南大光電研究報(bào)告公司概況：先進(jìn)半導(dǎo)體材料平臺(tái)型公司歷史沿革：江蘇南大光電材料股份有限公司，成立于2000年，于2012年在深圳證券交易所創(chuàng)業(yè)板上市，是主要從事先進(jìn)前驅(qū)體材料、電子特氣、光刻膠及配套材料三大半導(dǎo)體材料產(chǎn)品生產(chǎn)、研發(fā)和銷售的高新技術(shù)企業(yè)。在前驅(qū)體領(lǐng)域，公司依托“863”計(jì)劃項(xiàng)目成果，經(jīng)數(shù)年發(fā)展，在技術(shù)水平、產(chǎn)品種類、市場(chǎng)拓展上均實(shí)現(xiàn)了跨越式發(fā)展。2021年南大光電為全球MO源市場(chǎng)占有率前二的廠商，市場(chǎng)占有率接近30%，并占據(jù)國(guó)內(nèi)市場(chǎng)第一的份額。在電子特氣領(lǐng)域，公司于2013年獲得國(guó)家“02專項(xiàng)”高純特種電子氣體研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目，同年成立全椒南大光電材料有限責(zé)任公司，啟動(dòng)砷烷、磷烷等特種氣體的研發(fā)工作，同時(shí)在含氟電子特氣方面，公司于2019年收購(gòu)飛源氣體，該公司是全球含氟電子特氣主要供應(yīng)商，目前三氟化氮產(chǎn)量位居國(guó)內(nèi)第二。在光刻膠領(lǐng)域，公司于2017年獲得國(guó)家“02專項(xiàng)”193nm光刻膠及配套材料的研發(fā)項(xiàng)目立項(xiàng)，2020年公司研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成為國(guó)內(nèi)通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠，標(biāo)志著國(guó)產(chǎn)光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化取得關(guān)鍵性的突破。主營(yíng)業(yè)務(wù)：公司的業(yè)務(wù)以前驅(qū)體、電子特氣、光刻膠三大關(guān)鍵半導(dǎo)體材料產(chǎn)品生產(chǎn)、研發(fā)和銷售為主。公司先進(jìn)前驅(qū)體材料板塊主要由MO源類產(chǎn)品構(gòu)成，同時(shí)布局高純ALD/CVD前驅(qū)體、高K三甲基鋁、硅前驅(qū)體和OLED材料等產(chǎn)品。公司在MO源的合成制備、純化技術(shù)、分析檢測(cè)、封裝容器等方面已全面達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平，主要產(chǎn)品有三甲基鎵、三甲基銦、三乙基鎵、三甲基鋁等，產(chǎn)品的純度大于等于6N級(jí)別。公司電子特氣板塊主要包括氫類電子特氣產(chǎn)品和含氟電子特氣產(chǎn)品。公司氫類電子特氣主要包括磷烷、砷烷等，產(chǎn)品純度已達(dá)到6N級(jí)別。公司子公司飛源氣體是國(guó)內(nèi)主要的含氟電子特氣生產(chǎn)企業(yè)，產(chǎn)品主要包括三氟化氮、六氟化硫及其副產(chǎn)品。在光刻膠及配套材料板塊，公司正在自主研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化的ArF光刻膠（包含干式及浸沒(méi)式）可以達(dá)到90nm-14nm的集成電路工藝節(jié)點(diǎn)，有望實(shí)現(xiàn)高端光刻膠材料的進(jìn)口替代。產(chǎn)業(yè)鏈介紹：MO源是光電產(chǎn)業(yè)的支撐材料之一，其純度、品質(zhì)對(duì)最終的光電器件或高頻器件的質(zhì)量和性能起著決定性作用。MO源行業(yè)的上游主要有鎵、銦等稀有金屬以及其他輔助原料，其中其他輔助原料均屬于常規(guī)工業(yè)用品，國(guó)內(nèi)供應(yīng)比較充足。目前90%以上的MO源都被用來(lái)生產(chǎn)LED外延片。此外，MO源逐漸進(jìn)入新一代太陽(yáng)能電池領(lǐng)域如非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池、砷化鎵太陽(yáng)能電池等，在相變存儲(chǔ)器、半導(dǎo)體激光器、射頻集成電路芯片等其他高科技領(lǐng)域也逐步開(kāi)展應(yīng)用。電子特氣行業(yè)的上游主要是空氣、工業(yè)廢氣以及基礎(chǔ)化學(xué)材料，其純度決定了產(chǎn)品質(zhì)量。電子氣體在電子產(chǎn)品制程工藝中廣泛應(yīng)用于離子注入、刻蝕、氣相沉積、摻雜等工藝，被稱為集成電路、液晶面板、LED及光伏等材料的“糧食”和“源”，半導(dǎo)體行業(yè)的高速發(fā)展是電子特氣的主要推動(dòng)力。光刻膠行業(yè)的上游主要是感光材料、樹(shù)脂、溶劑等，公司所生產(chǎn)的高端光刻膠應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)。股權(quán)結(jié)構(gòu)：截至2021年9月30日，公司前十大股東共持有1.5億股，占總股本35%。第一大股東沈潔直接持股4318.16萬(wàn)股，占總股本10.23%。由于公司股權(quán)較為分散，單一股東持有或控制的公司股份比例均不超過(guò)30%，也沒(méi)有單一股東能夠決定半數(shù)以上董事會(huì)成員的選任，公司單個(gè)或存在同一控制下的董事或高級(jí)管理人員亦無(wú)法單獨(dú)支配公司重大財(cái)務(wù)和經(jīng)營(yíng)決策，且公司前三大股東之間不存在關(guān)聯(lián)關(guān)系，因此公司不存在控股股東和實(shí)際控制人。營(yíng)業(yè)收入與凈利潤(rùn)：公司2021年前三季度實(shí)現(xiàn)營(yíng)收7.09億元，同比增長(zhǎng)65.11%；

