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甲基三甲氧基硅烷改性工業(yè)硅溶膠的工藝及機(jī)理甲基三甲氧基硅烷改性工業(yè)硅溶膠的工藝及機(jī)理甲基三甲氧基硅烷改性工業(yè)硅溶膠的工藝及機(jī)理V:1.0精細(xì)整理,僅供參考甲基三甲氧基硅烷改性工業(yè)硅溶膠的工藝及機(jī)理日期:20xx年X月甲基三甲氧基硅烷改性工業(yè)硅溶膠的工藝及其機(jī)理【摘
要】
以有機(jī)硅氧烷和工業(yè)硅溶膠為主要原料,采用sol-gel方法獲得了水性有機(jī)硅溶膠。通過硅氧烷的選擇、膜層性能檢測(cè)以及pH值、水浴溫度、改性時(shí)間等改性工藝的研究,獲得MTMS改性硅溶膠的最佳工藝:MMTMS/MSiO2為2∶1~4∶1;pH值3.5~5.5;水浴溫度50~70℃;改性時(shí)間40~120min。經(jīng)FTIR分析和改性機(jī)理的探討,表明MTMS水解生成的硅醇基團(tuán)與硅溶膠粒子表面的羥基發(fā)生縮聚交聯(lián),屏蔽了硅溶膠內(nèi)部的Si-O-Si鍵,對(duì)硅溶膠粒子進(jìn)行了包覆改性。1
引
言工業(yè)硅溶膠作為一種水性、無(wú)機(jī)粘結(jié)劑,廣泛應(yīng)用于涂料中提高膜層的理化性能。但是,由于其在成膜過程中體積收縮大、干燥快,容易造成涂膜龜裂、流平性差等缺陷[1],在涂料中的用量較少,不能夠作為主要的成膜物質(zhì),使其無(wú)機(jī)粘結(jié)劑的性能優(yōu)勢(shì)受到限制。應(yīng)用中,硅溶膠常常與有機(jī)粘結(jié)劑復(fù)合使用或經(jīng)過改性處理,如與丙烯酸酯、氟樹脂等乳液混合,使兩者的性能相互補(bǔ)充,研發(fā)有機(jī)-無(wú)機(jī)復(fù)合涂料[1-2]。但是這種改性硅溶膠[3-6]中存在大量的有機(jī)組分,涂料在使用和成膜過程中存在高VOC(Volatile
OrganicCompounds),不環(huán)保;而且這種涂料涂層遇火易燃,一旦發(fā)生火災(zāi),會(huì)釋放有毒的氣體和濃煙。因此,結(jié)合我國(guó)涂料工業(yè)經(jīng)濟(jì)(Economy)、能源(Energy)、生態(tài)(Ecology)和效率(Efficiency)的4E要求,制備水性、低VOC、無(wú)機(jī)不燃的涂料用于金屬表面的裝飾和防護(hù)[7],具有較強(qiáng)的應(yīng)用需求。有機(jī)硅氧烷兼有無(wú)機(jī)和有機(jī)兩種官能團(tuán),成膜時(shí)以Si-O-Si為主鏈,是一種有機(jī)-無(wú)機(jī)雜化高分子材料,用于涂層材料具有耐熱、耐候等優(yōu)良的理化性能[8]。一些文獻(xiàn)[9-10]采用有機(jī)硅氧烷改性硅溶膠制備薄膜涂層,而硅溶膠是由硅酸乙酯的水解縮聚制備,且在改性過程中引入過多的有機(jī)組分;直接采用有機(jī)硅氧烷對(duì)工業(yè)硅溶膠進(jìn)行改性,并制備水性涂料應(yīng)用于金屬表面的裝飾和防護(hù),文獻(xiàn)報(bào)道較少[11-12]。因此,本文以有機(jī)硅氧烷和工業(yè)硅溶膠為主要原料,在酸催化、水浴的條件下改性硅溶膠粒子,以獲得一種水性無(wú)機(jī)涂料所需的主要成膜物質(zhì)。本文著重于對(duì)硅溶膠改性工藝及改性機(jī)理的研究,而通過論文中最佳工藝制備有機(jī)硅溶膠及涂層的相關(guān)性能測(cè)試與表征參見文獻(xiàn)[11]。2
實(shí)
驗(yàn)2.1
試劑甲基三甲氧基硅烷(MTMS):WMTMS>98%,沸點(diǎn):101~102℃,工業(yè)品,杭州硅寶化工有限公司;其它硅氧烷試劑也購(gòu)買于該公司。LS-30低鈉型硅溶膠,含30wt%SiO2,浙江宇達(dá)化工有限公司。其它試劑均為分析純,2.2
