期并且隨著企業(yè)發(fā)展進一步擴大，當營收達到 500 億元及以上時進入競爭優(yōu)勢穩(wěn)定期。（2）毛利率及凈利率方面：初創(chuàng)期公司利潤水平不高（毛利率約在 20%-30%，凈利率一般在10%左右），隨著公司的發(fā)展將逐漸提升，達到優(yōu)勢穩(wěn)定期之后毛利率基本保持在 50%左右，凈利率將基本維持在 20%-30%之間；（3）研發(fā)費率方面：初創(chuàng)期公司研發(fā)費用占比最高大約在 20%左右，之后逐步下降， 達到優(yōu)勢穩(wěn)定期之后一般在 10%-15%之間；（4）政府補助方面：由于不同公司的項目情況和研發(fā)技術的差異，政

9、府補助也各不相同，但是初創(chuàng)期公司的政府補助力度最大，預計公司在進入成長期后逐步減弱，即當IC 設備營收達到 20 億元左右將逐步下降，并大約達到 50-70 億元后停止。 HYPERLINK / 股票報告網(wǎng)整理圖 1：半導體設備公司經(jīng)歷從初創(chuàng)期到成長期再到優(yōu)勢穩(wěn)定期的三個成長階段數(shù)據(jù)來源： 初創(chuàng)期：體量小費率高，突破盈利拐點是發(fā)展關鍵7-10 億元營收是初創(chuàng)半導體 IC 設備公司的盈利拐點所在區(qū)間。我們選取營收體量較小的公司作為初創(chuàng)期設備企業(yè)代表，包括京鼎（晶圓研磨設備、氧化處理設備、蝕刻設備、沉積設備、晶圓檢查設備）、漢微科（電子束檢驗設備）、盛美半導體（清洗設備）、北方微電子（北方華創(chuàng)分公

10、司-刻蝕設備、PVD、CVD、氧化擴散設備、清洗設備等）、中微半導體（刻蝕設備、MOCVD 等）。通過對以上企業(yè)設備業(yè)務的財務數(shù)據(jù)進行分析，我們可以看出：除了漢微科（受下游臺積電的影響，下游銷貨渠道得到保障，在 2 億元左右便實現(xiàn)盈利轉折）以外，其他公司的營收在 5-10 億元時，凈利潤都在 1 億元以內，而當 IC 設備營收突破 7-10 億元盈利拐點之后，多數(shù)企業(yè)將實現(xiàn)穩(wěn)定增長的正盈利。（注：表中的一些企業(yè)營收中包含非 IC 設備業(yè)務且未剔除政府補助金額）因此我們得出，當初創(chuàng)期企業(yè) IC 設備業(yè)務營收越過盈利拐點（7-10 億） 時，企業(yè) IC 版塊業(yè)務的盈利水平迎來質的飛躍性并逐步跨入成

11、長期新階段。國產設備廠商陸續(xù)突破盈利拐點。根據(jù)我們測算，以北方華創(chuàng)、中微半導體和盛美半導體為代表的國產設備企業(yè)的 IC 設備營收將陸續(xù)達到或超過盈利拐點。未來發(fā)展值得期待。 HYPERLINK / 股票報告網(wǎng)整理圖 2：7-10 億營收成為初創(chuàng)半導體設備公司的盈利拐點數(shù)據(jù)來源：Wind， 備注：三大廠商指的是：北方微電子、盛美以及中微；紅圈標記從左至右分別為盛美（灰色）中微（黑色）與北方微電子（黃色）在 2018 年的業(yè)績情況（注意：中微以及北方微電子業(yè)績包含 LED 等泛半導體設備業(yè)務）另外，基于公司的財務數(shù)據(jù)，我們也能得出初創(chuàng)期公司一下兩個典型特點。第一，初創(chuàng)期公司的研發(fā)投入占比很高以及未

12、形成規(guī)模效應是制約其實現(xiàn)穩(wěn)定盈利的關鍵原因。初創(chuàng)期設備公司營收體量小，且由于零部件的采購量較小營業(yè)成本較高，與大體量公司相比不存在規(guī)模效應，毛利率多在 20-35%之間。在研發(fā)投入占比來看，初創(chuàng)期公司由于某些技術處于早期階段因此研發(fā)費用率普遍較高。一般來說，一種設備的研發(fā)投入 1-2 億元之間，意味著對于初創(chuàng)型企業(yè)來說，每年成功研發(fā)的產品數(shù)較少， 因此能否賭對市場十分關鍵。另外，由于不同公司對研發(fā)投入的會計處理存在差異，因此一些公司研發(fā)費用率雖然不高，但不能代表研發(fā)投入不高，例如北方華創(chuàng) 2017/2018/1H19 年研發(fā)費用分別是 3.57/3.51/2.11 億元，而研發(fā)投入高達 7.3