歸母凈利潤(rùn)1.24億元，同比增長(zhǎng)38.58%。2020年實(shí)現(xiàn)營(yíng)收5.95億元，同比增長(zhǎng)85.13%；

歸母凈利潤(rùn)8701.63萬(wàn)元，同比增長(zhǎng)58.18%。業(yè)務(wù)占比：公司業(yè)務(wù)主要包括MO源、電子特氣以及其他主營(yíng)業(yè)務(wù)，其中MO源以三甲基銦和三甲基鎵為主。從公司收入占比來(lái)看，從2012年到2016年，公司收入主要來(lái)自于MO源產(chǎn)品。2017年電子特氣業(yè)務(wù)開(kāi)始發(fā)力，高純砷烷、磷烷產(chǎn)品成功進(jìn)入了國(guó)內(nèi)主要LED客戶的大規(guī)模生產(chǎn)中。2019年公司收購(gòu)飛源氣體，電子特氣營(yíng)收首次超過(guò)MO源產(chǎn)品營(yíng)收，2020年電子特氣業(yè)務(wù)收入4.29億元，占比72.18%，成為公司的核心收入來(lái)源。2020年，三甲基鎵、三甲基銦、三甲基鋁、三乙基鎵等合并為MO源產(chǎn)品，共占比20.21%。毛利率情況：公司2012-2020年銷售毛利率整體維持在40%以上。公司2020年銷售毛利率41.09%，其中電子特氣業(yè)務(wù)毛利率43.59%，MO源產(chǎn)品整體毛利率為29.30%。費(fèi)率情況：2018年以來(lái)，公司總費(fèi)用率整體呈下降趨勢(shì)，2018年公司的總費(fèi)用率為40.43%，2020年總費(fèi)用率為35.66%。2020年公司研發(fā)費(fèi)用率10.63%，較去年同期下降1.51個(gè)百分點(diǎn)；2020年管理費(fèi)用率19.13%，較上年同期上升4.84個(gè)百分點(diǎn)，主要是公司因經(jīng)營(yíng)成果計(jì)提績(jī)效獎(jiǎng)金增加、新增管理用固定資產(chǎn)及暫時(shí)未投產(chǎn)固定資產(chǎn)計(jì)提折舊及非同一控制下企業(yè)合并子公司合并期間比上期增加綜合影響所致；2020年銷售費(fèi)用率為5.51%，較上年同期下降1.3個(gè)百分點(diǎn)。公司財(cái)務(wù)費(fèi)用率一直維持在較低水平?？ㄎ话雽?dǎo)體核心材料MO源，技術(shù)領(lǐng)先龍頭地位凸顯LED需求+新興應(yīng)用拉動(dòng)，MO源市場(chǎng)穩(wěn)健增長(zhǎng)MO源是現(xiàn)代化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的支撐原材料。MO源即高純金屬有機(jī)源，是利用先進(jìn)的金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積（MOCVD）工藝生成化合物半導(dǎo)體材料的關(guān)鍵支撐原材料，因而又被稱為MOCVD的“前驅(qū)體”。主要產(chǎn)品包括：三甲基鎵、三甲基銦、三甲基鋁、三乙基鋁、三乙基鎵、二乙基鋅、二甲基鋅、二茂鎂、二乙基碲、二叔丁基碲、三甲基銻、三乙基銻、四氯化碳、四溴化碳、液態(tài)二茂鎂、二茂鐵、硼酸三乙酯、三乙基硼，其中三甲基鎵、三甲基銦和三甲基鋁等四五種用量較大。MO源是制備LED、新一代太陽(yáng)能電池、相變存儲(chǔ)器、半導(dǎo)體激光器、射頻集成電路芯片等的核心原材料，在半導(dǎo)體照明、信息通訊、航天等領(lǐng)域有著極其重要的作用。MO源的質(zhì)量直接決定了最終器件的性能，因此MOCVD工藝對(duì)MO源的質(zhì)量要求很高，其中純度是衡量MO源質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo)。生產(chǎn)MO源的工藝過(guò)程主要包括合成、純化、分析和灌裝四個(gè)環(huán)節(jié)。大多數(shù)MO源化合物對(duì)氧氣、水汽極其敏感，遇空氣會(huì)發(fā)生自燃，遇水可發(fā)生爆炸，且毒性大。因此，MO源實(shí)現(xiàn)從研發(fā)到生產(chǎn)的轉(zhuǎn)化需要極為苛刻的條件支持。南大光電的合成環(huán)節(jié)采用獨(dú)特的合金法，該方法和鹵化物法相比工藝簡(jiǎn)單，原料無(wú)腐蝕性，副產(chǎn)物少，且價(jià)格便宜，有效解決MO源污染嚴(yán)重的問(wèn)題。四大企業(yè)占據(jù)MO源行業(yè)主要市場(chǎng)份額。目前全球范圍內(nèi)MO源的生產(chǎn)廠商較少，只有中國(guó)、美國(guó)、歐洲、日本四個(gè)區(qū)域的少數(shù)幾個(gè)公司擁有產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)的能力?，F(xiàn)階段，全球范圍內(nèi)市場(chǎng)份額占比高的MO源生產(chǎn)企業(yè)主要為中國(guó)南大光電（Nata）、美國(guó)陶氏化學(xué)

（Dow）、德國(guó)默克旗下Sigma-Aldrich、荷蘭阿克蘇諾貝爾（AkzoNobel）等，這四家企業(yè)合計(jì)市場(chǎng)份額占比達(dá)到95%左右。2021年南大光電的市場(chǎng)占有率達(dá)30%左右，國(guó)內(nèi)市占率第一。LED是目前MO源的主要應(yīng)用。在MO源的下游應(yīng)用中，有超過(guò)90%的產(chǎn)品被用于生產(chǎn)LED外延片。LED生產(chǎn)包括外延片生長(zhǎng)、芯片加工和芯片封裝三個(gè)步驟，其中外延片生長(zhǎng)是三個(gè)環(huán)節(jié)中附加值最高、技術(shù)難度最大的環(huán)節(jié)，MOCVD也是外延片生長(zhǎng)的主流工藝，核心材料即為MO源。得益于下游LED行業(yè)的發(fā)展和制造LED所需制造外延片需要的MOCVD設(shè)備市場(chǎng)的增長(zhǎng)，MO源市場(chǎng)規(guī)模保持穩(wěn)健增長(zhǎng)。