測(cè)試pH值測(cè)試:使用PHB便攜式酸度計(jì)(杭州雷磁分析儀器廠)。電導(dǎo)率測(cè)試:采用DDB-11A便攜式電導(dǎo)率儀(上海三信儀表廠),直接將電極插入水解溶液中,讀出相應(yīng)電導(dǎo)率值。FTIR測(cè)試:將改性硅溶膠放置烘箱中,120℃4h,冷卻后采用KBr壓片法對(duì)其進(jìn)行FTIR分析(布魯克光譜儀器有限公司TEN
SOR
27)。2.3
改性方法稱取一定質(zhì)量的硅溶膠于500ml燒杯中,用鹽酸調(diào)節(jié)pH值,然后放入水浴中加熱并恒力攪拌,同時(shí)按所需的比例稱取有機(jī)硅氧烷,緩慢加入硅溶膠燒杯中,反應(yīng)一段時(shí)間后獲得有機(jī)硅溶膠。后文中將經(jīng)過MTMS改性后的硅溶膠稱為有機(jī)硅溶膠。3
試驗(yàn)結(jié)果3.1
改性硅氧烷的選擇由于聚硅氧烷的分子構(gòu)型主要取決于有機(jī)基團(tuán)對(duì)硅原子的比例,即R/Si(R為取代基數(shù)目,Si為硅原子數(shù)目)。R/Si小,即三官能或四官能硅-氧單元比例高時(shí),固化后,交聯(lián)度高,產(chǎn)物主要為高度交聯(lián)的網(wǎng)狀聚合物[13]。而且與硅直接相連的烷氧基數(shù)目越少,或與硅直接相連的有機(jī)鏈越長(zhǎng),其硅烷水解性及改性產(chǎn)物的水溶性就越差,因此實(shí)驗(yàn)選擇幾種常用的三烷氧基硅烷對(duì)硅溶膠進(jìn)行改性。表1是幾種硅氧烷改性硅溶膠的條件及產(chǎn)物,可見MTMS改性硅溶膠的實(shí)驗(yàn)條件較低,產(chǎn)物透明,易溶于水;而且甲基做取代基時(shí)具有優(yōu)良的耐熱性能,可用來制備耐熱涂層[14]。因此,實(shí)驗(yàn)選擇MTMS對(duì)硅溶膠粒子進(jìn)行改性3.2
pH值對(duì)硅溶膠改性的影響MTMS無(wú)論是在酸性條件還是堿性條件下,遇水都極易發(fā)生水解生成硅醇,但生成的硅醇不穩(wěn)定,活性很高,易發(fā)生縮合反應(yīng),且縮合隨著硅原子上的羥基數(shù)目的增加而加快。MTMS水解體系為逐級(jí)反應(yīng)化學(xué)平衡體系[15],水解的過程也比較復(fù)雜。一般酸性條件有利于水解,而堿催化下縮合過程更容易實(shí)現(xiàn)[16-17]。因此,酸度對(duì)MTMS改性硅溶膠及其穩(wěn)定性的影響是最主要的因素之一。實(shí)驗(yàn)利用鹽酸調(diào)節(jié)硅溶膠的pH值對(duì)其進(jìn)行改性,發(fā)現(xiàn)pH值越低,MTMS水解速度越快,且加入MTMS后變?yōu)槌吻逋该鞯乃俣染驮娇?。pH值小于3.5時(shí),容易得到半透明的硅溶膠;pH值在3.5~5.5時(shí),都能得到透明的澄清的粘稠硅溶膠;當(dāng)pH值在5.5~7.0時(shí),得到不透明或接近半透明的溶膠,時(shí)間稍長(zhǎng),就很容易形成白色凝膠;pH值大于7.0時(shí),加入MTMS,很快就形成白色凝膠。根據(jù)MTMS水解反應(yīng)的動(dòng)力學(xué)特征公式[18],隨著[H+]濃度的增加,MTMS水解反應(yīng)速率也會(huì)隨之增大。當(dāng)水解反應(yīng)在弱酸條件下進(jìn)行時(shí),[H+]對(duì)反應(yīng)有催化作用,水解生成的硅醇會(huì)與硅溶膠粒子周圍的羥基發(fā)生縮合,這種縮合是逐漸的;在[H+]較大的情況下,馬上會(huì)生成大量的硅醇,由于[H+]對(duì)硅醇的縮聚也有催化作用,生成大量的硅醇不能穩(wěn)定存在,一部分會(huì)很快與硅溶膠粒子周圍的羥基發(fā)生縮合,另一部分直接發(fā)生硅醇與硅醇之間的縮聚,生成低聚物而得不到透明的溶膠。在堿性條件下,水解的速率較低,但由于[OH-]的存在,更容易發(fā)生縮合形成聚合物。因此實(shí)驗(yàn)選定水解改性的pH范圍在3.5~5.5之間。3.3