13、6/8.73/3.45 億元。表 1:三大國內設備公司 2018 年營收體量均較小且研發(fā)投入占比高指標盛美半導體北方微電子中微半導體營業(yè)收入（億元）5.1220.0116.39毛利率（%）46.09%-35.51%研發(fā)投入占比（%）-26.26%24.65%研發(fā)費用率13.87%10.56%7.21%管理費率（%）10.74%-7.96%銷售費率（%）12.89%-13.21%凈利率（%）8.79%4.75%5.54%數(shù)據(jù)來源：Wind， 備注：中微以及北方微電子業(yè)績包含泛半導體設備業(yè)務，表中數(shù)據(jù)均為 2018 年財務數(shù)據(jù) HYPERLINK / 股票報告網(wǎng)整理第二，政府較大的補助力度成為公司

14、實現(xiàn)盈利的促進因素。在政府的大力支持下，部分本土公司能夠每年得到一定額度的政府補助，金額依據(jù)具體項目各有不同，有助于公司進一步開展技術研發(fā)。（詳細論述見第三章）最終基于初創(chuàng)期公司的特點以及樣本公司的財務數(shù)據(jù)，我們可以得出典型設備公司的利潤情況： 初創(chuàng)期公司由于多數(shù)費用沒法分攤，毛利率在30%左右且研發(fā)費用率較大達到 20%左右，其他費用（銷售及管理等） 約處于 20%，此時一定需要政府補助才可以實現(xiàn)盈利，假設政府補助占營收 20%左右，則對應凈利率約 10%。除了政府補助外，公司采用平臺策略，開發(fā) led、面板等泛半導體設備也可以使得企業(yè)盈利拐點前移。表 2: 在政府補助下初創(chuàng)期設備公司可以基

15、本實現(xiàn)盈利指標預測（億元）營業(yè)收入10營業(yè)成本(70%)-7毛利潤(30%)3研發(fā)費用(20%)-2管理費用(10%)-1銷售費用(10%)-1政府補助(20%)+2凈利潤(10%)1數(shù)據(jù)來源： 備注：取營收為 10 億元成長期：規(guī)模效應逐漸顯著，公司競爭力提高在突破盈利拐點之后，公司營收的擴張使得規(guī)模效應增加，營業(yè)成本占比下降，毛利率提高，同時研發(fā)等其他費用率相比于初創(chuàng)期都有所下降最終使得凈利率提高。初創(chuàng)期由于營收基數(shù)低，市場大，新客戶多所以營收可以快速成長，但進入到成長期之后，新客戶少了很多，此時要進一步開拓市場就需要拼性能，拼價格，因此帶來了營收的波動性。同時， 成長期公司大多上市時間長

16、，公司營收易受到宏觀經(jīng)濟的下滑或半導體行業(yè)整體的景氣度下降的影響。圖 3：2009 年半導體行業(yè)整體景氣度下滑使得 TER 營收出現(xiàn)較大波動2007 2008 2009 2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018160100%12880%9660%6440%3220%00%-32-20%-64營業(yè)收入（億元，左軸）同比（%，右軸）-40% HYPERLINK / 股票報告網(wǎng)整理數(shù)據(jù)來源：Wind， 此階段，研發(fā)投入保持相對穩(wěn)定的、緩慢的增長，增速小于營收增速， 因此研發(fā)費率下降；隨著公司架構的完善、銷售布局的穩(wěn)定，其他費用率（除了研發(fā)費率以外的費用

17、，如銷售費用、管理費用等）開始不斷下降。政府補助在 20 億元時開始下降，預計在 50-70 億元左右終止。合理預測短期 1-2 年內可能會對凈利潤產生一定的負面影響，凈利潤增速下降。選取 KLA（晶片制造、晶圓制造、光罩制造）和 TER（測試設備） 的數(shù)據(jù)來看，2014 年至今兩家公司的營收都迎來了一定的增長，毛利率在不斷提升，研發(fā)費用率和其他費用率均在下降，凈利率雖然在波動， 但基本都在 20%上下：201420152016201720182019營業(yè)收入180.24（億元）172.04197.91235.75267.09314.10毛利率57.91%56.82%61.02%63.00%6