中國(guó)MOCVD設(shè)備擁有量占全球70%以上，隨著LED產(chǎn)業(yè)鏈逐漸向大陸轉(zhuǎn)移，該比重仍有上升趨勢(shì)。2017年大陸MOCVD保有量1718臺(tái)，同比增長(zhǎng)16.71%，整體保持較快增速。LED照明領(lǐng)域面臨壓力。在國(guó)內(nèi)LED市場(chǎng)，目前LED的主要應(yīng)用領(lǐng)域仍是通用照明領(lǐng)域。2019年通用照明LED應(yīng)用占總規(guī)模的42.40%。近十年，受益于全球LED行業(yè)的高景氣度以及節(jié)能環(huán)保理念的普及，國(guó)內(nèi)LED產(chǎn)值總體保持在15%以上的增速。近三年，由于全球景氣度下降以及國(guó)內(nèi)產(chǎn)能過(guò)剩，增速逐漸回落，2020年受新冠疫情影響，全球經(jīng)濟(jì)發(fā)展和消費(fèi)市場(chǎng)均受到了嚴(yán)重沖擊，疊加照明行業(yè)激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)態(tài)勢(shì)，LED照明企業(yè)普遍面臨巨大的經(jīng)營(yíng)壓力。2020年全國(guó)LED總產(chǎn)值5512億元，同比下降26.97%。從全球LED照明市場(chǎng)來(lái)看，在節(jié)能環(huán)保理念傳播下，LED照明市場(chǎng)總體保持在10%以上增速，2018年全球LED照明產(chǎn)業(yè)規(guī)模達(dá)到629億美元，同比增長(zhǎng)14.2%，但近幾年增速亦明顯放緩。長(zhǎng)期來(lái)看，預(yù)計(jì)LED照明滲透率仍有上升空間，行業(yè)景氣度隨著行業(yè)內(nèi)資源整合和疫情后經(jīng)濟(jì)復(fù)蘇會(huì)有回升。中國(guó)LED顯示屏行業(yè)發(fā)展迅速。中國(guó)LED顯示屏行業(yè)發(fā)展起步較晚，早期產(chǎn)品主要以單、雙色顯示屏為主。隨著LED器件材料的發(fā)展與LED顯示屏控制技術(shù)的突破，LED全彩顯示屏市場(chǎng)發(fā)展迅速，應(yīng)用領(lǐng)域不斷得到延伸，逐步取代單雙色屏、投影等傳統(tǒng)顯示產(chǎn)品成為室內(nèi)外主流大屏幕顯示產(chǎn)品。2019年LED顯示應(yīng)用規(guī)模占總應(yīng)用規(guī)模的17%，市場(chǎng)規(guī)模達(dá)626億元，同比上升20%。2019年LED顯示領(lǐng)域產(chǎn)值1089億元，同比上升14.99%。LED顯示應(yīng)用迎來(lái)新的發(fā)展機(jī)遇。隨著文旅經(jīng)濟(jì)、室內(nèi)高清顯示屏、車用顯示屏等對(duì)顯示產(chǎn)品的進(jìn)一步需求，小間距及MiniLED、MicroLED、IRLED、UVLED還將存在廣闊的市場(chǎng)空間，LED顯示應(yīng)用有新的發(fā)展機(jī)遇。2021年，蘋(píng)果、華為、創(chuàng)維、TCL、三星等大廠紛紛在電視、筆記本電腦等產(chǎn)品中應(yīng)用MiniLED技術(shù)。下游巨頭全面入局，有望加速產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展。根據(jù)Arizton數(shù)據(jù)，2024年全球MiniLED市場(chǎng)規(guī)模有望達(dá)到23.22億美元，6年的復(fù)合增速將達(dá)到147.92%。新型應(yīng)用場(chǎng)景驅(qū)動(dòng)化合物半導(dǎo)體快速成長(zhǎng)，為MO源注入新動(dòng)能。除LED外，MO源逐漸進(jìn)入新一代太陽(yáng)能電池領(lǐng)域如非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池、砷化鎵太陽(yáng)能電池等；在相變存儲(chǔ)器、半導(dǎo)體激光器、射頻集成電路芯片等其他高科技領(lǐng)域也逐步開(kāi)展應(yīng)用。氮化鎵、砷化鎵等化合物半導(dǎo)體（即“新一代半導(dǎo)體”）近年來(lái)開(kāi)始在通信器件、電力電子器件、新型光電器件等領(lǐng)域顯現(xiàn)出重要作用。MO源是制備新一代半導(dǎo)體的重要材料。新一代半導(dǎo)體所需要的MO源純度要求更高，雜質(zhì)更低，這對(duì)MO源超純化和超純分析技術(shù)提出了更高的要求。在攻克技術(shù)條件的前提下，隨著第三代半導(dǎo)體的蓬勃發(fā)展，MO源有望在這一新領(lǐng)域迎來(lái)新的機(jī)會(huì)。PERC工藝的普及提升了MO源在光伏領(lǐng)域的應(yīng)用。在PERC結(jié)構(gòu)中Al2O3鈍化層是提高效率的關(guān)鍵，而Al2O3薄膜的制備采用PECVD或者ALD沉積工藝并使用三甲基鋁

（TMA）為原料，這進(jìn)一步為MO源的應(yīng)用打開(kāi)了空間。在砷化鎵太陽(yáng)能電池和非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池等新一代太陽(yáng)能電池中，MO源也是核心原材料，其質(zhì)量是決定太陽(yáng)能電池質(zhì)量的關(guān)鍵。隨著新一代太陽(yáng)能電池制造的PERC技術(shù)迎來(lái)突飛猛進(jìn)的發(fā)展，MO源在光伏領(lǐng)域的應(yīng)用進(jìn)一步提升。砷化鎵太陽(yáng)能電池和非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池的普及應(yīng)用將給MO源行業(yè)的發(fā)展帶來(lái)新的動(dòng)力。