MTMS與硅溶膠的比例表2是MTMS與硅溶膠不同比例制備的有機(jī)硅溶膠涂層性能,可見MMTMS/MSiO2≥2∶1時(shí)性能較好。實(shí)驗(yàn)按MMTMS/MSiO2的質(zhì)量比例分別為5∶1、4∶1、3∶1、2∶1、1∶1、0.5∶1進(jìn)行改性,能夠獲得透明的有機(jī)硅溶膠,但是MMTMS/MSiO2的比例越小,對(duì)pH值的酸度要求就會(huì)增加,而且得到的有機(jī)硅溶膠穩(wěn)定性差,容易凝膠。MMTMS/MSiO2比例低時(shí),成膜中起主要作用的是二氧化硅無(wú)機(jī)粒子表面的羥基,形成的涂層較脆,體積收縮較大,使涂層內(nèi)部產(chǎn)生大量的微裂紋,致使涂層附著力、耐沖擊性能較差;比例高時(shí),硅醇基團(tuán)較多,成膜時(shí)易于交聯(lián)成網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),提高涂層的附著力。但MTMS的水解會(huì)形成大量的硅醇基而快速交聯(lián),降低了有機(jī)硅溶膠的穩(wěn)定性。從有機(jī)硅溶膠的穩(wěn)定性、成本考慮,應(yīng)當(dāng)減少MTMS的用量。因此實(shí)驗(yàn)以MMTMS/MSiO2的比例為2∶1~4∶1為佳。如不做特殊說明,文中MMTMS/MSiO2的比例為3∶1。3.4
水浴溫度對(duì)硅溶膠改性的影響MTMS和水的電導(dǎo)率均很低,而產(chǎn)物硅醇和醇的電導(dǎo)率較高,因此可以通過電導(dǎo)率測(cè)試了解MTMS,水解平衡與水浴溫度的關(guān)系,當(dāng)電導(dǎo)率不再增大時(shí)表明該條件下水解與縮合達(dá)到了體系的平衡。實(shí)驗(yàn)中發(fā)現(xiàn)將MTMS加入酸性硅溶膠中后,體系的電導(dǎo)率會(huì)變得很小,而在2min左右后迅速增加,十幾秒內(nèi)達(dá)到最大,然后開始逐漸降低。圖1是不同水浴溫度下,體系在5min~80min改性過程中電導(dǎo)率的變化??梢?,當(dāng)改性溫度為30℃、40℃時(shí),電導(dǎo)率開始緩慢降低,15min后平緩;而50~80℃范圍內(nèi),電導(dǎo)率值也下降,但是達(dá)到最低點(diǎn)時(shí),電導(dǎo)率還有逐漸增加的趨勢(shì),而且隨水浴溫度的升高,電導(dǎo)率降低后增加的時(shí)間縮短。這種變化與MTMS是否完全水解有關(guān),溫度低時(shí),盡管電導(dǎo)率很快達(dá)到了平衡,但MTMS水解不徹底,生成的甲醇在體系中阻礙反應(yīng)的正水解;溫度接近或高于甲醇的沸點(diǎn)時(shí)(甲醇的沸點(diǎn)64.5℃),生成的甲醇很容易揮發(fā),加快MTMS水解,電導(dǎo)率值很快達(dá)到最同時(shí),水浴溫度高,體系內(nèi)鏈段熱運(yùn)動(dòng)能力較強(qiáng),羥基間相遇脫水的機(jī)會(huì)較大,縮聚反應(yīng)速率較快,在較短的時(shí)間內(nèi)就達(dá)到較高的反應(yīng)程度[19],也加快了MTMS的水解。實(shí)驗(yàn)中還觀察到水浴溫度高于70℃時(shí),體系容易沸騰,會(huì)出現(xiàn)渾濁現(xiàn)象,甚至導(dǎo)致體系凝膠。因此,水浴溫度以50~70℃為宜,此時(shí)在40min左右便達(dá)到了體系水解-縮合平衡。3.5
改性時(shí)間對(duì)產(chǎn)物結(jié)構(gòu)的影響圖2是不同改性時(shí)間改性硅溶膠涂層的紅外圖譜。隨著水解時(shí)間的延長(zhǎng),峰的位置沒有明顯變化,而強(qiáng)度卻顯著減弱,說明水解時(shí)間對(duì)產(chǎn)物的結(jié)構(gòu)有很大的影響。水解15min時(shí),3500~3200cm-1處的分子間氫鍵O-H伸縮振動(dòng)峰和1000~1250cm-1處的Si-O、Si-O-Si、Si-O-C以及O-Si-O引起的振動(dòng)峰強(qiáng)而寬;3000~2850cm-1為C-H伸縮振動(dòng)吸收峰、1273cm-1和781cm-1為Si-CH3的特征吸收峰、906cm-1