18、4.14%59.09%研發(fā)費率18.41%18.86%16.12%15.14%15.08%16%其他費率19.60%24.94%21.29%21.25%29.19%17.36%凈利率19.90%13.02%23.60%26.61%19.87%25.73%表 3: 處于成長期的 KLA 公司在營收體量和盈利水平方面相比于初創(chuàng)期公司均有較大程度的提升（%）（%）（%）（%）數(shù)據(jù)來源：Wind， 備注：KLA 財年指的是當年 6 月底至次年 6 月底 HYPERLINK / 股票報告網(wǎng)整理201420152016201720181H19營業(yè)收入100.83（億元）106.46126.12139.61

19、144.1872.75毛利率53.34%55.85%56.35%57.29%58.09%57.79%研發(fā)費率17.69%17.82%16.00%14.30%14.35%14.96%其他費率30.72%25.45%42.74%30.93%22.24%23.31%凈利率4.93%12.59%-2.39%12.06%21.51%19.52%表 4: 處于成長期的 TER 公司在營收體量和盈利水平方面相比于初創(chuàng)期公司均有較大程度的提升（%）（%）（%）（%）數(shù)據(jù)來源：Wind， 根據(jù)成長期公司的財務數(shù)據(jù)，我們可以得出典型設備公司的利潤情況： 該階段公司營收擴張使得規(guī)模效應增加，公司毛利率提高，預計在

20、50%左右，同時公司研發(fā)投入增速小于營收增速，因此研發(fā)費率下降到約15% 左右；隨著公司架構的完善和銷售布局的穩(wěn)定，其他費用率也相比初創(chuàng)期有所下降約在 15%左右，政府補助逐漸下降同時營收體量變大所以該項在其中占比可以忽略，則最終預計成長期公司凈利率為 20%，以公司營收為 50 億元計算，其凈利潤可以達到 10 億元左右。表 5: 成長期設備公司的盈利能力較初創(chuàng)期有較大提高指標預測（億元）營業(yè)收入50營業(yè)成本(50%)-25毛利潤(50%)25研發(fā)費用(15%)-7.5其他費用(15%)-7.5凈利潤(20%)10數(shù)據(jù)來源： 備注：取營收為 50 億元優(yōu)勢穩(wěn)定期：業(yè)務建設更加全面，各項指標相

21、對穩(wěn)定隨著公司產品的不斷滲透，其營收規(guī)模進一步擴大達到 500 億元以上， 市場占有率較大且較穩(wěn)定，公司產品業(yè)務發(fā)展得更加全面，毛利率維持穩(wěn)定同時各項費率也基本維持在較低水平，這表明公司步入競爭優(yōu)勢穩(wěn)定期。處于該發(fā)展階段的代表公司包括行業(yè)的龍頭 AMAT（CVD、PVD、蝕刻、離子注入、CMP、清洗設備等）、TEL（CVP、PVD、蝕刻、清洗設備）、LAM（CVD、PVD、蝕刻清洗設備等）等。從三家公司的財務數(shù)據(jù)來看，毛利率大約在 40-50%之間，進一步提升的空間不大；研發(fā)投入通常全部費用化，研發(fā)費用率 15%以下。優(yōu)勢穩(wěn)定期公司存在良好的品牌形象和技術累積，因此研發(fā)投入的增長緩于營收的增長

22、，研發(fā)費用率有一定下降的趨勢；其他費用來看，增長也相對緩慢，占比逐漸下降， 通常在 5%-10%之間；凈利率在 15-25%上下波動。 HYPERLINK / 股票報告網(wǎng)整理表 6:處于優(yōu)勢穩(wěn)定期代表公司營收體量大且盈利水平更加穩(wěn)定指標AMAT（FY18）LAM（FY19）TEL（FY19）營業(yè)收入（億元）1199.25663.65778.03毛利率（%）45.31%45.15%41.17%研發(fā)費率（%）11.70%12.30%8.92%其他費率（%）14.40%10.15%12.83%凈利率（%）19.20%22.70%19.42%數(shù)據(jù)來源：Wind， 備注：AMAT 財年為當年 10 月底

23、至次年 10 月底；LAM 財年為當年 6 月底至次年 6 月底；TEL 財年為當年 3 月底至次年 3 月底AMATFY2014FY2015FY2016FY2017FY2018FY19Q3營業(yè)收入557.62（億元）614.26734.56966.311199.25746.71毛利率42.36%40.92%41.67%44.93%45.31%43.78%研發(fā)費率15.74%15.02%14.23%12.20%11.70%14.18%其他費率14.80%11.64%11.55%9.11%14.40%11.10%凈利率11.82%14.26%15.9%23.62%19.20%18.50%表 7:

24、AMAT 是典型的優(yōu)勢穩(wěn)定期公司（%）（%）（%）（%）數(shù)據(jù)來源：Wind， 備注：AMAT 財年為當年 10 月底至次年 10 月底根據(jù)優(yōu)勢穩(wěn)定期公司的財務數(shù)據(jù)，我們可以得出典型設備公司的利潤情況：公司進入優(yōu)勢穩(wěn)定期，其營收規(guī)模已經(jīng)達到 500 億元以上，毛利率的提高將進一步放緩，并逐漸維持穩(wěn)定 50%左右，且由于此時公司存在良好的品牌形象和技術累積，研發(fā)投入的增長也將緩于營收的增長，研發(fā)費用率降低至 10%左右，另外其他費用率也將降低至 10%左右。因此最終得到處于競爭優(yōu)勢穩(wěn)定期的公司凈利率約 30%，取公司營收為 500億元時，得到其最終凈利潤可以達到 150 億元。指標預測（億元）營業(yè)

25、收入500營業(yè)成本(50%)-250毛利潤(50%)250研發(fā)費用(10%)-50其他費用(10%)-50凈利潤(30%)150據(jù)來源：國泰君安證券研究 備注：取公司營收為 500 億元表 8: 優(yōu)勢穩(wěn)定期公司盈利能力相比成長期更高且更加穩(wěn)定數(shù) HYPERLINK / 股票報告網(wǎng)整理政府補助推動 IC 設備突破，業(yè)務多面開花降低經(jīng)營風險國內半導體企業(yè)研發(fā)投入占比很高，目前政府補助以及采用平臺型發(fā)展策略是保證企業(yè)穩(wěn)定運轉和生存的支點。在這兩大支點的推動下，國內廠商逐漸攻克 IC 設備技術壁壘，產品逐步滲透到重要產線，營收預計將陸續(xù)突破盈利拐點。正如前文所述，當突破此拐點之后，企業(yè)利潤水平將迎來更

26、大的飛躍，逐步邁向成長期新階段。政策導向助力企業(yè)研發(fā)，IC 設備成補助重點我國國內集成電路產業(yè)政策優(yōu)勢明顯。半導體設備行業(yè)有著研發(fā)投入大、技術壁壘明顯的特點，初創(chuàng)型企業(yè)研發(fā)投入占比很高。我國政府對高科 技產業(yè)進行了大力度的補助，為初創(chuàng)型企業(yè)的發(fā)展提供了巨大的幫助。對于中微半導體來說，政府補助對公司的經(jīng)營成果影響較大，并且公司政府補助多用在 IC 設備研發(fā)項目中。從公司 2016-2018 年的經(jīng)營情況來看，公司三年內計入當期損益的政府補助金額值均高于同期凈利潤。另外，中微在 2019 年也多次獲得政府補助金額，目前已經(jīng)超過 1 億元。同時公司絕大部分的政府補助金額用于 IC 刻蝕設備研發(fā)中。以

27、 2018 年為例，公司用于刻蝕設備的政府補助金額（計入當期損益）達到 8651 萬元，而用于 MOCVD 設備項目的不足 700 萬，差距較大。圖 4：中微 2016 年-2018 年的政府補助金額對于利潤情況影響較大且多用于 IC 刻蝕設備的研發(fā)201620172018200150100500-50-100-150-200-250-300用于MOCVD設備計入當期損益的政府補助（百萬元）用于刻蝕設備計入當期損益的政府補助（百萬元） 計入當期損益的政府補助總金額（百萬元）凈利潤（百萬元）數(shù)據(jù)來源：公司招股說明書， 表 9:中微公司 2019 年受到政府補助已經(jīng)超過 1 億元（不完全統(tǒng)計）時間

28、項目或者種類金額（百萬元）2019 年 8 月 31 日-9 月 27 日南昌高新開發(fā)區(qū)補貼/就業(yè)服務補貼60.03臺階及兩次圖形曝光刻蝕設備研發(fā)及產2019 年 7 月 22 日-8 月 30 日業(yè)化12.422019 年 1 月-2019 年 6 月數(shù)據(jù)來源：公司公告， 14-7 納米介質刻蝕機研發(fā)及產業(yè)化25.02專利資助費/國家財政補貼與扶持/南昌11.59高新開發(fā)區(qū)補貼而國內設備龍頭企業(yè)北方華創(chuàng)的利潤水平也與政府補助金額相關性大。2016、2017 年、2018 年以及 2019 年上半年公司計入當期損益的政府補助政府補助分別為 3.78/3.88/1.77/1.18 億元， 而同期