薄膜太陽(yáng)能電池占太陽(yáng)能電池份額較小，但經(jīng)過(guò)40多年的發(fā)展，目前全球薄膜電池的年出貨量也達(dá)到GW量級(jí)，成為光伏市場(chǎng)的重要補(bǔ)充。2019年晶體硅太陽(yáng)能電池依然是太陽(yáng)能電池的主導(dǎo)產(chǎn)品，其產(chǎn)量占全部太陽(yáng)能電池產(chǎn)量的比重為95.37%，薄膜電池產(chǎn)量占全部太陽(yáng)能電池產(chǎn)量的4.63%。隨著技術(shù)的發(fā)展，新興太陽(yáng)能電池近年來(lái)也將有所發(fā)展。全球MO源市場(chǎng)仍將保持快速上升態(tài)。受益于LED、太陽(yáng)能電池、相變存儲(chǔ)器等行業(yè)發(fā)展的拉動(dòng)，全球MOCVD設(shè)備保有量不斷增多，生產(chǎn)能力不斷增強(qiáng)，帶動(dòng)MO源需求量持續(xù)快速增長(zhǎng)。根據(jù)M數(shù)據(jù)，2011-2015年，全球MO源市場(chǎng)需求量年均復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)到40%以上。受消費(fèi)電子、家電市場(chǎng)飽和度不斷提高，以及光伏發(fā)電新增裝機(jī)量增速下滑等因素影響，2015-2020年，全球MO源市場(chǎng)需求增速有所下降，但仍保持上升態(tài)勢(shì)。根據(jù)M的數(shù)據(jù)，2019年全球MO源市場(chǎng)規(guī)模在1.1億美元左右。我們預(yù)計(jì)到2025年，全球MO源市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到約1.8億美元，對(duì)應(yīng)2021-2026年復(fù)合增長(zhǎng)率為8.3%。公司MO源技術(shù)優(yōu)勢(shì)顯著，客戶覆蓋度高中國(guó)MO源行業(yè)發(fā)展勢(shì)頭強(qiáng)勁?，F(xiàn)階段，中國(guó)已經(jīng)具備MO源自主生產(chǎn)能力，南大光電是中國(guó)MO源行業(yè)中的領(lǐng)先企業(yè)，其MO源產(chǎn)品布局較為全面，已經(jīng)進(jìn)入全球半導(dǎo)體市場(chǎng)供應(yīng)鏈，得到歐美日韓等國(guó)家與地區(qū)企業(yè)認(rèn)可。2019年，南大光電

MO源產(chǎn)品銷量達(dá)到29.2噸，同比增長(zhǎng)9.29%。南大光電在MO源制備中形成了系統(tǒng)的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。以MO源的合成技術(shù)為例，鹵化物法是國(guó)際上最為通用的方法，該方法由于副產(chǎn)物過(guò)多，合成效率不高，且其原料具有腐蝕性，生產(chǎn)過(guò)程對(duì)安全要求非常高。南大光電經(jīng)過(guò)多年的研究開(kāi)發(fā)，已掌握了鹵化物法，在產(chǎn)業(yè)化過(guò)程中，針對(duì)鹵化物法所存在的弊端，逐步開(kāi)發(fā)完善了具備更多優(yōu)勢(shì)的合金法生產(chǎn)技術(shù)，最終實(shí)現(xiàn)了獨(dú)特的合金法生產(chǎn)工藝，該方法原料無(wú)腐蝕性且價(jià)格便宜；副產(chǎn)物較少，合成效率相對(duì)較高；原料和副產(chǎn)物安全，降低了生產(chǎn)過(guò)程中的危險(xiǎn)系數(shù)，是一種既安全又清潔高效的生產(chǎn)方法。另外，南大光電在純化、分析、封裝等生產(chǎn)技術(shù)和工藝方面持續(xù)自主創(chuàng)新，并全面達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平，從而形成了系統(tǒng)的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。南大光電擁有經(jīng)驗(yàn)豐富的研發(fā)和管理團(tuán)隊(duì)。公司匯聚了一批國(guó)內(nèi)MO源領(lǐng)域最頂尖的技術(shù)專家和管理專家。公司董事長(zhǎng)孫祥禎教授先后主持國(guó)家863計(jì)劃MO源項(xiàng)目、MO源國(guó)家重點(diǎn)科技攻關(guān)項(xiàng)目等研究工作，是國(guó)家863計(jì)劃新材料MO源研究開(kāi)發(fā)中心創(chuàng)始人，曾獲國(guó)家科技部授予的“八六三計(jì)劃先進(jìn)個(gè)人”稱號(hào)、國(guó)家科委授予的“八六三”計(jì)劃先進(jìn)工作者一等獎(jiǎng)、并作為MO源項(xiàng)目第一完成人獲得國(guó)家教委授予的科學(xué)技術(shù)進(jìn)步二等獎(jiǎng)。公司的核心技術(shù)人員呂寶源先生、陳化冰先生、許從應(yīng)先生、吉敏坤先生等均具有十年以上的MO源研究、產(chǎn)業(yè)化實(shí)踐和企業(yè)管理經(jīng)驗(yàn)。公司總經(jīng)理李建華先生具有豐富的大型制造類企業(yè)經(jīng)營(yíng)管理經(jīng)驗(yàn)以及海外市場(chǎng)拓展經(jīng)驗(yàn)。公司穩(wěn)定高效的核心管理團(tuán)隊(duì)均持有公司股份。公司產(chǎn)品遠(yuǎn)銷亞太、歐美等主流市場(chǎng)，高端客戶群不斷壯大。公司高端客戶主要包括歐洲的Osram，日本的ToyodaGosei，中國(guó)臺(tái)灣的晶元光電、廣鎵光電，韓國(guó)的首爾半導(dǎo)體、LG等。公司產(chǎn)品在中國(guó)大陸市場(chǎng)處于優(yōu)勢(shì)地位，大陸主要外延片廠商都與公司建立了長(zhǎng)期合作關(guān)系。國(guó)產(chǎn)光刻膠先行者，ArF通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證技術(shù)壁壘高企，海外巨頭壟斷光刻膠市場(chǎng)光刻膠行業(yè)具有較高的技術(shù)壁壘。