Si-OH的伸縮振動(dòng)特征峰和478cm-1處為O-Si-O面內(nèi)彎曲振動(dòng)峰也特別的尖銳,都說明此時(shí)的水解程度很大,體系中存在大量的Si-CH3、Si-O-Si、Si-O-C、-OH,此時(shí)交聯(lián)反應(yīng)的程度比較低。而在30~120min內(nèi),這些峰都不同程度地減弱。3000~2850cm-1為C-H伸縮振動(dòng)吸收峰的減弱可能與體系中甲醇的揮發(fā)有關(guān);1000~1250cm-1處的Si-O、Si-O-Si、Si-O-C以及O-Si-O引起的振動(dòng)峰吸收變?nèi)踝儗?,說明此時(shí)的硅溶膠中二氧化硅粒子表面的羥基與MTMS水解產(chǎn)物發(fā)生了交聯(lián),屏蔽了硅溶膠內(nèi)部的Si-O-Si鍵[20]。反應(yīng)180min時(shí),除3500~3200cm-1處的分子間氫鍵O-H伸縮振動(dòng)吸收和1629cm-1處為水的羥基彎曲振動(dòng)特征峰外,其余的紅外吸收峰強(qiáng)度都明顯降低,說明此時(shí)產(chǎn)物交聯(lián)程度較高,生成大顆?;蚪宦?lián)成大分子。實(shí)驗(yàn)中觀察到180min時(shí),改性硅溶膠會(huì)迅速由透明膠體轉(zhuǎn)變?yōu)樯罨疑?,然后瞬間變?yōu)榘咨?。同時(shí),由于改性硅溶膠過程不是在回流條件下完成的,隨改性時(shí)間的延長(zhǎng),水分的蒸發(fā)也會(huì)影響體系水解-縮合的繼續(xù)進(jìn)行,因此改性時(shí)間不宜過長(zhǎng)。3.6
MTMS改性硅溶膠的機(jī)理圖3是硅溶膠、MTMS水解液和有機(jī)硅溶膠涂層的紅外圖譜。3500~3200cm-1寬的吸收峰為分子間氫鍵O-H伸縮振動(dòng)峰;3000~2850cm-1為C-H伸縮振動(dòng)吸收峰,MTMS水解后產(chǎn)物包括-CH3;1631cm-1為水的羥基彎曲振動(dòng)特征峰,可能是涂層中殘存的吸附水或結(jié)晶水;1279cm-1和780cm-1為Si-CH3的特征吸收峰,硅溶膠沒有此峰,說明MTMS和有機(jī)硅溶膠涂層中包括-CH3;在906cm-1處為Si-OH的伸縮振動(dòng)特征峰,硅溶膠中沒有此峰,說明MTMS和有機(jī)硅溶膠涂層中存在大量的硅羥基,有一部分羥基未發(fā)生交聯(lián)反應(yīng),而硅溶膠的成膜溫度低,在100℃左右的溫度干燥時(shí)Si-OH已經(jīng)完全發(fā)生了交聯(lián);1000~1250cm-1處的振動(dòng)吸收峰強(qiáng)而寬,這是Si-O的振動(dòng)吸收帶,是由Si-O、Si-O-Si、Si-O-C以及O-Si-O引起的,強(qiáng)度減弱,變寬,說明MTMS與硅溶膠粒子表面的-OH發(fā)生了交聯(lián)反應(yīng),包裹住了硅溶膠內(nèi)部的Si-O-Si鍵[20]。而且硅溶膠在這一吸收帶的峰值由1116cm-1(Si-O-Si非對(duì)稱伸縮振動(dòng))變成為MTMS水解的伸縮振動(dòng)特征雙峰:1192cm-1和1095cm-1,這兩處的吸收峰分別是Si-O-C、Si-O-Si的特征峰[21]。受包覆改性的影響,硅溶膠在802cm-1附近的O-Si-O對(duì)稱伸縮振動(dòng)峰消失,474cm-1
O-Si-O面內(nèi)彎曲振動(dòng)峰吸收明顯減弱,并且發(fā)生偏移。通過以上的分析,表明MTMS改性硅溶膠過程中發(fā)生了水解-縮合反應(yīng),MTMS與硅溶膠粒子表面的-OH發(fā)生了交聯(lián)反應(yīng),包裹住了硅溶膠粒子,生成了含有有機(jī)基團(tuán)的Si-O-Si的無(wú)機(jī)骨架結(jié)構(gòu)[22]。由于硅溶膠中二氧化硅粒子是粒徑在8~20nm的球形粒子,分散均勻,因此當(dāng)存在MTMS的水解產(chǎn)物時(shí),它就會(huì)將二氧化硅顆粒連接起來[13],形成如圖4所示的MTMS有機(jī)硅溶膠模型圖,而有機(jī)硅溶膠的FTIR分析很好地解釋了這一模型。
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