29、凈利潤分別為1.38/1.67/2.82/1.56 億元?？梢?，有無政府補助會對初創(chuàng)公司業(yè)績產生較大影響。圖 5：北方華創(chuàng)利潤水平受到政府補助影響4.543.532.521.510.502016201720182019H1計入當期損益的政府補助（億元）凈利潤（億元）數(shù)據(jù)來源：Wind， 表 10: 北方華創(chuàng) 2013-2018 年多個項目都受到政府補助時間用途金額（百萬元）45-32nmLPCVD 設備產業(yè)化項目2018 年 5 月14nm 立體柵等離子體刻蝕機研發(fā)及產業(yè)化項目209.7828-14nm 原子層沉積系統(tǒng)（ALD）產品研發(fā)及產業(yè)化項目 HYPERLINK / 股票報告網(wǎng)整理201

30、7 年 12 月2017 年 5 月應用于集成電路領域的 300mm 合金爐設備研發(fā)項目14nm 立體柵等離子體刻蝕機研發(fā)及產業(yè)化項目28-14nm 原子層沉積系統(tǒng)（ALD）產品研發(fā)及產業(yè)化項目10.1694.2348.112016 年 7 月2016 年 3 月14-7nmCuBS 多工藝腔室集成裝備研發(fā)及產業(yè)化項目28-14nm 原子層沉積系統(tǒng)（ALD）產品研發(fā)及產業(yè)化項目28-14nm 原子層沉積系統(tǒng)（ALD）產47.4648.11品研發(fā)及產業(yè)化項目2013 年 10 月65-45nm 銅互連清洗設備產業(yè)化項目11.242013 年 9 月45-32nmLPCVD 設備產業(yè)化項目11.6

31、32013 年 6 月動力電池單體生產關鍵設備研制項目558.90數(shù)據(jù)來源：公司公告， 備注：不完全統(tǒng)計平臺策略多面開花，助力企業(yè)穩(wěn)健成長本土設備商北方華創(chuàng)和中微半導體在發(fā)展 IC 設備的同時，也將技術擴展到泛半導體設備領域，積極踐行平臺化路線，助力自身 IC 類設備業(yè)務營收突破盈利拐點。從北方華創(chuàng)的收入結構來看，其營收來自 IC 設備和平板、LED 及光伏等泛半導體設備，還來自于電子元器件以及新能源鋰電設備等，而從2019 年上半年數(shù)據(jù)可以看出，電子元器件凈利率（約 20%）、真空設備凈利率（約 8%），均高于半導體設備凈利率（約 4%左右）。除此之外，負責半導體設備業(yè)務的子公司北方微電子，

32、其 2018 年 IC 設備業(yè)務占比不足 30%，營收主要來自于 LED 設備等其他泛半導體設備業(yè)務。表 11: 北方華創(chuàng)產品種類豐富類別產品應用領域半導體裝備等離子刻蝕設備 Etcher物理氣相沉積設備 PVD 化學氣相沉積設備 CVD 氧化擴散設備 Oxide/Diff清洗設備 Cleaning Tool紫外固化設備 UV Cure移載傳送設備 Indexer集成電路 IC、光伏電池、先進封裝科研設備、MEMS、真空鍍膜、LED 分析儀器、功率器件、平板顯示輔助設備 Facility氣體測量控制 Gas Measuring Control備品備件 Parts原子層沉積設備 ALD光通信器件

33、、燃料電池、化合物半導體真空裝備釬焊工藝設備晶體生長設備 熱處理工藝設備燒結工藝設備 磁性材料設備真空電子、新材料、磁性材料航空航天、光伏 HYPERLINK / 股票報告網(wǎng)整理新能源鋰電裝備制漿系統(tǒng)鋰離子電池極片制造精密元器件極片涂布機系列鋰電池整線生產強力軋膜機系列極片分切機系列負載點電源模塊航天、航空、船舶、自動控制、電力電子、晶體器件精密電阻器微波組件新型鉭電容器精密儀器儀表、鐵路交通等領域數(shù)據(jù)來源：北方華創(chuàng)官網(wǎng)、 表 12: 北方華創(chuàng)半導體設備業(yè)務凈利率低于其他業(yè)務營業(yè)收入營業(yè)利潤凈利潤凈利率主營業(yè)務（百萬元）（百萬元）（百萬元）（%）北京七星華創(chuàng)精密電子科技有限責電子元器件任公司392.57101.1181.9520.88%北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司半導體設備1007.6252.4449.034.87%北京北方華創(chuàng)真空技術有限公司真空設備241.3425.3719.668.15%數(shù)據(jù)來源：公司公告， 備注：上述均為為 2019H1 的財務數(shù)據(jù)而從中微半導體來看，公司涉足半導體集成電路制造、先進封裝、LED 生產、MEMS 制造以及其他微觀工藝的高端設備領