光刻膠由樹(shù)脂、溶劑、光引發(fā)劑、添加劑四部分組成。光刻膠產(chǎn)品種類多、專用性強(qiáng)，需要長(zhǎng)期技術(shù)積累，對(duì)企業(yè)研發(fā)人員素質(zhì)、行業(yè)經(jīng)驗(yàn)、技術(shù)儲(chǔ)備等都具有極高要求，企業(yè)需要具備光化學(xué)、有機(jī)合成、高分子合成、精制提純、微量分析、性能評(píng)價(jià)等技術(shù)，具有較高的技術(shù)壁壘。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)的重要耗材。光刻是將IC設(shè)計(jì)好的圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移至硅片后再進(jìn)行下一步刻蝕的工藝，成本占芯片制造的30%，時(shí)間占50%，是IC制造中耗時(shí)最大、難度最高的工藝。光刻時(shí)會(huì)在硅片上涂一層光刻膠，經(jīng)紫外線曝光后，光刻膠化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，再經(jīng)顯影后將曝光的光刻膠去除，實(shí)現(xiàn)圖形從掩膜版到硅片的轉(zhuǎn)移。光刻膠作為光刻環(huán)節(jié)的重要耗材，其質(zhì)量和性能直接影響IC產(chǎn)線良率，是IC制造的核心材料之一。光刻膠品類繁多。光刻膠的品種很多，使用的工藝條件依光刻膠的品種不同而有很大的不同。按曝光波長(zhǎng)不同可分為紫外（300～450nm）光刻膠、深紫外（180～265nm）光刻膠、電子束光刻膠（0.01～0.001nm）、離子束光刻膠（＜0.001nm）、x射線光刻膠等。隨著曝光波長(zhǎng)變化，光刻膠中的關(guān)鍵組分，如成膜樹(shù)脂、感光劑、添加劑也隨之發(fā)生相應(yīng)的變化，光刻膠的綜合性能也不斷提高。ArF光刻膠目前是光刻膠的重要應(yīng)用品類。隨著摩爾定律的發(fā)展，晶圓上需要容納的二極管越來(lái)越多，在晶圓上刻畫(huà)電路的精度和難度也相應(yīng)提高。為滿足更高集成度更精密的集成電路制造，光刻環(huán)節(jié)必須采用更短波長(zhǎng)的光源，光刻分辨率也相應(yīng)提高——光刻機(jī)的曝光光源從寬譜紫外線發(fā)展到I線（365nm）、KrF線（248nm）、ArF線（193nm）以及目前最前沿的EUV（13.5nm）光源，而不同的光源需要使用不同的光刻膠。ArF（193nm）光源對(duì)應(yīng)曝光的是ArF光刻膠，而集成電路工藝在從90nm節(jié)點(diǎn)拓展到7nm節(jié)點(diǎn)的過(guò)程中，幾乎都采用ArF工藝做為關(guān)鍵層工藝，以滿足其對(duì)于分辨率及套刻精度的要求。為適應(yīng)光刻工藝，ArF光刻膠逐漸由干法ArF光刻膠發(fā)展為濕法ArF光刻膠。根據(jù)光刻條件下使用的折射介質(zhì)的不同，ArF光刻膠可分為干法光刻膠與濕法（浸沒(méi)式）光刻膠：干法工藝的折射介質(zhì)是空氣，應(yīng)用于45nm以上技術(shù)節(jié)點(diǎn)；而濕法工藝的折射介質(zhì)是水，45nm及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)主要采用濕法工藝來(lái)滿足更小的分辨率需求。首先得到推廣的是干法ArF光刻膠。ArF光刻膠屬于化學(xué)放大型光刻膠的一種，其雛形源自IBM公司，由于KrF光刻膠所使用的聚對(duì)羥基苯乙烯體系對(duì)波長(zhǎng)更短的193nm深紫外ArF光有強(qiáng)烈的吸收（主要源自其結(jié)構(gòu)中的苯環(huán)），因此該體系不適用于ArF光刻。為解決這一問(wèn)題，1991年IBM公司設(shè)計(jì)出ArF光刻膠的原型——甲基丙烯酸甲酯（MMA）、甲基丙烯酸丁酯

（TBMA）和甲基丙烯酸（MAA）三元共聚物，通過(guò)調(diào)整各組分的比例可以實(shí)現(xiàn)對(duì)光刻膠性能的微調(diào)。隨著光刻工藝步入45nm及以下的節(jié)點(diǎn)，干法ArF光刻膠難以滿足此時(shí)的需求，濕法ArF光刻膠（也稱“浸沒(méi)式ArF光刻膠”）則順勢(shì)而起。浸沒(méi)式ArF光刻技術(shù)憑借在65nm及以下的工藝節(jié)點(diǎn)開(kāi)始取得巨大的突破而收到更多關(guān)注——2004年JSR首次通過(guò)ArF浸沒(méi)式光刻成功實(shí)現(xiàn)了32nm分辨率，引領(lǐng)了巨大的的技術(shù)變革。2006年JSR又與IBM合作，通過(guò)ArF浸沒(méi)式光刻成功實(shí)現(xiàn)了30nm及更小的線寬。日美企業(yè)在光刻膠領(lǐng)域具有壟斷地位。從全球市場(chǎng)份額來(lái)看，光刻膠市場(chǎng)主要由日本、美國(guó)、韓國(guó)企業(yè)所把控。2021年?yáng)|京應(yīng)化、JSR、住友化學(xué)、富士膠片分別占據(jù)27%、13%、12%、8%的市場(chǎng)份額，陶氏化學(xué)占據(jù)17%的市場(chǎng)份額，韓國(guó)東進(jìn)占據(jù)11%的市場(chǎng)份額。細(xì)分到高端的ArF光刻膠領(lǐng)域，行業(yè)的壟斷格局更為明顯。在ArF光刻膠方面，JSR、信越化學(xué)、東京應(yīng)化、住友化學(xué)、富士膠片、陶氏化學(xué)分別占據(jù)24%、23%、20%、15%、8%、4%的市場(chǎng)份額。幾大供應(yīng)廠商的市占率合計(jì)均超過(guò)90%。高資本開(kāi)支下，光刻膠市場(chǎng)持續(xù)擴(kuò)容隨著全球晶圓制造產(chǎn)能持續(xù)增長(zhǎng)，光刻膠市場(chǎng)不斷擴(kuò)容。集成電路制造為IC光刻膠的下游應(yīng)用，其資本開(kāi)支情況為上游原材料行業(yè)景氣度的先行指標(biāo)。2019年，全球晶圓制造資本支出392.7億美元，同比增長(zhǎng)8.37%。其中制造設(shè)備方面，根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，2020全年半導(dǎo)體制造設(shè)備銷售額712億美元，相比2019年的598億美元增長(zhǎng)了19%。我們預(yù)計(jì)在下游較大的資本開(kāi)支支持下，上游半導(dǎo)體材料仍將保持高景氣度。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)重心正在向中國(guó)轉(zhuǎn)移。從區(qū)域上看，2019年全球半導(dǎo)體銷售額4101億美元，較2018年同比下降12.05%，但中國(guó)半導(dǎo)體銷售額占全球比例逐年上升，從2014年的27.3%提升至2020年的34.40%，體現(xiàn)了中國(guó)高于全球的行業(yè)增速。產(chǎn)業(yè)重心正在向中國(guó)轉(zhuǎn)移。中國(guó)仍然是全球最大的半導(dǎo)體市場(chǎng)。根據(jù)SIA發(fā)布的數(shù)據(jù)，中國(guó)仍然是全球最大的半導(dǎo)體市場(chǎng)，2021年的銷售額為1925億美元，增長(zhǎng)了27.1%。中國(guó)大陸晶圓產(chǎn)能近年將明顯提升。根據(jù)芯思想數(shù)據(jù)，截止2021年，中國(guó)內(nèi)地12英寸、8英寸和6英寸及以下的晶圓制造線共有210條，已經(jīng)投產(chǎn)的12英寸晶圓制造線有29條，合計(jì)裝機(jī)月產(chǎn)能約131萬(wàn)片。截止2021年，中國(guó)大陸在全球晶圓產(chǎn)能中的份額達(dá)到16%，僅次于韓國(guó)和中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)。隨著下游產(chǎn)能的快速增長(zhǎng)，我們預(yù)計(jì)光刻膠市場(chǎng)亦將持續(xù)擴(kuò)容。光刻膠領(lǐng)域全球具有百億市場(chǎng)。光刻膠是集成電路制造必不可少的關(guān)鍵原材料。2021年，全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模19億美元，折合人民幣約120.4億元，同比增長(zhǎng)11%。預(yù)計(jì)2022年達(dá)到21.34億美元。隨著半導(dǎo)體線路圖形越來(lái)越小，光刻工藝對(duì)光刻膠的需求量也越來(lái)越大，再加之全球電子產(chǎn)業(yè)東移趨勢(shì)持續(xù)，中國(guó)IC光刻膠市場(chǎng)將持續(xù)擴(kuò)容，我們預(yù)計(jì)2022年中國(guó)IC光刻膠市場(chǎng)規(guī)模為31.59億元。高端光刻膠依賴進(jìn)口，國(guó)產(chǎn)化提升空間巨大。當(dāng)前，中國(guó)半導(dǎo)體領(lǐng)域的g線、i線光刻膠基本可以滿足自給。兩者主要用于6英寸晶圓的集成電路制造。而更為高端的KrF、ArF光刻膠，中國(guó)則高度依賴進(jìn)口，國(guó)產(chǎn)化率存在極大的提升空間。在EUV光刻膠研發(fā)受限的情況下，ArF光刻膠已成為國(guó)產(chǎn)光刻材料公司所能做的技術(shù)水平最高的光刻膠（主要指商用領(lǐng)域）。公司持續(xù)深耕謀求突破，ArF光刻膠已通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證南大光電獲得國(guó)家"02專項(xiàng)"193nm光刻膠及配套材料的研發(fā)項(xiàng)目立項(xiàng)，研發(fā)ArF光刻膠進(jìn)展順利。公司2017年9月正式立項(xiàng)“193nm光刻膠及配套材料關(guān)鍵技術(shù)研究項(xiàng)目”

的一期研究，并于2018年12月投資65557萬(wàn)元實(shí)施“193nm（ArF）光刻膠材料開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目，以全資子公司寧波南大光電材料有限公司為實(shí)施主體。同時(shí)，公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部，組建了包括高級(jí)光刻膠專業(yè)人才的獨(dú)立研發(fā)團(tuán)隊(duì)，建成1500平方米的研發(fā)中心和百升級(jí)光刻膠中試生產(chǎn)線，開(kāi)發(fā)出了多款樹(shù)酯、光敏劑、單體，創(chuàng)新并不斷優(yōu)化提純工藝，研究出193nm光刻膠的配方，產(chǎn)品研發(fā)進(jìn)展和成果得到業(yè)界專家的認(rèn)可。公司在光刻膠方面研發(fā)經(jīng)費(fèi)持續(xù)投入，研發(fā)團(tuán)隊(duì)不斷擴(kuò)大。公司2020年年報(bào)顯示，截至2020年年底公司擁有研發(fā)人員136人，占公司總?cè)藬?shù)的比例為19%左右，擁有豐富的研發(fā)人員儲(chǔ)備和良好的研發(fā)人員培養(yǎng)機(jī)制。持續(xù)不斷的研發(fā)投入、穩(wěn)定的研發(fā)團(tuán)隊(duì)和創(chuàng)新文化是公司能夠持續(xù)進(jìn)行技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)品研發(fā)的基礎(chǔ)。目前已經(jīng)建成一支具有國(guó)際水平的高素質(zhì)研發(fā)與管理團(tuán)隊(duì)，并不斷加強(qiáng)優(yōu)質(zhì)人才儲(chǔ)備，保障公司的持續(xù)研發(fā)能力。南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。2020年12月17日，寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證，驗(yàn)證使用的50nm閃存技術(shù)平臺(tái)，在特征尺寸上，線制程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求，孔制程工藝可滿足65nm-90nm光刻需求，該工藝平臺(tái)的光刻膠在業(yè)界有代表性。公司產(chǎn)品成為國(guó)內(nèi)通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠，具有里程碑式意義。公司預(yù)計(jì)未來(lái)形成年產(chǎn)25噸193nm（ArF干式5噸和浸沒(méi)式20噸）光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模，產(chǎn)品性能滿足90nm-14nm集成電路制造的要求。并建成先進(jìn)光刻膠分析測(cè)試中心和高分辨率光刻膠研發(fā)中心，為公司新的高端光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化提供技術(shù)保障。積極布局電子特氣，砷烷磷烷+含氟氣體優(yōu)勢(shì)顯著電子特氣百億市場(chǎng)，下游需求持續(xù)增長(zhǎng)電子特氣高技術(shù)含量、高附加值，下游應(yīng)用領(lǐng)域廣泛。電子特氣是隨著電子行業(yè)的興起而在工業(yè)氣體門(mén)類下逐步細(xì)分發(fā)展起來(lái)的新興產(chǎn)業(yè)，屬于高技術(shù)、高附加值產(chǎn)品，其制造要經(jīng)過(guò)氣體合成、氣體純化、氣體混配、氣瓶處理、氣體充裝、氣體分析檢測(cè)等生產(chǎn)工序。電子特氣是集成電路、平板顯示、LED、太陽(yáng)能電池等泛半導(dǎo)體領(lǐng)域生產(chǎn)制造過(guò)程中不可或缺的關(guān)鍵性化工材料，并對(duì)最終產(chǎn)品產(chǎn)生較大影響，被譽(yù)為電子產(chǎn)業(yè)的“糧食”和

“血液”。按照使用場(chǎng)景的不同，電子氣體可以被分為“硅族氣體、摻雜氣體、刻蝕清洗氣體、反應(yīng)氣體、沉積氣體”等。高純電子特氣是電子工業(yè)核心關(guān)鍵材料之一。隨著半導(dǎo)體集成電路技術(shù)的發(fā)展，對(duì)電子氣體的純度和質(zhì)量也提出了更高要求。高純電子特種氣體在制造環(huán)節(jié)使用較多，比如離子注進(jìn)、氣相沉積、洗滌、遮掩膜形成過(guò)程中使用到一些化學(xué)氣體，常見(jiàn)的有SiH4、PH3、ASH3、B2H6、N20、NH3、SF6、NF3、CF4、BCI3、BF3、HCI、Cl2等。根據(jù)中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)數(shù)據(jù)，由于電子特氣在制造過(guò)程中使用的步驟較多，消耗量遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于其他材料，占比為14%，氣體(包含高純和混合氣體)作為半導(dǎo)體材料中的核心原料，是除硅晶圓之外的第二大材料。電子特氣行業(yè)集中度高，國(guó)際氣體巨頭占據(jù)市場(chǎng)。從全球市場(chǎng)上來(lái)看，行業(yè)CR4高達(dá)94%，其中美國(guó)空氣化工、德國(guó)林德-普萊克斯并列第一，市場(chǎng)份額均達(dá)到26%。分析國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體用電子氣體市場(chǎng)情況，市場(chǎng)份額同樣被國(guó)際巨頭壟斷。美國(guó)空氣化工、德國(guó)林德-普萊克斯市場(chǎng)份額均達(dá)到30%，日本昭和電工位居第三，占比達(dá)到15%。光伏產(chǎn)業(yè)勢(shì)頭迅猛，帶動(dòng)電子特氣需求空間增長(zhǎng)。在光伏領(lǐng)域，電池片作為太陽(yáng)能電池的核心組件，電子特氣在其生產(chǎn)過(guò)程中扮演著重要角色。據(jù)中商產(chǎn)業(yè)研究院統(tǒng)計(jì)，2020年中國(guó)光伏產(chǎn)業(yè)太陽(yáng)能電池產(chǎn)量達(dá)15728.6萬(wàn)千瓦，同比增長(zhǎng)22.3%。從區(qū)域上看，中國(guó)光伏產(chǎn)能占全球比例快速提升，2020年中國(guó)光伏產(chǎn)能253834兆瓦，占全球比例從2009年的1.82%快速提升至35.88%。在全球能源革命的驅(qū)動(dòng)下，光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展勢(shì)頭迅猛，有望帶動(dòng)電子特氣的需求空間進(jìn)一步增長(zhǎng)。顯示面板出貨仍有增長(zhǎng)，推動(dòng)電子特氣市場(chǎng)增長(zhǎng)。在顯示面板領(lǐng)域，電子特氣主要應(yīng)用于成膜和干刻工藝。據(jù)賽迪智庫(kù)數(shù)據(jù)，2011-2018年中國(guó)顯示面板產(chǎn)業(yè)增速保持在20%以上，2019、2020年兩年增速有所下降，但仍維持在10%以上，2020年，中國(guó)新型顯示產(chǎn)業(yè)直接營(yíng)收達(dá)到4460億元，全球占比達(dá)到了40.3%，產(chǎn)業(yè)規(guī)模位居全球第一。截至2020年底，中國(guó)大陸地區(qū)已建成6代及以上面板生產(chǎn)線35條，產(chǎn)線總投資達(dá)到1.24萬(wàn)億元，年產(chǎn)能達(dá)到2.22億平方米。我們預(yù)計(jì)未來(lái)幾年面板出貨面積仍有增長(zhǎng)空間。集成電路、LED等電子工業(yè)市場(chǎng)的快速發(fā)展，有望帶動(dòng)電子特氣市場(chǎng)規(guī)模不斷增大。2020年，中國(guó)電子特氣按下游應(yīng)用進(jìn)行分類，集成電路及器件領(lǐng)域占比44.2%；面板領(lǐng)域占比34.7%；太陽(yáng)能及LED等領(lǐng)域占比21.1%。集成電路是目前最大的應(yīng)用場(chǎng)景，未來(lái)中國(guó)集成電路市場(chǎng)有望迎來(lái)高速增長(zhǎng)，有望助力電子特氣市場(chǎng)規(guī)模不斷擴(kuò)大。參考國(guó)內(nèi)及全球下游行業(yè)增速，我們預(yù)測(cè)，至2023年，全球電子特氣市場(chǎng)總規(guī)模將達(dá)934億元，其中集成電路用電子特氣市場(chǎng)規(guī)模401億元；至2023年，中國(guó)電子特氣市場(chǎng)總規(guī)模將達(dá)238億元，其中集成電路用電子特氣市場(chǎng)規(guī)模100億元。砷烷磷烷打破海外壟斷，擴(kuò)大產(chǎn)能滿足市場(chǎng)需求公司自主研制高純砷烷、磷烷等特氣打破國(guó)外壟斷。磷烷、砷烷是高純特種氣體中技術(shù)門(mén)檻和開(kāi)發(fā)難度極高的兩個(gè)品種，是半導(dǎo)體、LED、光伏、航天和國(guó)防事業(yè)的關(guān)鍵原材料，并長(zhǎng)期處于海外技術(shù)封鎖中。砷烷因其易燃、劇毒、易爆等特征，從生產(chǎn)角度來(lái)說(shuō)合成到提純各個(gè)環(huán)節(jié)難度都較大。2013年，南大光電上市之初，許從應(yīng)博士團(tuán)隊(duì)便著手國(guó)家“02專項(xiàng)”高純砷烷、磷烷等特氣的研發(fā)和中試項(xiàng)目，經(jīng)過(guò)多年耕耘，其產(chǎn)品自2016年起開(kāi)始推向市場(chǎng)并率先被LED客戶廣泛接受，有效打破國(guó)外壟斷。公司磷烷、砷烷業(yè)務(wù)從“增長(zhǎng)點(diǎn)”向“支撐點(diǎn)”發(fā)展。公司在2016年完成一期量產(chǎn)，年產(chǎn)35噸高純磷烷、15噸高純砷烷，產(chǎn)品純度均達(dá)到6N標(biāo)準(zhǔn)以上級(jí)。目前公司已占據(jù)國(guó)內(nèi)75%市場(chǎng)份額，并進(jìn)入英特爾、歐司朗、飛利浦等一流公司供應(yīng)商名錄。2019年公司啟動(dòng)產(chǎn)能擴(kuò)大項(xiàng)目，計(jì)劃一期提升17.5噸磷烷產(chǎn)能，在2019年底二期項(xiàng)目再提升17.5噸磷烷以及15噸砷烷。2019年公司電子特氣業(yè)務(wù)實(shí)現(xiàn)營(yíng)收1.64億元，占公司總營(yíng)收50.91%，首次超過(guò)MO源業(yè)務(wù)，公司砷烷、磷烷業(yè)務(wù)逐漸向“支撐點(diǎn)”發(fā)展。南大光電高純磷烷砷烷將迎來(lái)新的機(jī)遇。磷烷及砷烷在GaAs基LED外延生長(zhǎng)過(guò)程中的GaAs、InAlP化學(xué)氣相沉積沉積中被大量使用，自2017年以來(lái)，蘋(píng)果手機(jī)搭載的GaAs基VCSEL激光器將GaAs應(yīng)用場(chǎng)景從傳統(tǒng)的紅黃光LED拓展至3D傳感和人臉識(shí)別領(lǐng)域，將GaAs材料推向加速發(fā)展的快車道，此外，5G大發(fā)展之下的射頻器件也是GaAs材料的重要增量。根據(jù)觀研天下數(shù)據(jù)，2019年全球折合二英寸砷化鎵襯底市場(chǎng)銷量約為2000萬(wàn)片，預(yù)計(jì)到2025年全球折合二英寸砷化鎵襯底市場(chǎng)銷量將超過(guò)3500萬(wàn)片；2019年全球砷化鎵襯底市場(chǎng)規(guī)模約為2億美元，預(yù)計(jì)到2025年全球砷化鎵襯底市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到3.48億美元，2019-2025年復(fù)合增長(zhǎng)率9.67%。隨著GaAs材料的快速發(fā)展，預(yù)計(jì)南大光電高純磷烷砷烷將迎來(lái)新的機(jī)遇。收購(gòu)飛源氣體切入含氟特氣，產(chǎn)能規(guī)模行業(yè)領(lǐng)先收購(gòu)飛源氣體，公司持續(xù)布局電子特氣業(yè)務(wù)。2019年，為進(jìn)一步推進(jìn)電子特種氣體業(yè)務(wù)的布局與發(fā)展，公司采用現(xiàn)金收購(gòu)及增資方式取得山東飛源氣體57.97%的股權(quán)，正式切入氟系電子特種氣體領(lǐng)域。山東飛源氣體主要從事三氟化氮（NF3）、六氟化硫（SF6）、四氟化碳（CF4）及其副產(chǎn)品的生產(chǎn)及銷售，產(chǎn)品主要面向面板行業(yè)和半導(dǎo)體行業(yè)。交易完成后，山東飛源氣體技術(shù)改造和生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目順利推進(jìn)，生產(chǎn)穩(wěn)定，發(fā)展勢(shì)頭良好，產(chǎn)品品質(zhì)得到廣大客戶的認(rèn)可。公司已成功進(jìn)入多家國(guó)際領(lǐng)先企業(yè)供應(yīng)名單，如臺(tái)積電、中芯國(guó)際、京東方、鴻海集團(tuán)等。三氟化氮方面：三氟化氮是一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，具有優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，而且對(duì)表面無(wú)污染。在電子工業(yè)中，NF3作為蝕刻劑和清洗劑被廣泛應(yīng)用于IC（集成電路）行業(yè)、LCD（面板顯示）行業(yè)等，應(yīng)用占比超過(guò)70%；同時(shí)在火箭發(fā)射中作為氧化劑和推進(jìn)劑使用。2018-2021年，全球三氟化